IQAligner®NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式IQAligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光先進的對準功能:自動對準暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)大間隙對準跳動控制對準IQAligner®NT系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,請看官網(wǎng)信息。我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。中國澳門光刻機可以試用嗎
EVG®101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)主要應(yīng)用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持蕞大300mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術(shù),在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這大達地節(jié)省了用戶的成本。山西光刻機價格怎么樣IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達200 mm / 300 mm。
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項預(yù)對準:光學(xué)/機械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波
EVG®150特征2:先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量處理厚或超薄,易碎,彎曲或小直徑的晶圓用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機會EFEM(設(shè)備前端模塊)和可選的FSS(FOUP存儲系統(tǒng))工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù):多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能并行/排隊任務(wù)處理功能智能處理功能發(fā)生和警報分析智能維護管理和根蹤可以使用用于壓印光刻的工具,例如紫外光納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。
掩模對準系統(tǒng):EVG的發(fā)明,例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,并設(shè)定了行業(yè)標準。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產(chǎn)品來增強這些核欣光刻技術(shù),從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻。EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,旨在為高級應(yīng)用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗證,并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中,以支持眾多應(yīng)用,包括高級封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS制造。EVG所有光刻設(shè)備平臺均為300mm。甘肅光刻機有哪些應(yīng)用
整個晶圓表面高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷提高EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。中國澳門光刻機可以試用嗎
隨著現(xiàn)在科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進的發(fā)展,再加上當(dāng)前計算機技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的進步和發(fā)展,組建網(wǎng)絡(luò)而構(gòu)成實用的監(jiān)控系統(tǒng),可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當(dāng)前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化、多功能化、智能化、網(wǎng)絡(luò)化四大發(fā)展趨勢。隨著儀器儀表和計算機的完美結(jié)合,為了更好地滿足人們對精神世界的需求,體驗多維世界給人們帶來的快樂,儀器儀表的虛擬化開始發(fā)展。身臨其境接受客觀實物,給美又增添了一絲創(chuàng)意。儀器儀表行業(yè)已經(jīng)連續(xù)多年保持了經(jīng)濟高位運行的態(tài)勢。即使當(dāng)全球受金融風(fēng)暴的影響,各個行業(yè)經(jīng)濟東圃有所放緩,但從全景發(fā)展情況看來,儀表行業(yè)的增長速度并沒有放緩。我國現(xiàn)有其他有限責(zé)任公司企業(yè)數(shù)千多家,已經(jīng)形成門類品種比較齊全,具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時業(yè)內(nèi)**也指出,雖然我國測試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展,但遠遠不能滿足國民經(jīng)濟各行各業(yè)日益增長的迫切需求。中國澳門光刻機可以試用嗎
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