利用常壓化學氣相沉積法(APCVD)以四氯化鈦(TiCl4)和氨氣(NH3)作為反應物在玻璃基板上沉積制備了氮化鈦(TiN)薄膜.分別用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、四探針電阻儀和分光光度計等對TiN薄膜的結(jié)晶性能、微觀結(jié)構(gòu)、表面形貌和光學、電學性能進行了分析.結(jié)果表明,制備的TiN薄膜厚度為500nm,具有NaCl型面心立方結(jié)構(gòu)并表現(xiàn)出(200)晶面的擇優(yōu)取向,薄膜的晶粒大小分布均勻.在可見光區(qū)的透射率達到60%,反射率小于10%.在近紅外光區(qū)的反射率達到80%。DLC涂層表面納米硬度、彈性模量及泊松比均高于TiN涂層。天津潤滑氮化鈦供應商
TiN 中文名稱氮化鈦薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著,提高切削力,改善工件的表面質(zhì)量,成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此,TiN 薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外,TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層,特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應用,如汽車發(fā)動機的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等:此外,TiN還廣泛應用于成型技術工具涂層,如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等。淮安涂層氮化鈦加工中心在鎂碳磚中添加一定量的TiN能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。
口腔是有生物化學和電化學因素影響的復雜環(huán)境,具有較強的腐蝕性。因而對應用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應用中,我們發(fā)現(xiàn)磁性附著體在口腔中長期使用后所出現(xiàn)的腐蝕和磨損是導致磁性附著體的固位力下降的主要原因,也是影響磁性附著體遠期應用效果的主要問題。進一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問題的適合途徑。近年來,隨著當今各種鍍膜技術,如化學氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發(fā)展,使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國際和國內(nèi)都得到了適合研究與應用。
明顯早應用的刀具PVD涂層材料是TiN,是將靶材(金屬固體材料)轉(zhuǎn)換成電離狀態(tài),在電場作用下金屬離子在工件表面與活化了的氮形成2~4μm厚的薄膜涂層,具有較高的硬度和耐磨性,抗氧化溫度在550~600℃;而進入本世紀后,使用具有一定原子比的鈦鋁合金靶作為靶材, 通過磁控濺射法制得的TiAlN涂層正逐漸代替TiN涂層成為主流涂層,其最高工作溫度可達1 150℃,更好得滿足這種高速高溫切削的需要。其實質(zhì)是在切削刀具的表面沉積一層具有致密結(jié)構(gòu)、高硬度、熱穩(wěn)定性、耐磨性和抗氧化性良好的硬質(zhì)薄膜?;诘亙?yōu)良的導電性能,可做成各種電極以及點觸頭等材料。
40、氮化鈦 ( Ti N)薄膜獨特的性能不僅在機械工業(yè)和商品的表面裝飾行業(yè)上有著適合的應用 ,而且在臨床制品及人工替換領域也展示了潛在的應用前景 .研究利用大功率偏壓電源的多弧離子鍍技術 ,采用工具鍍工藝 ,在 Ti- 6 Al- 4V合金材料表面制備了 Ti N薄膜 .用 X射線光電子能譜檢測證明了所制備的薄膜確為 Ti N機械性能測試表明 :具有 Ti N涂層樣品的顯微硬度較為高于 Ti合金基材 ,同時耐磨性能也明顯得到改善 。
40、氮化鈦是一種新型多功能材料,具有高硬度、高耐磨性以及高抗氧化性等優(yōu)點,可以作為耐磨涂層使用,同時氮化鈦涂層的顏色與黃金極為相似,可以沉積在首飾或燈具表面用作裝飾涂層,有著適合的應用。在上世紀70年代,氮化鈦涂層成功應用于刀具等切割加工工具上,促進了刀具加工行業(yè)的發(fā)展。刀具涂層的常用制備方法為物物理相沉積法(PVD)和化學氣相沉積法(CVD)兩大類,也是氮化鈦涂層的常用制備方法,具體細分又有許多種。 氮化鈦是一種新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金屬陶瓷中加入一定氮化鈦,使硬質(zhì)相晶粒較為細化。無錫注塑模具氮化鈦供應商
Ti N機械性能測試表明 :具有 Ti N涂層樣品的顯微硬度較為高于 Ti合金基材 ,同時耐磨性能也明顯得到改善 。天津潤滑氮化鈦供應商
50.本實驗應用離子束輔助沉積技術在磁性附著體銜鐵鐵鉻鉬合金表面制備氮化鈦納米膜,希望通過氮化鈦納米膜優(yōu)異的理化性能,增強磁性附著體的耐蝕性和耐磨性,從而改進磁性附著體的性能,并且對鐵鉻鉬合金材料本體特性沒有影響。實驗結(jié)果表明:第四軍醫(yī)大學碩土學垃論文1.離子束輔助沉積技術可以在鐵鉻銅軟磁合金表面獲得非常致密與基體結(jié)合力極強的氮化鈦納米膜,膜與基體界面的結(jié)合力在65N—75N之間,完全能夠滿足實驗及臨床長期應用。2.鐵鉻鑰合金表面鍍氮化鈦納米膜處理前后磁性附著體磁力數(shù)值無明顯改變,方差分析統(tǒng)計學處理,p勸.05,無統(tǒng)計學差別。即鍍膜后磁固位力無改變。對磁性附著體的銜鐵軟磁合金進行鍍膜處理,來研究改進磁性附著體性能是可行的c3.由自腐蝕電位所反映的腐蝕傾向;極化曲線反映的耐腐蝕性能;極化電阻、腐蝕電流密度反映的腐蝕速度等電化學指標均表明經(jīng)IBAD制備氮化鈦納米膜的鐵鉻鋁合金較未做表面鍍膜處理的合金耐腐蝕性高。4.制備氮化鈦納米膜組顯微硬度值明顯高于未鍍膜組有明顯性差異,氮化鈦納米膜能夠明顯提高鐵鉻用合金的顯微硬度,增強其耐磨性能。天津潤滑氮化鈦供應商
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