NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)(移動(dòng)+聚焦+測(cè)量)(掃描范圍50um)?具備Globalalignment&Unitalignment?自動(dòng)聚焦范圍:±0.3mm?XY運(yùn)動(dòng)速度蕞快表面三維微觀形貌測(cè)量的意義在生產(chǎn)中,表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有蕞直接的影響,而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更權(quán)面,更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過兌三維形貌的測(cè)量可以比較權(quán)面的評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣,進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞以及設(shè)計(jì)要求的合理性,這樣就可以反過來通過知道加工,優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面,確保零件使用功能的實(shí)現(xiàn)。表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通??煞譃榻佑|時(shí)和非接觸時(shí)兩種,其中以非接觸式測(cè)量方法為主。共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。浙江輪廓儀應(yīng)用
我們的輪廓儀有什么優(yōu)勢(shì)呢世界先進(jìn)水平的產(chǎn)品技術(shù)合理的產(chǎn)品價(jià)格24小時(shí)到現(xiàn)場(chǎng)的本地化售后服務(wù)無償產(chǎn)品技術(shù)培訓(xùn)和應(yīng)用技術(shù)支持個(gè)性化的應(yīng)用軟件服務(wù)支持合理的保質(zhì)期后產(chǎn)品服務(wù)更佳的產(chǎn)品性價(jià)比和更優(yōu)解決方案非接觸式輪廓儀(光學(xué)輪廓儀)是以白光干涉為原理制成的一款高精度微觀形貌測(cè)量?jī)x器,可測(cè)各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。(本段來自網(wǎng)絡(luò))半導(dǎo)體輪廓儀技術(shù)支持自動(dòng)聚焦范圍 : ± 0.3mm。
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度,使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱)。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備,光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡(jiǎn)便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。
輪廓儀的性能測(cè)量模式:移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)樣品臺(tái):150mm/200mm/300mm樣品臺(tái)(可選配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)CCD相機(jī)像素:標(biāo)配:1280×960視場(chǎng)范圍:560×750um(10×物鏡)具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及CCD相機(jī)光學(xué)系統(tǒng):同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)光源:高效LEDZ方向聚焦80mm手動(dòng)聚焦(可選電動(dòng)聚焦)Z方向掃描范圍精密PZT掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描,拓展達(dá)10mm)縱向分辨率<0.1nmRMS重復(fù)性*0.005nm,1σ臺(tái)階測(cè)量**準(zhǔn)確度≤0.75%;重復(fù)性≤0.1%,1σ橫向分辨率≥0.35um(100倍物鏡)檢測(cè)速度≤35um/sec,與所選的CCD粗糙度儀的功能是測(cè)量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量。
NanoX-系列產(chǎn)品PCB測(cè)量應(yīng)用測(cè)試案例測(cè)量種類?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背面PadNanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)(移動(dòng)+聚焦+測(cè)量)(掃描范圍50um)?具備Globalalignment&Unitalignment?自動(dòng)聚焦范圍:±0.3mm?XY運(yùn)動(dòng)速度蕞快。產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) (移動(dòng) + 聚焦 + 測(cè)量)(掃描范圍 50um)。中科院輪廓儀研發(fā)可以用嗎
輪廓儀可用于藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。浙江輪廓儀應(yīng)用
輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封磚Bump測(cè)量視場(chǎng):72*96(um)物鏡:干涉50X檢測(cè)位置:樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D顯示;線粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析激光隱形切割工藝控制世界為一的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動(dòng)識(shí)別和數(shù)據(jù)自動(dòng)生成,大達(dá)地縮短了激光槽工藝在線檢測(cè)的時(shí)間,為了避免人工操作帶來的一致性,可靠性問題歡迎咨詢。浙江輪廓儀應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是以提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x為主的其他有限責(zé)任公司,公司位于金高路2216弄35號(hào)6幢306-308室,成立于2002-02-07,迄今已經(jīng)成長(zhǎng)為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。公司主要提供磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 等領(lǐng)域內(nèi)的業(yè)務(wù),產(chǎn)品滿意,服務(wù)可高,能夠滿足多方位人群或公司的需要。岱美中國(guó)將以精良的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能和完善的售后服務(wù),滿足國(guó)內(nèi)外廣大客戶的需求。