該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求，公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整，使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境，在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線(xiàn)LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商，總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年，公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶(hù)包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)（NIL）與計(jì)量設(shè)備，，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年，可為全球的眾多客戶(hù)與合作伙伴提供各類(lèi)服務(wù)與支持。HERCULESNIL300mm提供市場(chǎng)上蕞先近納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。四川納米壓印自動(dòng)化測(cè)量

EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專(zhuān)業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu)，具有無(wú)人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（DOEs）。*分辨率取決于過(guò)程和模板如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪(fǎng)問(wèn)官網(wǎng)，獲得更多信息。四川納米壓印自動(dòng)化測(cè)量EVG?610和EVG?620NT / EVG?6200NT是具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專(zhuān)有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。

EVG®510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)。EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù)，對(duì)于尺寸低至50nm的特征，其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對(duì)準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對(duì)準(zhǔn)。這個(gè)系列包含的型號(hào)有：EVG®510HE，EVG®520HE。EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于蕞小50nm的特征尺寸。

具體說(shuō)來(lái)就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化的生產(chǎn)。四川納米壓印自動(dòng)化測(cè)量

EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。四川納米壓印自動(dòng)化測(cè)量

EVG®610紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到蕞大達(dá)150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶(hù)需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。四川納米壓印自動(dòng)化測(cè)量