F54包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置MA-Cmount安裝轉(zhuǎn)接器顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線(xiàn)BK7參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000厚度標(biāo)準(zhǔn)聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4",6"and200mm參考晶圓真空泵備用燈型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F54:20nm-40μm380-850nmF54-UV:4nm-30μm190-1100nmF54-NIR:40nm-100μm950-1700nmF54-EXR:20nm-100μm380-1700nmF54-UVX:4nm-100μm190-1700nm*取決于材料與顯微鏡額外的好處：每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù),隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測(cè)繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。穿透率膜厚儀美元報(bào)價(jià)

電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè),而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。測(cè)量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中，我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專(zhuān)有的氮化硅擴(kuò)散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量。防反射涂層膜厚儀生產(chǎn)國(guó)所有的 Filmetrics 型號(hào)都能通過(guò)精確的光譜反射建模來(lái)測(cè)量厚度 (和折射率)。

F3-CS：Filmetrics的F3-CS專(zhuān)門(mén)為了微小視野及微小樣品測(cè)量設(shè)計(jì),任何人從已線(xiàn)操作到研&發(fā)人員都可以此簡(jiǎn)易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測(cè)量如聚對(duì)二甲苯和真空鍍膜層厚度.我們具專(zhuān)利的自動(dòng)校正功能大幅縮短測(cè)量設(shè)置並可自動(dòng)調(diào)節(jié)儀器的靈敏度,使用免手持測(cè)量模式時(shí),只需簡(jiǎn)單地將樣品面朝下放置在平臺(tái)上測(cè)量樣品,此時(shí)該系統(tǒng)已具備可測(cè)量數(shù)百種膜層所必要的一切設(shè)置不管膜層是否在透明或不透明基底上.快速厚度測(cè)量可選配FILMeasure厚度測(cè)量軟件使厚度測(cè)量就像在平臺(tái)上放置你的樣品一樣容易,軟件內(nèi)建所有常見(jiàn)的電介質(zhì)和半導(dǎo)體層（包括C，N和HT型聚對(duì)二甲苯）的光學(xué)常數(shù)(n和k）,厚度結(jié)果會(huì)及時(shí)的以直覺(jué)的測(cè)量結(jié)果顯示對(duì)于進(jìn)階使用者，可以進(jìn)一步以F3-CS測(cè)量折射率,F3-CS可在任何運(yùn)行WindowsXP到Windows864位作業(yè)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)上運(yùn)行,USB電纜則提供電源和通信功能.

F10-AR易于使用而且經(jīng)濟(jì)有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR是測(cè)試眼科減反涂層設(shè)計(jì)的儀器。雖然價(jià)格大達(dá)低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類(lèi)儀器，應(yīng)用幾項(xiàng)技術(shù)，F(xiàn)10-AR使線(xiàn)上操作人員經(jīng)過(guò)幾分鐘的培訓(xùn)，就可以進(jìn)行厚度測(cè)量。在用戶(hù)定義的任何波長(zhǎng)范圍內(nèi)都能進(jìn)行蕞低、蕞高和平均反射測(cè)試。我們有專(zhuān)門(mén)的算法對(duì)硬涂層的局部反射失真進(jìn)行校正。我們獨(dú)有的AutoBaseline能極大地增加基線(xiàn)間隔，提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。利用可選的UPG-F10-AR-HC軟件升級(jí)能測(cè)量0.25-15um的硬涂層厚度。在減反層存在的情況下也能對(duì)硬涂層厚度進(jìn)行測(cè)量。 基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話(huà)，一般不能測(cè)量薄膜的折射率。

平臺(tái)和平臺(tái)附件標(biāo)準(zhǔn)和磚用平臺(tái)。CS-1可升級(jí)接觸式SS-3樣品臺(tái)，可測(cè)波長(zhǎng)范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺(tái)，F(xiàn)20系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，103mm進(jìn)深。適用所有波長(zhǎng)范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺(tái)。可調(diào)節(jié)鏡頭高度，139mm進(jìn)深。適用所有波長(zhǎng)范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺(tái)?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，550mm進(jìn)深。適用所有波長(zhǎng)范圍。SS-56"x6"吋樣品臺(tái)，具有可調(diào)整焦距的反射光學(xué)配件，需搭配具有APC接頭的光纖，全波長(zhǎng)范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺(tái),50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺(tái),110mmx110mmF50-NIR測(cè)厚范圍：100nm-250μm；波長(zhǎng)：950-1700nm。液晶顯示膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格

F30 系列是監(jiān)控薄膜沉積，蕞強(qiáng)有力的工具。穿透率膜厚儀美元報(bào)價(jià)

F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟(jì)有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺(tái)為基礎(chǔ)，根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測(cè)量結(jié)果。F10-HC先進(jìn)的模擬算法是為測(cè)量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如，底涂/硬涂層)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的。全世界共有數(shù)百臺(tái)F10-HC儀器在工作，幾乎所有主要汽車(chē)硬涂層公司都在使用它們。像我們所有的臺(tái)式儀器一樣，F(xiàn)10-HC可以連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口并在幾分鐘內(nèi)完成設(shè)定。包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure讀立軟件(用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)CP-1-1.3探頭BK7參考材料TS-Hardcoat-4um厚度標(biāo)準(zhǔn)備用燈額外的好處：應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃。穿透率膜厚儀美元報(bào)價(jià)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司擁有磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣(mài)除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù) 等多項(xiàng)業(yè)務(wù)，主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x。公司目前擁有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)員工，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺(tái)與成長(zhǎng)空間，為客戶(hù)提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù)，深受員工與客戶(hù)好評(píng)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x，堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿(mǎn)意”的質(zhì)量方針，贏得廣大客戶(hù)的支持和信賴(lài)。公司力求給客戶(hù)提供全數(shù)良好服務(wù)，我們相信誠(chéng)實(shí)正直、開(kāi)拓進(jìn)取地為公司發(fā)展做正確的事情，將為公司和個(gè)人帶來(lái)共同的利益和進(jìn)步。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展，已成為半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x行業(yè)出名企業(yè)。