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銦錫氧化物膜厚儀國內(nèi)代理

來源: 發(fā)布時間:2021-10-28

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化。

Filmetrics 設備提供的復雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎的電子設備中。這些設備的效率取決于薄膜的光學和結(jié)構特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學對比,其薄膜厚度和光學特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學模型被用來測量多晶硅薄膜光學特性。


F50-XT測厚范圍:0.2μm-450μm;波長:1440-1690nm。銦錫氧化物膜厚儀國內(nèi)代理

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銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發(fā)光二極管變異體,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流,并作每個發(fā)光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關重要。 對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發(fā)光二極管而言,則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。

在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數(shù) (反射率和 k 值)。

不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics 的氧化銦錫解決方案Filmetrics 已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟有效的方法,利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。 將新型的氧化銦錫模式和 F20-EXR, 很寬的 400-1700nm 波長相結(jié)合,從而實現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。 氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關鍵就解決了。


聚對二甲苯膜厚儀國內(nèi)代理基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話,一般不能測量薄膜的折射率。

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F10-ARc:

走在前端以較低的價格現(xiàn)在可以很容易地測量曲面樣品,包括眼鏡和其他光學鏡片的防反射涂層,瑾需其他設備一小部分的的價格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測量.

您也可選擇升級薄膜厚度測量軟件,操作上并不需要嚴格的訓練,您甚至可以直覺的藉由設定任何波長范圍之蕞大,蕞小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標準.容易設定.

易於維護.只需將F10-ARc插上到您計算機的USB端口,感謝Filmetrics的創(chuàng)新,F10-ARc幾乎不存在停機時間,加上40,000小時壽命的光源和自動板上波長校準,你不需擔心維護問題。

F30包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure **軟件 (用于遠程數(shù)據(jù)分析)

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數(shù)百種應用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃

型號厚度范圍*波長范圍

F3-s 980:10μm - 1mm  960-1000nm

F3-s1310:15μm - 2mm 1280-1340nm 

F3-s1550:25μm - 3mm 1520-1580nm

*取決于薄膜種類 F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。

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硬涂層厚度測量Filmetrics 系統(tǒng)在汽車和航空工業(yè)得到廣泛應用,用于測量硬涂層和其他保護性薄膜的厚度。F10-HC 是為彎曲表面和多層薄膜 (例如, 底涂/硬涂層) 而專門設計的。

汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進行多點測量,因為涂層厚度對于品質(zhì)至關重要。 外側(cè)硬涂層和聚碳酸酯鏡頭內(nèi)側(cè)的防霧層以及反射器上的涂層的厚度都是很重要的。 這些用途中的每一項是特殊的挑戰(zhàn),而 Filmetrics 已經(jīng)開發(fā)出軟件、硬件和應用知識以便為用戶提供正確的解決方案。

測量范例帶HC選項的F10-AR收集測量厚度的反射率信息。這款儀器采用光學接觸探頭,它的設計降低了背面反射。接觸探頭安置在亞克力表明。FILMeature軟件自動分析收集的光譜信息,給出涂層厚度。在這個例子中,亞克力板上還有一層與硬涂層折射率非常近似的底漆。 成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動測量系統(tǒng)成功地解決這些問題。薄膜測試儀膜厚儀優(yōu)惠價格

F20-XT膜厚范圍:0.2μm - 450μm;波長:1440-1690nm。銦錫氧化物膜厚儀國內(nèi)代理

測量復雜的有機材料典型的有機發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機分子(小分子和/或聚合物)。雖然有機分子高度反常色散,測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史,能夠處理隨著有機分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,要求測量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準,這對托偏儀測量是個嚴重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復雜光學,或者打磨PET背面。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,極大地節(jié)約了人員培訓和測量時間。操作箱中測量有機發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮氣操作箱中測量。 而我們體積小,模塊化,光纖設計的儀器提供非密封、實時“操作箱”測量。銦錫氧化物膜厚儀國內(nèi)代理

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