HERCULES®NIL特征：全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板HERCULES®NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/200和300毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米自動(dòng)分離：支持的前處理：提供所有預(yù)處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像■用于壓印和脫模的原位力控制河南納米壓印價(jià)格怎么樣EVG ? 720是自動(dòng)SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

IQAlignerUV-NIL特征：用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型曝光源：汞光源對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的

   首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹：EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。 EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。EVG7200納米壓印技術(shù)支持

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

   NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)?！盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是領(lǐng)仙AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá)，支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用，視野更廣，高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView?。這款膏端產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎(jiǎng)（SIDDisplayIndustryAward2019）。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的領(lǐng)仙國(guó)際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過130年的經(jīng)驗(yàn)，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念，先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn)，在發(fā)展過程中不斷完善自己，要求自己，不斷創(chuàng)新，時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中匯聚了大量的人脈以及**，在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià)，這些都源自于自身不努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果，這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力，也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳３謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái)，創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品，我們將以更好的狀態(tài)，更認(rèn)真的態(tài)度，更飽滿的精力去創(chuàng)造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長(zhǎng)！