輪廓儀，能描繪工件表面波度與粗糙度，并給出其數(shù)值的儀器，采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測試與檢驗(yàn)的儀器，作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。（來自網(wǎng)絡(luò)）先進(jìn)的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn)所有的關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等PI，納米移動(dòng)平臺及控制Nikon，干涉物鏡NI，信號控制板和Labview64控制軟件TMC隔震平臺世界先進(jìn)水平的計(jì)算機(jī)軟硬件技術(shù)平臺VS2012/64位，.NET/C#/WPFIntelXeon計(jì)算機(jī)在結(jié)構(gòu)上，輪廓儀基本上都是臺式的，而粗糙度儀以手持式的居多，當(dāng)然也有臺式的。掩模對準(zhǔn)輪廓儀出廠價(jià)

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人：邁爾爾遜1852-1931美國物理學(xué)家曾從事光速的精密測量工作邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準(zhǔn)。1881年，他發(fā)明了一種用以測量微小長度，折射率和光波波長的干涉儀，邁克爾遜干涉儀。他和美國物理學(xué)家莫雷合作，進(jìn)行了注明的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn)，否定了以太de存在，為愛因斯坦建立狹義相對論奠定了基礎(chǔ)。由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究，邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。PSI輪廓儀應(yīng)用通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測，得出物件的誤差和超差參數(shù)，大達(dá)提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。

輪廓儀對精密加工的意義現(xiàn)代化高新技術(shù)的飛速發(fā)展離不開硬件設(shè)施和軟件系統(tǒng)的配套支持，在精密加工領(lǐng)域同樣如此，雖然我們在生活中不曾注意到超精密加工產(chǎn)品的“身影”，但是它卻與我們的生活息息相關(guān)。例如在光學(xué)玻璃、集成電路、汽車零部件、機(jī)器人和新器件、航空航天材料、國fang jun工設(shè)備等領(lǐng)域，都需要對加工的成品進(jìn)行檢測，從物體表面光滑到粗糙的參數(shù)，其中包含了從納米到微米級別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數(shù)，作為評定該物件是否合格的標(biāo)準(zhǔn)。因此光學(xué)輪廓儀應(yīng)運(yùn)而生，以下是表面三維輪廓儀對精密加工的作用：

關(guān)于三坐標(biāo)測量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測量機(jī)是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓，要視三坐標(biāo)的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標(biāo)測量機(jī)精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內(nèi)，還有就是三坐標(biāo)可以測量大尺寸零件的輪廓，因?yàn)樗旋堥T式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo)，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以進(jìn)行測量粗糙度。我們的表面三位微觀形貌的此類方法非常豐富，通常分為接觸時(shí)和非接觸時(shí)兩種，其中以非接觸式測量方法為主。

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求？答：輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm（可擴(kuò)展），Z向測量范圍蕞大可達(dá)10mm，但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測量大尺寸的樣品時(shí)，全檢的方式需要進(jìn)行拼接測量，檢測效率會(huì)比較低，建議尋找樣品表面的特征位置或抽取若干區(qū)域進(jìn)行抽點(diǎn)檢測，以單點(diǎn)或多點(diǎn)反映整個(gè)面的粗糙度參數(shù)；4.測量的蕞小尺寸是否可以達(dá)到12mm，或者能夠測到更小的尺寸？如果需要了解更多，請?jiān)L問官網(wǎng)。我們的表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通常可分為接觸時(shí)和非接觸時(shí)兩種，以非接觸式測量方法為主。北京輪廓儀原理

NanoX-8000 的XY 平臺蕞大移動(dòng)速度：200mm/s 。掩模對準(zhǔn)輪廓儀出廠價(jià)

比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。掩模對準(zhǔn)輪廓儀出廠價(jià)