硬涂層厚度測量Filmetrics系統(tǒng)在汽車和航空工業(yè)得到廣泛應(yīng)用，用于測量硬涂層和其他保護性薄膜的厚度。F10-HC是為彎曲表面和多層薄膜(例如，底涂/硬涂層)而專門設(shè)計的。汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進行多點測量，因為涂層厚度對于品質(zhì)至關(guān)重要。外側(cè)硬涂層和聚碳酸酯鏡頭內(nèi)側(cè)的防霧層以及反射器上的涂層的厚度都是很重要的。這些用途中的每一項是特殊的挑戰(zhàn)，而Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出軟件、硬件和應(yīng)用知識以便為用戶提供正確的解決方案。測量范例帶HC選項的F10-AR收集測量厚度的反射率信息。這款儀器采用光學(xué)接觸探頭，它的設(shè)計降低了背面反射。接觸探頭安置在亞克力表明。FILMeature軟件自動分析收集的光譜信息，給出涂層厚度。在這個例子中，亞克力板上還有一層與硬涂層折射率非常近似的底漆。一般較短波長 (例如， F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜，而較長波長可以測量更厚、更不平整和更不透明的薄膜。半導(dǎo)體膜厚儀原產(chǎn)地

參考材料備用BK7和二氧化硅參考材料。BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-Al-3mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-BK71?"x1?"BK7反射基準。REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英，用于雙界面基準。REF-Si-22"單晶硅晶圓REF-Si-44"單晶硅晶圓REF-Si-66"單晶硅晶圓REF-Si-88"單晶硅晶圓REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設(shè)計之鋁反射率基準片REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設(shè)計之BK7玻璃反射率基準片REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設(shè)計之硅反射率基準片膜厚測量儀膜厚儀高性價比選擇所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率)。

軟件升級提供專門用途的軟件。UPG-RT-to-Thickness升級的厚度求解軟件，需要UPG-Spec-to-RT。UPG-Thickness-to-n&k升級的折射率求解軟件，需要UPG-RT-to-Thickness。UPG-F10-AR-HC為F10-AR升級的FFT硬涂層厚度測量軟件。包括TS-Hardcoat-4um厚度標準。厚度測量范圍。UPG-RT-to-Color&Regions升級的色彩與光譜區(qū)域分析軟件，需要UPG-Spec-to-RT。其他：手提電腦手提電腦預(yù)裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統(tǒng)的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通，"conflat、雙出入孔SMA，并通過泄漏測試。LensPaper-CenterHole中間開孔鏡頭紙，用于保護面朝下的樣品，5本各100張。

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – 蕞簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0)， 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說，硅：氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范，通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難，因為硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是，氧常常滲入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大測量難度。 但是幸運的是，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!F40-EXR范圍：20nm-120μm；波長：400-1700nm。

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè),而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當量。F20-XT膜厚范圍：0.2μm - 450μm；波長：1440-1690nm。Filmetrics F60膜厚儀美元價

系統(tǒng)測試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ，全自動的200mm和300mm硅片檢查，自動檢驗和聚焦的能力。半導(dǎo)體膜厚儀原產(chǎn)地

平臺和平臺附件標準和磚用平臺。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺，可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺，F(xiàn)20系統(tǒng)的標準配置。可調(diào)節(jié)鏡頭高度，103mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺。可調(diào)節(jié)鏡頭高度，139mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺。可調(diào)節(jié)鏡頭高度，550mm進深。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺，具有可調(diào)整焦距的反射光學(xué)配件，需搭配具有APC接頭的光纖，全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mm半導(dǎo)體膜厚儀原產(chǎn)地

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