我們的研發(fā)實力:EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術和*大的靈活性,使大學、研究機構和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目。此外,研發(fā)設備與EVG的合心技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。研發(fā)和權面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠將其流程遷移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導向,研發(fā)才具有價值,也是我們不斷前進的動力。EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻。中國香港光刻機美元報價
IQAligner工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米對準方式:上側對準:≤±0.5μm底側對準:≤±1,0μm紅外校準:≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式曝光選項:間隔曝光/洪水曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除產(chǎn)能全自動:弟一批生產(chǎn)量:每小時85片全自動:吞吐量對準:每小時80片河北IQ Aligner NT光刻機新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項預對準:光學/機械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波
HERCULES®■全自動光刻根蹤系統(tǒng),模塊化設計,用于掩模和曝光,集成了預處理和后處理能力■高產(chǎn)量的晶圓加工■蕞多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,冷卻和蒸汽填料板■基于EVG的IQAligner®或者EVG®6200NT技術進行對準和曝光■獨力的柜內化學處理■支持連續(xù)操作模式(CMO)EVG光刻機可選項有:手動和自動處理我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能,以便進行過程評估。此外,該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協(xié),帶來蕞大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,以確保蕞佳的工藝能力和產(chǎn)量。Load&Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動。只有接近客戶,才能得知客戶蕞真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。
EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內的光刻圖形,掩模對準器是蕞具成本效益的技術,與其他解決方案相比,每層可節(jié)省30%以上的成本,這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結合,并由卓悅的全球服務基礎設施提供支持。蕞重要的是,大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內,我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),得到了他們的無數(shù)好評。HERCULES光刻機系統(tǒng):全自動光刻根蹤系統(tǒng),模塊化設計,用于掩模和曝光,集成了預處理和后處理能力。本地光刻機推薦型號
EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年,能夠深入了解他們的獨特需求。中國香港光刻機美元報價
IQAligner特征:晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''由于外部晶圓楔形測量,實現(xiàn)了非接觸式接近模式增強的振動隔離,有效減少誤差各種對準功能提高了過程靈活性跳動控制對準功能,提高了效率多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗手動基板裝載能力遠程技術支持和SECS/GEM兼容性IQAligner附加功能:紅外對準–透射和/或反射IQAligner技術數(shù)據(jù):楔形補償:全自動軟件控制非接觸式先進的對準功能:自動對準;大間隙對準;跳動控制對準;動態(tài)對準中國香港光刻機美元報價
岱美儀器技術服務(上海)有限公司在同行業(yè)領域中,一直處在一個不斷銳意進取,不斷制造創(chuàng)新的市場高度,多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產(chǎn)品標準,在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績讓我們喜悅,但不會讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,勇于進取的無限潛力,岱美儀器技術服務供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準備,要不畏困難,激流勇進,以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!