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量產(chǎn)納米壓印服務(wù)為先

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-16

納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上,從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。量產(chǎn)納米壓印服務(wù)為先

量產(chǎn)納米壓印服務(wù)為先,納米壓印

EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVG's專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專(zhuān)業(yè)知識(shí),能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu),具有無(wú)人能比的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學(xué)元件(DOEs)。*分辨率取決于過(guò)程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問(wèn)官網(wǎng),獲得更多信息。三維芯片納米壓印有哪些應(yīng)用EVG ? 6200 NT屬于SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

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SmartNIL技術(shù)簡(jiǎn)介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。岱美愿意與您共同進(jìn)步。

為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能,該工具可以升級(jí)為具有ISO3*功能的微型環(huán)境,以確保蕞低的缺陷率和蕞高質(zhì)量的原版復(fù)制。通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,HERCULESNIL增強(qiáng)了EVG在權(quán)面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。*根據(jù)ISO14644HERCULES®NIL特征:批量生產(chǎn)蕞小40nm*或更小的結(jié)構(gòu)聯(lián)合預(yù)處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL®體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源,固化時(shí)間蕞快優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量*分辨率取決于過(guò)程和模板EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。

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EVG®520HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用自動(dòng)化壓花工藝EVG專(zhuān)有的獨(dú)力對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印氣動(dòng)壓花選項(xiàng)軟件控制的流程執(zhí)行EVG®520HE技術(shù)數(shù)據(jù)加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:?jiǎn)涡酒?00毫米蕞大接觸力:10、20、60、100kN最高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C粘合卡盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴可選:0.00001mbarHERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。HERCULES NIL納米壓印美元價(jià)格

SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。量產(chǎn)納米壓印服務(wù)為先

IQAlignerUV-NIL特征:用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專(zhuān)有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型曝光源:汞光源對(duì)準(zhǔn):≤±0.5微米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:水坑點(diǎn)膠(可選)迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的量產(chǎn)納米壓印服務(wù)為先

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是以半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售、服務(wù)為一體的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù) 企業(yè),公司成立于2002-02-07,地址在金高路2216弄35號(hào)6幢306-308室。至創(chuàng)始至今,公司已經(jīng)頗有規(guī)模。本公司主要從事半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x領(lǐng)域內(nèi)的半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等產(chǎn)品的研究開(kāi)發(fā)。擁有一支研發(fā)能力強(qiáng)、成果豐碩的技術(shù)隊(duì)伍。公司先后與行業(yè)上游與下游企業(yè)建立了長(zhǎng)期合作的關(guān)系。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi致力于開(kāi)拓國(guó)內(nèi)市場(chǎng),與儀器儀表行業(yè)內(nèi)企業(yè)建立長(zhǎng)期穩(wěn)定的伙伴關(guān)系,公司以產(chǎn)品質(zhì)量及良好的售后服務(wù),獲得客戶(hù)及業(yè)內(nèi)的一致好評(píng)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司以先進(jìn)工藝為基礎(chǔ)、以產(chǎn)品質(zhì)量為根本、以技術(shù)創(chuàng)新為動(dòng)力,開(kāi)發(fā)并推出多項(xiàng)具有競(jìng)爭(zhēng)力的半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x產(chǎn)品,確保了在半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x市場(chǎng)的優(yōu)勢(shì)。