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TiN 薄膜的研究工作早在20世紀(jì)60年代已開始進(jìn)行,但因材料和器件制備上的困難,使研究工作一度轉(zhuǎn)入低潮。后來隨著薄膜制備技術(shù)的提高,國(guó)內(nèi)外對(duì)TiN薄膜的研究工作又開始活躍起來,制備方法也多樣化了,目前已取得很大進(jìn)展。TiN薄膜的制備方法主要可分為物理物物理相沉積、化學(xué)氣相沉積兩大類。應(yīng)用于工業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域。
TiN 薄膜無毒、質(zhì)輕、強(qiáng)度高且具有優(yōu)良的生物相容性,因此它是非常理想的醫(yī)用金屬材料,可用作植入人體的植入物和手術(shù)器械等閻。此外,氮化鈦薄膜還能作為其他優(yōu)良生物相溶性薄膜的增強(qiáng)薄膜。國(guó)外的Nelea等人通過鍍制TiN 薄膜中間層大幅度提高了醫(yī)用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機(jī)械性能和附著力。 氮化鈦有較高的導(dǎo)電性可用作熔鹽電解的電極以及點(diǎn)觸頭、薄膜電阻等材料。常州注塑模具氮化鈦功能
TiN和TiAlN涂層常應(yīng)用于精沖模,采用XRD技術(shù)分析了不同厚度TiN和TiAlN涂層的相變化,并采用Sin2ψ法測(cè)量了TiN涂層和基體以及TiAlN基體的殘留應(yīng)力,應(yīng)用顯微硬度計(jì)測(cè)量了涂層的顯微硬度。結(jié)果表明:TiN涂層(111)和(222)晶面存在明顯擇優(yōu)取向,涂層殘留應(yīng)力分布在-2347~-1920MPa,基體殘留應(yīng)力分布在-154.9~-69.21MPa,均隨厚度增加而減小;TiAlN涂層主要相成分為Ti3Al3N2,且(107)晶面存在擇優(yōu)取向,基體殘留應(yīng)力分布在-123.7~469.5MPa,主要呈拉應(yīng)力狀態(tài),且隨厚度增加而增大,對(duì)模具壽命有較大影響;TiN和TiAlN涂層顯微硬度隨厚度增加而增大。天津氮化鈦檢測(cè)氮化鈦是用于優(yōu)良度的金屬陶瓷工具、噴汽推進(jìn)器、以及火箭等優(yōu)良的結(jié)構(gòu)材料。另氮化鈦可作為高溫潤(rùn)滑劑。
1. 氮化鈦是一種新型的多功能金屬陶瓷材料它的熔點(diǎn)高,硬度大、摩擦系數(shù)小是熱和電的良導(dǎo)體。首先氮化鈦是用于較為度的金屬陶瓷工具、噴汽推進(jìn)器、以及火箭等優(yōu)良的結(jié)構(gòu)材料。另外氮化鈦有較低的摩擦系數(shù)可作為高溫潤(rùn)滑劑。氮化鈦合金用作軸承和密封環(huán)可顯示出優(yōu)異的效果。氮化鈦有較高的導(dǎo)電性可用作熔鹽電解的電極以及點(diǎn)觸頭、薄膜電阻等材料氮化鈦有較高的超導(dǎo)臨界溫度是優(yōu)良的超導(dǎo)材料。尤其引人注目的是氮化鈦涂層及其燒結(jié)體具有令人滿意的金黃色,作為代金裝飾材料具有很好的仿金效果、裝飾價(jià)值并具有防腐、延長(zhǎng)工藝品的壽命。目前由于含氨金屬陶瓷工具的開發(fā),而使氨化鈦粉末的需要急劇增加起來而且國(guó)際上代金裝飾技術(shù)發(fā)展相當(dāng)快氮化鈦在這方面的應(yīng)用具有十分廣闊的前景。
TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽(yáng)能吸收層的研究開始于1984年,較好近(Ti,A1)N 涂層也被建議應(yīng)用于太陽(yáng)能選擇吸收層和太陽(yáng)能控制窗口,這主要是因?yàn)?Ti,AI)N 涂層耐高溫的特點(diǎn)。關(guān)于TiN和TiA1N 涂層在太陽(yáng)能領(lǐng)域的應(yīng)用。目前仍處在嘗試和探索之中。
用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上??梢蕴岣叨f化硫潤(rùn)滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上,因?yàn)樗哂械母哂捕?、高熔點(diǎn)、高磨損抵抗力,優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),因此可以在提高飛機(jī)和航天器的發(fā)動(dòng)機(jī)等零件的潤(rùn)滑性能的同時(shí),又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。 氮化鈦熔點(diǎn)高,化學(xué)穩(wěn)定性好硬度大導(dǎo)電、導(dǎo)熱和光性能好等好的理化性質(zhì),在各個(gè)領(lǐng)域都有著非常重要的用途。
氮化鈦具有耐腐蝕性強(qiáng)、抗氧化性好、化學(xué)穩(wěn)定性高以及電導(dǎo)性好等優(yōu)點(diǎn)。本文以陽(yáng)極氧化法制得的納米TiO2薄膜、多孔結(jié)構(gòu)和納米管材料為前驅(qū)體,通過氨氣高溫還原氮化法制得了納米氮化鈦薄膜、多孔結(jié)構(gòu)和納米管材料。XRD和EDS分析結(jié)果表明,三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦的化學(xué)組分均只含Ti、N兩種元素,且前驅(qū)體TiO2已經(jīng)被完全轉(zhuǎn)化為氮化鈦,主要以TiN相和Ti2N相存在。SEM結(jié)果表明,高溫氮化得到的三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦仍保持了前驅(qū)體的微觀結(jié)構(gòu),氮化鈦多孔結(jié)構(gòu)和納米管均具有有序陣列特征,納米管管徑和孔道直徑均小于100nm,TiN薄膜表面具有很多大小不均的突起顆粒。四探針法測(cè)試得到三種納米氮化鈦的電阻率約為5.0×l0-7?·m,顯示了很好的電子導(dǎo)電性。恒電位階躍測(cè)試得到氮化鈦納米管的真實(shí)表面積為1591.2cm2,多孔結(jié)構(gòu)為366.3cm2,薄膜為125.8cm2。采用線性伏安曲線和Tafel曲線研究了制備得到的三種納米結(jié)構(gòu)氮化鈦電極在硫酸溶液中的電化學(xué)析氫性能。研究表明,雖然三種TiO2前驅(qū)體具有較大的比表面積,但由于其導(dǎo)電性較差,導(dǎo)致析氫過電位高,而形成氮化物后則能顯著提高其析氫能力。氮化鈦納米管電極真實(shí)表面積比較大,且高度有序的納米管陣列結(jié)構(gòu),具有比氮化鈦薄膜和多孔結(jié)構(gòu)更好的析氫電催化活性。400℃下制備的碳摻雜氮化鈦涂層(C-TiN-400℃),其導(dǎo)電性與耐蝕性均得到明顯提升。無錫注塑模具氮化鈦加工中心
無論在空氣中還是重油環(huán)境下,TiN涂層摩擦系數(shù)均高于DLC涂層,耐磨性低于DLC涂層。常州注塑模具氮化鈦功能
口腔是有生物化學(xué)和電化學(xué)因素影響的復(fù)雜環(huán)境,具有較強(qiáng)的腐蝕性。因而對(duì)應(yīng)用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應(yīng)用中,我們發(fā)現(xiàn)磁性附著體在口腔中長(zhǎng)期使用后所出現(xiàn)的腐蝕和磨損是導(dǎo)致磁性附著體的固位力下降的主要原因,也是影響磁性附著體遠(yuǎn)期應(yīng)用效果的主要問題。進(jìn)一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問題的適合途徑。近年來,隨著當(dāng)今各種鍍膜技術(shù),如化學(xué)氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學(xué)氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(shù)(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發(fā)展,使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國(guó)際和國(guó)內(nèi)都得到了適合研究與應(yīng)用。常州注塑模具氮化鈦功能
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