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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-11

關(guān)于WaveOpticsWaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球lingxian設(shè)計(jì)商和制造商,衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。諸如智能眼鏡之類(lèi)的AR可穿戴設(shè)備使用戶(hù)能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個(gè)關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類(lèi)的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶(hù)眼睛中的一種方式。WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來(lái)自光源的光波并將其投射到用戶(hù)的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框,雙目觀察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請(qǐng)參見(jiàn)下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰,無(wú)失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),企業(yè)和消費(fèi)者市場(chǎng)的沉浸式AR體驗(yàn)。該公司的目標(biāo)是,憑借其獨(dú)特的技術(shù)和專(zhuān)業(yè)知識(shí),其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件,以實(shí)現(xiàn)wuyulunbi的制造可擴(kuò)展性和視覺(jué)性能,并為眾多應(yīng)用提供多功能性。EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線(xiàn)曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。云南納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

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SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過(guò)程和模板。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。吉林納米壓印推薦產(chǎn)品EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),擁有多年技術(shù),掌握了NIL,并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化生產(chǎn)。

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HERCULESNIL300mm提供了市場(chǎng)上蕞先近的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR/VR)頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,3D傳感器,生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。HERCULES®NIL特征:全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊(壓印和預(yù)處理)200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D適用于高地形(粗糙)表面*分辨率取決于過(guò)程和模板。

NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm,對(duì)于實(shí)現(xiàn)我們客戶(hù)滿(mǎn)足當(dāng)今和未來(lái)領(lǐng)仙AR/MR設(shè)備不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。通過(guò)攜手合作,EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性?!痹诖酥埃褂霉饪?納米壓印技術(shù)對(duì)具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費(fèi)和工業(yè)市場(chǎng)邁出的重要一步。不過(guò),在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進(jìn)的自動(dòng)化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開(kāi)發(fā)和實(shí)驗(yàn),旨在滿(mǎn)足納米圖案成形的需求,經(jīng)過(guò)了現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,能夠輕松從晶圓級(jí)樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿(mǎn)足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求,其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。

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EVG®720特征:體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式可選的頂部對(duì)準(zhǔn)可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)ZUI佳過(guò)程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)75至150毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線(xiàn))>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn):可選的頂部對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)、高效的方法。吉林納米壓印推薦產(chǎn)品

在納米生物傳感器中,納米壓印可以用于制備納米級(jí)的生物傳感器,用于檢測(cè)生物分子的存在和濃度。云南納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

IQAligner®:用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用■三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線(xiàn)粘合功能紫外線(xiàn)壓印_紫外線(xiàn)固化印章防紫外線(xiàn)基材附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記用紫外線(xiàn)可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過(guò)UV光交聯(lián)。μ-接觸印刷軟印章基板上的材料領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章云南納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格