氮化鈦具有耐腐蝕性強(qiáng)、抗氧化性好、化學(xué)穩(wěn)定性高以及電導(dǎo)性好等優(yōu)點(diǎn)。本文以陽(yáng)極氧化法制得的納米TiO2薄膜、多孔結(jié)構(gòu)和納米管材料為前驅(qū)體,通過(guò)氨氣高溫還原氮化法制得了納米氮化鈦薄膜、多孔結(jié)構(gòu)和納米管材料。XRD和EDS分析結(jié)果表明,三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦的化學(xué)組分均只含Ti、N兩種元素,且前驅(qū)體TiO2已經(jīng)被完全轉(zhuǎn)化為氮化鈦,主要以TiN相和Ti2N相存在。SEM結(jié)果表明,高溫氮化得到的三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦仍保持了前驅(qū)體的微觀結(jié)構(gòu),氮化鈦多孔結(jié)構(gòu)和納米管均具有有序陣列特征,納米管管徑和孔道直徑均小于100nm,TiN薄膜表面具有很多大小不均的突起顆粒。四探針?lè)y(cè)試得到三種納米氮化鈦的電阻率約為5.0×l0-7?·m,顯示了很好的電子導(dǎo)電性。恒電位階躍測(cè)試得到氮化鈦納米管的真實(shí)表面積為1591.2cm2,多孔結(jié)構(gòu)為366.3cm2,薄膜為125.8cm2。采用線性伏安曲線和Tafel曲線研究了制備得到的三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦電極在硫酸溶液中的電化學(xué)析氫性能。研究表明,雖然三種TiO2前驅(qū)體具有較大的比表面積,但由于其導(dǎo)電性較差,導(dǎo)致析氫過(guò)電位高,而形成氮化物后則能顯著提高其析氫能力。氮化鈦納米管電極真實(shí)表面積比較大,且高度有序的納米管陣列結(jié)構(gòu),具有比氮化鈦薄膜和多孔結(jié)構(gòu)更好的析氫電催化活性。采用離子鍍技術(shù)與多弧磁控耦合鍍膜技術(shù)分別在柱塞上涂覆了TiN涂層和DLC涂層。蘇州 刀具氮化鈦服務(wù)電話

氮化物涂層具有硬度高、耐磨性好、良好的抗氧化性、抗粘附性等性能,常用做刀具的保護(hù)涂層。304不銹鋼和鈦合金因?yàn)榱己玫男阅芏谏钪袘?yīng)用適合,但由于在加工時(shí)會(huì)出現(xiàn)加工硬化、切削溫度較高、刀具粘結(jié)等缺陷,是比較典型的難加工材料。而使用涂層刀具能有效改善刀具的切削性能,并能延長(zhǎng)刀具的使用壽命。市場(chǎng)上常用Al CrN和Al TiN涂層來(lái)切削這兩種材料。但是這兩種材料容易在刀具表面產(chǎn)生粘附層,會(huì)影響刀具的使用壽命,為了改善“粘刀性”,需要先了解不同刀具在不同涂層上的粘附機(jī)理。泰州壓鑄模具氮化鈦生產(chǎn)企業(yè)有較為的硬度和耐磨性，用于開(kāi)發(fā)新型刀具，這種新型的刀具比普通硬質(zhì)合金刀具的耐用度和使用壽命顯著提高。

在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號(hào)傳輸，減小功耗，有必要對(duì)后段工藝進(jìn)行改進(jìn)，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實(shí)結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì)，重點(diǎn)是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長(zhǎng)，制備循環(huán)次數(shù)的選擇對(duì)薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實(shí)結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實(shí)際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測(cè)試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低，同時(shí)晶體生長(zhǎng)，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時(shí)間和深度，較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理，發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(shí)(本實(shí)驗(yàn)條件下為4nm)，增加循環(huán)次數(shù)雖然進(jìn)一步降低了雜質(zhì)濃度，但會(huì)引入界面而使薄膜電阻率增加。通過(guò)TEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)由于等離子體運(yùn)動(dòng)的各向異性，真實(shí)結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部，這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。

采用電弧離子鍍技術(shù)在氧化鋁基復(fù)合陶瓷材料表面沉積了TiN涂層,使用掃描電子顯微鏡、X射線衍射、二次離子質(zhì)譜分析了沉積偏壓對(duì)涂層質(zhì)量的影響．結(jié)果表明:隨著沉積偏壓的提高,涂層質(zhì)量變好;偏壓為300V時(shí)沉積的涂層表面光滑平整,內(nèi)部無(wú)明顯的宏觀缺陷;TiN涂層為立方NaCl結(jié)構(gòu),并且呈現(xiàn)出明顯的(220)擇優(yōu)取向;涂層與基體結(jié)合緊密,相互之間有明顯的元素?cái)U(kuò)散,有利于提高界面的結(jié)合強(qiáng)度。3Cr2W8V基體離子鍍TiN涂層的滑動(dòng)磨損特性。分析了涂層的磨損機(jī)理。結(jié)果表明:TiN涂層的耐磨性明顯高于3Cr2W8V基體。涂層的主要磨損機(jī)制為磨粒磨損和疲勞剝落。其次為摩擦性能，當(dāng)試驗(yàn)載荷從490N到980N時(shí),涂層的磨損率上升,而從980N上升到1470N時(shí),各涂層的磨損率下降,其原因是磨損機(jī)制發(fā)生了變化,前者以磨粒損為主,氧化磨損為輔;而后者以氧化磨損為主。氮化鈦是一種優(yōu)良的結(jié)構(gòu)材料。在軸承和密封環(huán)領(lǐng)域也多用氮化鈦合金凸顯了氮化鈦優(yōu)異的應(yīng)用效果。

口腔是有生物化學(xué)和電化學(xué)因素影響的復(fù)雜環(huán)境，具有較強(qiáng)的腐蝕性。因而對(duì)應(yīng)用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應(yīng)用中，我們發(fā)現(xiàn)磁性附著體在口腔中長(zhǎng)期使用后所出現(xiàn)的腐蝕和磨損是導(dǎo)致磁性附著體的固位力下降的主要原因，也是影響磁性附著體遠(yuǎn)期應(yīng)用效果的主要問(wèn)題。進(jìn)一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問(wèn)題的適合途徑。近年來(lái)，隨著當(dāng)今各種鍍膜技術(shù)，如化學(xué)氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學(xué)氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(shù)(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發(fā)展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國(guó)際和國(guó)內(nèi)都得到了適合研究與應(yīng)用。氮化鈦涂層可降低牙科鑄造合金,尤其是賤金屬合金的腐蝕傾向,提高其耐蝕性。江蘇防銹氮化鈦生產(chǎn)企業(yè)

TiN是非化學(xué)計(jì)量化合物穩(wěn)定的組成范圍為TiN0.37- TiN1.16，氮含量可在一定范圍內(nèi)變化不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。蘇州 刀具氮化鈦服務(wù)電話

TiN薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著，提高切削力，改善工件的表面質(zhì)量，成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此，TiN薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外，TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層，特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應(yīng)用，如汽車發(fā)動(dòng)機(jī)的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等：此外，TiN還廣泛應(yīng)用于成型技術(shù)工具涂層，如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等TiN薄膜無(wú)毒、質(zhì)輕、強(qiáng)度高且具有優(yōu)良的生物相容性，因此它是非常理想的醫(yī)用金屬材料，可用作植入人體的植入物和手術(shù)器械等閻。此外，氮化鈦薄膜還能作為其他優(yōu)良生物相溶性薄膜的增強(qiáng)薄膜。國(guó)外的Nelea等人通過(guò)鍍制TiN薄膜中間層大幅度提高了醫(yī)用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機(jī)械性能和附著力。蘇州 刀具氮化鈦服務(wù)電話

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