氮化鈦是一種新型多功能陶瓷材料。 在TiC-Mo-Ni系列金屬陶瓷中添加一定量的氮化鈦，硬質(zhì)相晶粒明顯細(xì)化，陶瓷的理學(xué)性能無論在室溫還是高溫條件下均得到大幅改善，然后金屬陶瓷的高溫耐腐蝕性和抗氧化性大幅提高; 通過以一定比例向陶瓷中添加TiN粉末，可以提高陶瓷的強度、韌性、硬度; 將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復(fù)相納米陶瓷中，通過機械混合法等各種方法均勻混合，在得到的含有納米氮化鈦粒子的陶瓷材料內(nèi)部形成導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)。 這種材料可以作為電子部件應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)。在鎂碳磚中添加一定量的TiN能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。鎮(zhèn)江涂層氮化鈦檢測

氮化鈦（TiN）作為一種新型的多功能金屬陶瓷材料，具有熔點高、硬度大、**、化學(xué)穩(wěn)定性好、導(dǎo)電導(dǎo)熱和光性能好等優(yōu)異的特性。  其熔點為2930~2950℃，是熱和電的良導(dǎo)體，低溫下又有*導(dǎo)性，是制造噴氣發(fā)動機的材料，隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和突破在多個領(lǐng)域發(fā)揮著不同的作用，其特有的金黃色金屬光澤使氮化鈦在代金裝飾領(lǐng)域也有應(yīng)用。  在刀具制造上的應(yīng)用  氮化鈦陶瓷涂層具有的金黃色外表，涂覆于刀具之上雖擁有優(yōu)化外觀的好處，但主要作用卻并非是為了裝飾，其具有的硬度值在韋氏硬度（HV）高達(dá)2500以上，涂覆于刀具上的厚度一般為3至5微米，相較于未進行涂層加工的原產(chǎn)品具有*高的**性和耐熱性，使用壽命也*長。  將這項技術(shù)應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中的機械設(shè)備上，例如在齒輪滾刀上涂覆氮化鈦其壽命可延長3至4倍，在切削齒輪時可將切削速度或進給量提高更多，從而減少材料機加工時間上海注塑模具氮化鈦聯(lián)系人氮化鈦摩擦系數(shù)較低，可作為高溫潤滑劑。

TiN薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著，提高切削力，改善工件的表面質(zhì)量，成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此，TiN薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外，TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層，特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應(yīng)用，如汽車發(fā)動機的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等：此外，TiN還廣泛應(yīng)用于成型技術(shù)工具涂層，如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等TiN薄膜無毒、質(zhì)輕、強度高且具有優(yōu)良的生物相容性，因此它是非常理想的醫(yī)用金屬材料，可用作植入人體的植入物和手術(shù)器械等閻。此外，氮化鈦薄膜還能作為其他優(yōu)良生物相溶性薄膜的增強薄膜。國外的Nelea等人通過鍍制TiN薄膜中間層大幅度提高了醫(yī)用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機械性能和附著力。

薄膜材料簡介制造業(yè)中高速切削和干式切削等先進技術(shù)的發(fā)展對刀具提出了較高的要求，作為刀具涂層的薄膜材料Ti N不僅要具有較高的硬度，而且要具有優(yōu)良的耐磨性、耐熱性、韌性和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等。硬質(zhì)薄膜表面涂層可以實現(xiàn)上述要求。硬質(zhì)薄膜表面涂層通常指為提高構(gòu)件表面耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫性而涂覆于構(gòu)件表面的膜層，厚度為幾納米到幾十微米，材料通常是一些由過渡族金屬與非金屬構(gòu)成的金屬間化合物等。這些化合物一般由金屬鍵、共價鍵、離子鍵，以及離子鍵和金屬鍵的混合鍵鍵合，具有熔點高、硬度大的特征，通常還具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性?；谝陨咸卣骱蛢?yōu)點，硬質(zhì)薄膜表面涂層已被廣泛應(yīng)用于航空、工模具、電子等加工領(lǐng)域，并且在刀具、模具等方面有力推動了制造業(yè)的發(fā)展。氮化鈦是第一種產(chǎn)業(yè)化并被廣泛應(yīng)用的硬質(zhì)薄膜材料。氮化鈦薄膜具有硬度高、耐磨、耐熱、耐腐蝕等特性[1]，為面心立方晶體結(jié)構(gòu)，由金屬鍵、共價鍵和離子鍵混合而成，同時具有金屬晶體和共價晶體的特性。氮化鈦是一種新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金屬陶瓷中加入一定氮化鈦，使硬質(zhì)相晶粒較為細(xì)化。

50.本實驗應(yīng)用離子束輔助沉積技術(shù)在磁性附著體銜鐵鐵鉻鉬合金表面制備氮化鈦納米膜，希望通過氮化鈦納米膜優(yōu)異的理化性能，增強磁性附著體的耐蝕性和耐磨性，從而改進磁性附著體的性能，并且對鐵鉻鉬合金材料本體特性沒有影響。實驗結(jié)果表明：第四軍醫(yī)大學(xué)碩土學(xué)垃論文1．離子束輔助沉積技術(shù)可以在鐵鉻銅軟磁合金表面獲得非常致密與基體結(jié)合力極強的氮化鈦納米膜，膜與基體界面的結(jié)合力在65N—75N之間，完全能夠滿足實驗及臨床長期應(yīng)用。2．鐵鉻鑰合金表面鍍氮化鈦納米膜處理前后磁性附著體磁力數(shù)值無明顯改變，方差分析統(tǒng)計學(xué)處理，p勸．05，無統(tǒng)計學(xué)差別。即鍍膜后磁固位力無改變。對磁性附著體的銜鐵軟磁合金進行鍍膜處理，來研究改進磁性附著體性能是可行的c3．由自腐蝕電位所反映的腐蝕傾向；極化曲線反映的耐腐蝕性能；極化電阻、腐蝕電流密度反映的腐蝕速度等電化學(xué)指標(biāo)均表明經(jīng)IBAD制備氮化鈦納米膜的鐵鉻鋁合金較未做表面鍍膜處理的合金耐腐蝕性高。4．制備氮化鈦納米膜組顯微硬度值明顯高于未鍍膜組有明顯性差異，氮化鈦納米膜能夠明顯提高鐵鉻用合金的顯微硬度，增強其耐磨性能。氮化鈦具有金屬光澤，可作為仿真的金色裝飾材料，在代金裝飾行業(yè)中具有良好的應(yīng)用前景。舟山納米氮化鈦

氮化鈦涂層可降低牙科鑄造合金,尤其是賤金屬合金的腐蝕傾向,提高其耐蝕性。鎮(zhèn)江涂層氮化鈦檢測

在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號傳輸，減小功耗，有必要對后段工藝進行改進，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì)，重點是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長，制備循環(huán)次數(shù)的選擇對薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低，同時晶體生長，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時間和深度，較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理，發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(本實驗條件下為4nm)，增加循環(huán)次數(shù)雖然進一步降低了雜質(zhì)濃度，但會引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測發(fā)現(xiàn)由于等離子體運動的各向異性，真實結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部，這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。鎮(zhèn)江涂層氮化鈦檢測

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