鈦 靶

一、牌號(hào)

國內(nèi)牌號(hào)：TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC11 。

美標(biāo)牌號(hào)：GR1、GR2、GR7、GR12。

二、靶材的主要性能要求:

（1）純度

純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。

（2）雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

（3）密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

（4）晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

三、加工工藝

鍛造、軋制。

四、表面

車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。

五、規(guī)格

Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規(guī)格可按客戶要求制作。

六、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

國標(biāo)：GB/T 16598，GB/T2965 。

美標(biāo)：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。

七、檢測

破壞性檢測：物理性能測試，硬度測試，化學(xué)成分測試。

無損檢測：超聲檢測，滲透檢測，外觀檢測。