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EVG6200 NT光刻機(jī)有哪些應(yīng)用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-09-11

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對(duì)薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,對(duì)深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對(duì)薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。EVG620NT特征:晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時(shí)間短帶有間隔墊片的自動(dòng)無(wú)接觸楔形補(bǔ)償序列EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有:Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。EVG6200 NT光刻機(jī)有哪些應(yīng)用

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EVG®150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng):各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波附加模塊選項(xiàng)預(yù)對(duì)準(zhǔn):光學(xué)/機(jī)械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR晶片光刻機(jī)用于生物芯片IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。

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EVG增強(qiáng)對(duì)準(zhǔn):全電動(dòng)頂部和底部分離場(chǎng)顯微鏡支持實(shí)時(shí),大間隙,晶圓平面或紅外對(duì)準(zhǔn),在可編程位置自動(dòng)定位。確保*好圖形對(duì)比度,并對(duì)明場(chǎng)和暗場(chǎng)照明進(jìn)行程序控制。先進(jìn)的模式識(shí)別算法,自動(dòng)原點(diǎn)功能,合成對(duì)準(zhǔn)鍵模式導(dǎo)入和培訓(xùn)可確保高度可重復(fù)的對(duì)準(zhǔn)結(jié)果。曝光光學(xué):提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),旨在實(shí)現(xiàn)任何應(yīng)用的*大靈活性。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)150,200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線濾光片,甚至還有深紫外線。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。對(duì)于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,掩模對(duì)準(zhǔn)器是蕞具成本效益的技術(shù),與其他解決方案相比,每層可節(jié)省30%以上的成本,這對(duì)用戶來(lái)說(shuō)是至關(guān)重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,并由卓悅的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。蕞重要的是,大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內(nèi),我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng),得到了他們的無(wú)數(shù)好評(píng)??梢允褂糜糜趬河」饪痰墓ぞ?,例如紫外光納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。

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HERCULES光刻軌道系統(tǒng)所述HERCULES®是一個(gè)高容量的平臺(tái)整合整個(gè)光刻工藝流在一個(gè)系統(tǒng)中,縮小處理工序和操作者支持。HERCULES基于模塊化平臺(tái),將EVG建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,彎曲度高,矩形,小直徑的晶圓,甚至可以處理設(shè)備托盤。精密的頂側(cè)和底側(cè)對(duì)準(zhǔn)以及亞微米至超厚(蕞大300微米)光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用。出色的對(duì)準(zhǔn)臺(tái)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對(duì)準(zhǔn)和曝光結(jié)果。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是適用于高達(dá)300 mm的不同的厚度,尺寸,形狀的晶圓和基片。HVM光刻機(jī)可以用于研發(fā)嗎

EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。EVG6200 NT光刻機(jī)有哪些應(yīng)用

是一家專業(yè)致力于半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x的研發(fā)和制造企業(yè),所有產(chǎn)品均采用更先進(jìn)的技術(shù)和工藝制造。涵蓋了該國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)在結(jié)構(gòu)、資源、技術(shù)、體系等方面的全部要求。其發(fā)布與實(shí)施將進(jìn)一步促進(jìn)我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研制(生產(chǎn))機(jī)構(gòu)管理體系的規(guī)范化運(yùn)行,確保標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研發(fā)、生產(chǎn)和服務(wù)質(zhì)量。半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x屬于儀器儀表等。其中,包括半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x包括等。我國(guó)在這一領(lǐng)域規(guī)模已居全球前列,但在整體上還是有自主創(chuàng)新能力薄弱、主要技術(shù)與關(guān)鍵零部件對(duì)外依存度高、服務(wù)型制造發(fā)展滯后等問(wèn)題。其次,我國(guó)的新型工業(yè)化進(jìn)程,帶動(dòng)了各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域?qū)ψ詣?dòng)化的需求,從而也帶來(lái)了儀器儀表產(chǎn)業(yè)的繁榮。我國(guó)對(duì)于各大行業(yè)落實(shí)節(jié)能減排指標(biāo)、關(guān)停落后產(chǎn)能等一系列強(qiáng)制性措施都在一定程度上擴(kuò)大了儀器儀表行業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模。智能儀表帶有微型處理系統(tǒng),或可接入微型計(jì)算機(jī)智能化儀器。它通過(guò)電子電路來(lái)轉(zhuǎn)換測(cè)量數(shù)據(jù),并對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行存儲(chǔ)運(yùn)算邏輯判斷,通過(guò)全自動(dòng)化的操作過(guò)程得到準(zhǔn)確無(wú)誤的測(cè)量,因其強(qiáng)大的功能被應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)。目前,智能儀器儀表的更新需求、新增需求和智能化比率在不斷提升。EVG6200 NT光刻機(jī)有哪些應(yīng)用

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