50. 離子鍍TiN技術(shù)是近年來發(fā)展很快的PVD表面強化處理技術(shù)的一種,離子鍍TiN是把金屬蒸發(fā)源作為陰極與作為陽極的真空室產(chǎn)生弧光放電,使陰極金屬靶材鈦蒸發(fā)并離子化,再與室內(nèi)的離子化氮結(jié)合成TiN,沉積在加有負偏壓的工作表面.離子鍍沉積溫度較低,因此離子鍍成為PVD中發(fā)展明顯快,明顯有前途的技術(shù)之一.TiN涂層首先成功應(yīng)用在刀具上，可以大幅提高刀具的使用壽命，如增加其耐磨性、提高加工精度，提高其耐高溫性能。其次對于切不同材質(zhì)的產(chǎn)品表現(xiàn)出不同，更加優(yōu)良的性能。氮化鈦作為涂層價格既低廉又耐磨耐腐蝕，它的好多性能都優(yōu)于真空涂層氮化鈦的應(yīng)用前景非常廣闊。威海醫(yī)療器械氮化鈦加工中心
50. 現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展要求切削刀具在越來越高的速度下運行，高速切削產(chǎn)生的摩擦熱使切削刀具刃部處于高溫狀態(tài)，因此對于切削刀具的紅硬性及其他綜合性能提出更高的要求方能實現(xiàn)刀具使用的高壽命。除了使用性能更好的整體材料來制作切削刀具外，作為表面熱處理技術(shù)的一個重要分支的PVD涂層技術(shù)已經(jīng)是現(xiàn)代刀具不可缺少的應(yīng)用技術(shù)，由于能成倍得提高刀具壽命而被譽為高速鋼刀具的一次進步。其實質(zhì)是在切削刀具的表面沉積一層具有致密結(jié)構(gòu)、高硬度、熱穩(wěn)定性、耐磨性和抗氧化性良好的硬質(zhì)薄膜。寧波氮化鈦19. 氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu)，屬面心立方點陣，晶格常數(shù)a=0.4241nm。
在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號傳輸，減小功耗，有必要對后段工藝進行改進，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機物化學氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì)，重點是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長，制備循環(huán)次數(shù)的選擇對薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低，同時晶體生長，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時間和深度，較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理，發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(本實驗條件下為4nm)，增加循環(huán)次數(shù)雖然進一步降低了雜質(zhì)濃度，但會引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測發(fā)現(xiàn)由于等離子體運動的各向異性，真實結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠低于頂部和底部，這導致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。
本文研究了不同程度合金化高速鋼非涂層和物物理相沉積TiN涂層試樣的抗干滑動磨損性能、磨損機理以及不同高速鋼車刀片切削40Cr、GCr15和1Crl8Ni9Ti不銹鋼時涂層和非涂層刀具的切削性能。試驗表明,TiN涂層高速鋼耐磨性較非涂層鋼提高近一個數(shù)量級。低合金高速鋼D950和Vasco Dyne的耐磨性不亞于通用高速鋼M2。涂層試樣磨損機理主要為粘附-接觸疲勞剝落磨損。涂層刀具切削性能較非涂層刀具大為提高。涂層低合金高速鋼刀具性能不亞于涂層通用高速鋼M2。試驗結(jié)果表明,TiN涂層的應(yīng)用為高速鋼特別是低合金高速鋼的開發(fā)應(yīng)用提供了廣闊的前景,涂層刀具在中硬及難加工材料的切削加工方面有著應(yīng)用的潛力。TiN粉末一般呈黃褐色超細TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。
采用物物理相沉積法(PVD)在45鋼基體表面沉積了TiN和TiAlN涂層.用3種載荷在摩擦磨損試驗機上分別對45鋼、TiN和TiAlN涂層進行了摩擦試驗,用5種載荷分別對3種試樣進行了磨損試驗,用表面輪廓檢測儀檢測了3種試樣的體積磨損,用劃痕儀測量了涂層的臨界載荷.研究結(jié)果表明:隨著載荷的增大,TiAlN和TiN涂層的摩擦系數(shù)有較大的下降趨勢,TiAlN、TiN有降低摩擦系數(shù)的作用,其中TiN的效果更好.45鋼、TiN與TiAlN的磨損量都會隨載荷的增大而增大.TiN、TiAlN涂層比45鋼有較明顯的耐磨損的能力,TiAlN涂層比TiN涂層的抗磨損能力更強.45鋼的比磨損率趨近于線性變化,TiAlN、TiN涂層的比磨損率趨近于非線性變化.TiN涂層的臨界載荷高于TiAlN涂層的臨界載荷.TiN熔點比大多數(shù)過渡金屬氮化物的熔點高，而密度卻比大多數(shù)金屬氮化物低。宿遷防銹氮化鈦檢測
在上世紀70年代，氮化鈦涂層成功應(yīng)用于刀具等切割加工工具上，促進了刀具加工行業(yè)的發(fā)展。威海醫(yī)療器械氮化鈦加工中心
50.本實驗應(yīng)用離子束輔助沉積技術(shù)在磁性附著體銜鐵鐵鉻鉬合金表面制備氮化鈦納米膜，希望通過氮化鈦納米膜優(yōu)異的理化性能，增強磁性附著體的耐蝕性和耐磨性，從而改進磁性附著體的性能，并且對鐵鉻鉬合金材料本體特性沒有影響。實驗結(jié)果表明：第四軍醫(yī)大學碩土學垃論文1．離子束輔助沉積技術(shù)可以在鐵鉻銅軟磁合金表面獲得非常致密與基體結(jié)合力極強的氮化鈦納米膜，膜與基體界面的結(jié)合力在65N—75N之間，完全能夠滿足實驗及臨床長期應(yīng)用。2．鐵鉻鑰合金表面鍍氮化鈦納米膜處理前后磁性附著體磁力數(shù)值無明顯改變，方差分析統(tǒng)計學處理，p勸．05，無統(tǒng)計學差別。即鍍膜后磁固位力無改變。對磁性附著體的銜鐵軟磁合金進行鍍膜處理，來研究改進磁性附著體性能是可行的c3．由自腐蝕電位所反映的腐蝕傾向；極化曲線反映的耐腐蝕性能；極化電阻、腐蝕電流密度反映的腐蝕速度等電化學指標均表明經(jīng)IBAD制備氮化鈦納米膜的鐵鉻鋁合金較未做表面鍍膜處理的合金耐腐蝕性高。4．制備氮化鈦納米膜組顯微硬度值明顯高于未鍍膜組有明顯性差異，氮化鈦納米膜能夠明顯提高鐵鉻用合金的顯微硬度，增強其耐磨性能。威海醫(yī)療器械氮化鈦加工中心
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