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Apico AP系列全自動(dòng)耦合系統(tǒng) 主要應(yīng)用：硅光波導(dǎo)耦合、分光器、AWG、準(zhǔn)直器、特殊光纖等相關(guān)光路耦合。低成本、緊湊地、高精度和可操作、適用于不同類型的光學(xué)組件和模塊的耦合對(duì)準(zhǔn)設(shè)備。

其靈活性高，可用于研發(fā)；質(zhì)量高，能滿足生產(chǎn)需要。并可保證表面的密度和光滑度。離子束技術(shù)通過在單一設(shè)備上實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)利用率大化，可提供多種刻蝕和沉積方式。我們的系統(tǒng)有多種硬件選擇，包括開放式進(jìn)樣和盒式進(jìn)樣。

對(duì)比?遼寧錦州可以依靠的激光打孔設(shè)備規(guī)格齊全(2024更新成功)(今日/新品)， 極繞環(huán)機(jī)是一種專用于以標(biāo)準(zhǔn)極對(duì)稱繞法實(shí)現(xiàn)光纖環(huán)的定長(zhǎng)精密繞制的設(shè)備。Nanoscribe于2021年推出了全新的微納3D打印系統(tǒng) - Quantum X shape。該系統(tǒng)是一款真正意義上的全能機(jī)型。5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。

CW/QCW兩種供電模式，QCW模式下脈寬、頻率可調(diào)。配置OCR視覺識(shí)別系統(tǒng)，自動(dòng)錄入COS器件編號(hào)，百分百可追溯。測(cè)試芯片的功率、波長(zhǎng)、發(fā)散角、偏振度等參數(shù)，生成LIV曲線。操作簡(jiǎn)便，供電模式、加電速率、測(cè)試溫度等均可設(shè)置。牛津儀器Plasmapro 100系列提供200mm操作平臺(tái)，可進(jìn)行單晶片和多晶片批量處理，工藝均勻性優(yōu)異、產(chǎn)能大、精度高。我們的設(shè)備經(jīng)過了嚴(yán)格的考驗(yàn)，可在90%以上時(shí)間保持正常運(yùn)行，并能確保在安裝過程中快速啟動(dòng)。PlasmaPro 100系列可適用于多個(gè)市場(chǎng)領(lǐng)域，包括但不限于，微機(jī)電系統(tǒng)和傳感器、光電子器件、分立器件和納米技術(shù)。

對(duì)比?遼寧錦州可以依靠的激光打孔設(shè)備規(guī)格齊全(2024更新成功)(今日/新品)， 在實(shí)現(xiàn)更緊湊設(shè)備的同時(shí)減少了裝配工差，并大大降低了工藝鏈的復(fù)雜性，避免了原本耗資巨大的手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)流程。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。系統(tǒng)將具有卓越性能的灰度光刻與Nanoscribe靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來。Quantum X提供了的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度。