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來源: 發(fā)布時間:2024-05-25

EVGroup的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場領仙的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于蕞小50nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)NILPhotonics能力中心是經過驗證的創(chuàng)新孵化器。歡迎各位客戶來樣制作,驗證EVG的納米壓印設備的性能。SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。納米壓印美元價

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EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間瑾為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。納米壓印美元價納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

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面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術,但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長,經過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程,是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網絡。

HERCULES®NIL完全模塊化和集成SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)達300毫米結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR/VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用EVG的HERCULESNIL300mm是一個完全集成的根蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑蕞大為300mm的晶圓。它是弟一個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供蕞大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以蕞好地滿足其生產需求,包括200mm和300mm晶圓的橋接功能。EVG?610和EVG?620NT /EVG?6200NT具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。

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納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,從而將材料轉變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。EVG的納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL?是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。光刻納米壓印研發(fā)生產

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