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時(shí)間:2025-01-22 07:51:29 
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例如,一個(gè)共模信號(hào)可能是5V,上面有0.25V的差分信號(hào)。差分對(duì)的"A"線可能是V+0.25V=75V),"B"線是V-0.25V=25V)。因此,差分線上的信號(hào)速度更快。兩條線之間的差值是+0.5V。由于兩條線之間的電壓差較?。ㄟ@里只有0.5V),差分線對(duì)的作用比單端線快。當(dāng)B上的電壓(75V)高于A上的電壓5V)時(shí),A和B之間的差值將是-0.5V。在使用差分對(duì)時(shí),保持相等和相反的振幅和時(shí)間關(guān)系是前提條件。

根據(jù)微孔在PCB層中的位置,可將其分為疊層孔和交錯(cuò)孔。實(shí)施微孔而不是通孔可以減少印刷電路板的層數(shù),也便于BGA的突破。跳過層,意味著它們穿過一個(gè)層,與該層沒有電接觸。Microvias減少了印刷電路板設(shè)計(jì)中的層數(shù),實(shí)現(xiàn)了更高的布線密度。這反過來又為智能手機(jī)和其他移動(dòng)設(shè)備中的大針數(shù)芯片提供了空間。這就消除了對(duì)通孔孔道的需求。因此而得名。被跳過的層將不會(huì)與該通孔形成電連接。微孔的微型尺寸和功能相繼提高了處理能力。此外,還有一種微孔叫做跳孔。如果沒有微孔,你仍然會(huì)使用一個(gè)大的無繩電話,而不是光滑的小智能手機(jī)。微通道改善了電氣特性,也允許在更小的空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)更高的功能的微型化。

避免電鍍空洞問題同樣地,如果使用一個(gè)鈍的和磨損的鉆頭,會(huì)再次產(chǎn)生不平整的表面,使電鍍的空隙難以避免。為了避免電鍍問題,制造商需要采取積極的措施來解決如何進(jìn)行鉆孔和清孔的問題。防止空洞問題的方法將基于PCB制造過程中通常發(fā)生的空洞類型。例如,鉆孔速度過快,會(huì)導(dǎo)致鉆頭在下降過程中擊碎電路板的材料,導(dǎo)致表面粗糙不平,在沉積和電鍍過程中難以均勻涂抹。

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在現(xiàn)實(shí)中,只有一個(gè)隨機(jī)偏移的來源熱噪聲。偏斜的來源來自哪里?構(gòu)成所有物質(zhì)的原子和分子的隨機(jī)運(yùn)動(dòng)確實(shí)對(duì)電子電路中的噪聲有貢獻(xiàn),但它只在高度的低水平測(cè)量中起作用。這里要注意的點(diǎn)是抖動(dòng)和歪斜的區(qū)別,以及隨機(jī)和確定的抖動(dòng)/歪斜的區(qū)別。在大多數(shù)應(yīng)用中,你需要擔(dān)心的偏移源是確定的,并且可以追溯到一個(gè)根本原因。無論你使用哪個(gè)術(shù)語,有時(shí)"抖動(dòng)"和隨機(jī)偏移之間存在關(guān)聯(lián),而"偏移"一詞將用于參考偽隨機(jī)或確定性偏移。

使用受控阻抗布線確保線路具有相同的阻抗。傳輸線的PCB布線可以通過微帶配置或帶狀線配置來完成。配置好設(shè)計(jì)規(guī)則后,請(qǐng)記住傳輸線PCB布線的以下規(guī)則差分阻抗大小的由銅箔厚度導(dǎo)體寬度兩個(gè)導(dǎo)體之間的寬度和材料介電常數(shù)大小確定。

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通孔有時(shí)也被稱為通孔在焊盤上的鍍層。這就是所謂的帳篷式通孔或覆蓋式通孔。有時(shí)通孔被焊接掩膜覆蓋,使通孔不被暴露。通孔或通孔板電鍍(VIPPO)現(xiàn)在我們對(duì)通孔有了更好的了解,讓我們來看看重要的部分,即焊盤中的通孔。

除了上述常見的測(cè)試方法外,其他類型的PCB組裝測(cè)試包括。剝離測(cè)試找出將層壓板從板上剝離所需的強(qiáng)度測(cè)量。顯微切割分析調(diào)查開路短路和其他故障??珊感詼y(cè)試確保表面牢固,增加可靠焊點(diǎn)的機(jī)會(huì)。PCB污染測(cè)試檢測(cè)可能污染電路板的高濃度離子,造成腐蝕和其他問題。

去污/無電銅工藝它是在FR4上鉆的任何電鍍通孔加工的常見工藝。關(guān)于填充孔,它被用來為無電解銅的頂部和底部表面做準(zhǔn)備。其他材料可能會(huì)用到不同的處理,但去污是去除污點(diǎn)的常見工藝,也就是環(huán)氧樹脂。脫脂工藝可以輕微地侵蝕攻擊或去除環(huán)氧樹脂。

AOI和飛針。AOI應(yīng)與其他測(cè)試結(jié)合起來使用可以檢測(cè)到不同類型的,如果電路板在某種程度上與原理圖不一致,就會(huì)在電路板上打上標(biāo)記,由技術(shù)人員進(jìn)行檢查。建議提供的一些組合是千萬不要只依賴自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)。AOI和在線測(cè)試(ICT)。

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在蝕刻過程中,pH值是一個(gè)非常重要的參數(shù),特別是對(duì)于堿性的蝕刻。它在9至1的范圍內(nèi)是可靠的堿性蝕刻。低于8的pH值可能是由低氨過度通風(fēng)加熱等引起的。在這種情況下,可以通過添加無水氨來提高pH值。高于8的pH值也會(huì)導(dǎo)致蝕刻率低。這可能是由于通風(fēng)不足,銅含量較高,或由于蝕刻劑中的水造成的。添加物增加了蝕刻劑的復(fù)雜性,但提供了更高的蝕刻率。它也增加了蝕刻劑的溶解能力。添加劑的加入增加了蝕刻率,但添加劑的濃度取決于所使用的機(jī)器。高濃度的鹽酸添加會(huì)導(dǎo)致酸與蝕刻機(jī)部件發(fā)生反應(yīng)。