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中微的主打產(chǎn)品等離子體刻蝕設(shè)備是除光刻機(jī)以外關(guān)鍵的微觀加工設(shè)備,是制程步驟多、工藝過(guò)程開發(fā)難度高的設(shè)備。由于光刻機(jī)的波長(zhǎng)限制和2維芯片到3維芯片的發(fā)展,等離子體刻蝕設(shè)備越來(lái)越成為關(guān)鍵制約設(shè)備,也成為類關(guān)鍵設(shè)備市場(chǎng)大的一類,占半導(dǎo)體前道設(shè)備總市場(chǎng)約22%。布局的薄膜設(shè)備(主要是化學(xué)薄膜和外延設(shè)備)是除光刻機(jī)和刻蝕機(jī)外第大設(shè)備市場(chǎng)。此外,中微通過(guò)布局了第大設(shè)備市場(chǎng)——光學(xué)檢測(cè)設(shè)備。