掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)：EVG的發(fā)明，例如1985年世界上較早的擁有底面對(duì)準(zhǔn)功能的系統(tǒng)，開(kāi)創(chuàng)了頂面和雙面光刻，對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例，并設(shè)定了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器產(chǎn)品來(lái)增強(qiáng)這些核欣光刻技術(shù)，從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻(xiàn)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可容納尺寸蕞大，尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板，旨在為高級(jí)應(yīng)用提供先進(jìn)的自動(dòng)化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力已經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證，并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中，以支持眾多應(yīng)用，包括高級(jí)封裝，化合物半導(dǎo)體，功率器件，LED，傳感器和MEMS制造。岱美是EVG光刻機(jī)在中國(guó)的代理商，提供本地化的貼心服務(wù)。半導(dǎo)體光刻機(jī)報(bào)價(jià)

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件，以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)。此外，所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專(zhuān)有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)我們的官網(wǎng)，或者直接聯(lián)系我們。聯(lián)電光刻機(jī)推薦型號(hào)EVG光刻機(jī)蕞新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是對(duì)LED燈的設(shè)置。

IQAligner®NT曝光設(shè)定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補(bǔ)償：全自動(dòng)軟件控制；非接觸式IQAligner®NT曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)功能/完整的明場(chǎng)掩模移動(dòng)（FCMM）大間隙對(duì)準(zhǔn)跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn)IQAligner®NT系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪(fǎng)問(wèn)，診斷和故障排除如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們。如果需要鍵合機(jī)，請(qǐng)看官網(wǎng)信息。

我們的研發(fā)實(shí)力：EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年，讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性，使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外，研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成，這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價(jià)值，也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。EVG同樣為客戶(hù)提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊：旋涂/OmniSpray®/開(kāi)發(fā)分配選項(xiàng)：各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度；液體底漆/預(yù)濕/洗盤(pán)；去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）；恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)。智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺(tái)）用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能，提高效率設(shè)備和過(guò)程性能跟宗功能：智能處理功能；事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟宗晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米了解客戶(hù)需求和有效的全球支持，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。高精密儀器光刻機(jī)美元價(jià)

EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm。半導(dǎo)體光刻機(jī)報(bào)價(jià)

半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x產(chǎn)業(yè)是國(guó)民經(jīng)濟(jì)的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭，對(duì)促進(jìn)工業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動(dòng)現(xiàn)代**建設(shè)、保證和提高大家生活水平具有重要作用。隨著儀器儀表和計(jì)算機(jī)的完美結(jié)合，為了更好地滿(mǎn)足人們對(duì)精神世界的需求，體驗(yàn)多維世界給人們帶來(lái)的快樂(lè)，儀器儀表的虛擬化開(kāi)始發(fā)展。身臨其境接受客觀(guān)實(shí)物，給美又增添了一絲創(chuàng)意。儀器儀表行業(yè)已經(jīng)連續(xù)多年保持了經(jīng)濟(jì)高位運(yùn)行的態(tài)勢(shì)。即使當(dāng)全球受金融風(fēng)暴的影響，各個(gè)行業(yè)經(jīng)濟(jì)東圃有所放緩，但從全景發(fā)展情況看來(lái)，儀表行業(yè)的增長(zhǎng)速度并沒(méi)有放緩。儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因?yàn)槲覈?guó)的經(jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運(yùn)行;按照過(guò)去的經(jīng)驗(yàn)，如果GDP的增長(zhǎng)在10%以上時(shí)，儀表行業(yè)的增長(zhǎng)率則在26%～30%之間。二是因?yàn)槲覈?guó)宏觀(guān)調(diào)控對(duì)儀表行業(yè)的影響有一個(gè)滯后期，儀表往往在工程的后期才交付使用，因此，因宏觀(guān)調(diào)控政策而減少的收入對(duì)儀表行業(yè)的影響不會(huì)太大。半導(dǎo)體光刻機(jī)報(bào)價(jià)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo)，有組織有體系的公司，堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明，攜手共畫(huà)藍(lán)圖，在上海市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶(hù)粉絲源，也收獲了良好的用戶(hù)口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來(lái)公司能成為*****，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息，斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌，共創(chuàng)佳績(jī)，一直以來(lái)，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針，員工精誠(chéng)努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng)，我們一直在路上！