TiN和TiAlN涂層常應用于精沖模,采用XRD技術分析了不同厚度TiN和TiAlN涂層的相變化,并采用Sin2ψ法測量了TiN涂層和基體以及TiAlN基體的殘留應力,應用顯微硬度計測量了涂層的顯微硬度。結果表明:TiN涂層(111)和(222)晶面存在明顯擇優(yōu)取向,涂層殘留應力分布在-2347～-1920MPa,基體殘留應力分布在-154.9～-69.21MPa,均隨厚度增加而減小;TiAlN涂層主要相成分為Ti3Al3N2,且(107)晶面存在擇優(yōu)取向,基體殘留應力分布在-123.7～469.5MPa,主要呈拉應力狀態(tài),且隨厚度增加而增大,對模具壽命有較大影響;TiN和TiAlN涂層顯微硬度隨厚度增加而增大。氮化鈦是一種新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金屬陶瓷中加入一定氮化鈦，使硬質相晶粒較為細化。宿遷注塑模具氮化鈦鍍黑鈦

TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽能吸收層的研究開始于1984年，較好近(Ti，A1)N 涂層也被建議應用于太陽能選擇吸收層和太陽能控制窗口，這主要是因為(Ti，AI)N 涂層耐高溫的特點。關于TiN和TiA1N 涂層在太陽能領域的應用。目前仍處在嘗試和探索之中。

用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上?？梢蕴岣叨f化硫潤滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上，因為它具有的高硬度、高熔點、高磨損抵抗力，優(yōu)良的化學穩(wěn)定性等特點，因此可以在提高飛機和航天器的發(fā)動機等零件的潤滑性能的同時，又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。 南京鍍黑氮化鈦聯(lián)系人氮化鈦可作為一種膜鍍在紅外線反射率大于75%時，當?shù)伇∧ず穸却笥?0nm時能有效提高玻璃的保溫性能。

相關研究顯示，由于氮化鈦(TiN)屬于生物相容性較好的材料(曾經(jīng)被用于冠脈支架)，因此血栓源性要遠低于鎳鈦本身。早在2004年，先健科技（深圳）有限公司就針對這一醫(yī)學困擾研發(fā)推出了一種采用高能離子沉淀涂層技術的Cera陶瓷膜封堵器，在原鎳鈦合金封堵器設計的基礎上保持原房間隔封堵器、室間隔封堵器、動脈導管未閉封堵器設計外形，利用等離子技術，在其鎳鈦合金表面均勻包裹一層氮化鈦TiN薄膜，采用離子技術，使金屬鈦鍍層與C、N、O等化合轉化為生物涂層，很大程度上提高了封堵器的耐腐蝕性以及生物組織和血液相容性。根據(jù)從Cera陶瓷膜封堵器和普通鎳鈦封堵器的動物實驗數(shù)據(jù)對比可看出：在細胞爬覆生長性能上，Cera陶瓷膜封堵器要遠優(yōu)于普通鎳鈦封堵器，在提高使先心病缺損的修復的同時較好降低了血栓的風險；血小板黏附及溶血率也遠低于普通鎳鈦封堵器。

TiN 中文名稱氮化鈦薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著，提高切削力，改善工件的表面質量，成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此，TiN 薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外，TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層，特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應用，如汽車發(fā)動機的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等：此外，TiN還廣泛應用于成型技術工具涂層，如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等。氮化鈦還可以作為金色涂料應用于首飾行業(yè);可以作為替代WC的潛在材料，使材料的應用成本大幅度降低。

氮化鈦的制備方法有哪些

1金屬鈦粉或TiH

2直接氮化法2TiO2碳熱還原氮化法

3微波碳熱還原法

4物物理相沉積法

5化學氣相沉積法

6機械合金化法

7熔鹽合成法8溶膠-凝膠法9自蔓延高溫合成法TiN的性質及結構。

TiN屬于間隙相，熔點高達2955℃，原子之間的結合為共價鍵、金屬鍵及離子鍵的混合鍵，其中金屬原子間存在金屬鍵。因此，TiN薄膜具有高硬度（理論硬度21GPa）、優(yōu)異的耐熱耐磨和耐腐蝕等特性，并且具有較好的金屬特性：金屬光澤、優(yōu)良的導電性及超導性。TiN具有典型的NaCl型結構，屬于面心立方點陣（F.C.C），其中Ti原子占據(jù)面心立方的角頂。并且TiN是非計量化合物，Ti和N組成的化合物TiN1-x可以在很寬的組成范圍內穩(wěn)定存在，其范圍為TiN0.6—TiN1.16。氮的含量可在一定范圍內變化而不引起TiN的結構變化。 作為刀具涂層的薄膜材料Ti N不僅要具有較高的硬度，而且要具有優(yōu)良的耐磨性、耐熱性、韌性和良好的穩(wěn)定性。上海加硬氮化鈦功能

國際上代金裝飾技術發(fā)展相當快氮化鈦在這方面的應用具有十分廣闊的前景。宿遷注塑模具氮化鈦鍍黑鈦

目前，國內外制備氮化鈦涂層一般采用鍍膜工藝，傳統(tǒng)制備tin涂層方法為物物理相沉積(pvd)和化學氣相沉積(cvd)工藝。這些方法制備氮化鈦涂層純度高、致密性好。但其沉積效率低，涂層厚度過薄(適合幾個μm)，嚴重限制了氮化鈦涂層在磨、蝕服役條件下的應用。為滿足不斷提高的氮化鈦工業(yè)需求，高沉積效率的等離子噴涂工藝被用于氮化鈦涂層的制備。采用大氣反應等離子噴涂制備的tin涂層，厚度超過了500μm，但涂層疏松多孔，且含有雜質ti3o，一定程度上降低了tin涂層硬度。隨著等離子噴涂技術不斷發(fā)展，采用低壓反應等離子噴涂技術(f4-vb)制備了氮化鈦涂層，涂層呈致密層狀結構，厚度能夠達到70μm左右，但是其涂層物相組成為tin0.3、ti2n和tin相，涂層中存在未被氮化的鈦顆粒，涂層氮化率適合為25％左右，影響tin涂層的硬度及耐磨性。因此，如何提高低壓等離子噴涂制備氮化鈦涂層中的涂層氮化率是亟需解決的問題。宿遷注塑模具氮化鈦鍍黑鈦

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