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50. 氮化鈦(TiN)薄膜以其獨(dú)特的性能不僅各類商品的表面裝飾上有著適合的應(yīng)用,而且在機(jī)械工業(yè)也展示了巨大的應(yīng)用前景。本文利用大功率偏壓電源的多弧離子鍍技術(shù),采用工具鍍工藝,在Ti-6Al-4V合金材料表面制備了TiN薄膜。X射線光電子能譜檢測(cè)證明了所制備的薄膜確為TiN。機(jī)械性能測(cè)試表明:具有TiN涂層樣品的顯微硬度較為高于Ti合金基材,同時(shí)耐磨性能也明顯得到改善。既可以大幅提高機(jī)械產(chǎn)品的表面硬度,提高其耐磨性、降低摩擦系數(shù),進(jìn)而提高使用壽命。氮化鈦具有金屬光澤,可作為仿真的金色裝飾材料,在代金裝飾行業(yè)中具有良好的應(yīng)用前景。溫州耐磨氮化鈦加工中心
氮化物涂層具有硬度高、耐磨性好、良好的抗氧化性、抗粘附性等性能,常用做刀具的保護(hù)涂層。304不銹鋼和鈦合金因?yàn)榱己玫男阅芏谏钪袘?yīng)用適合,但由于在加工時(shí)會(huì)出現(xiàn)加工硬化、切削溫度較高、刀具粘結(jié)等缺陷,是比較典型的難加工材料。而使用涂層刀具能有效改善刀具的切削性能,并能延長刀具的使用壽命。市場(chǎng)上常用Al CrN和Al TiN涂層來切削這兩種材料。但是這兩種材料容易在刀具表面產(chǎn)生粘附層,會(huì)影響刀具的使用壽命,為了改善“粘刀性”,需要先了解不同刀具在不同涂層上的粘附機(jī)理。天津潤滑氮化鈦服務(wù)電話氮化鈦有較高的導(dǎo)電性可用作熔鹽電解的電極以及點(diǎn)觸頭、薄膜電阻等材料。
50. 用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上??梢蕴岣叨f化硫潤滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上,因?yàn)樗哂械母哂捕取⒏呷埸c(diǎn)、高磨損抵抗力,優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),因此可以在提高飛機(jī)和航天器的發(fā)動(dòng)機(jī)等零件的潤滑性能的同時(shí),又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽能吸收層的研究開始于1984年,較為近(Ti,A1)N 涂層也被建議應(yīng)用于太陽能選擇吸收層和太陽能控制窗口,這主要是因?yàn)?Ti,AI)N 涂層耐高溫的特點(diǎn)。關(guān)于TiN和TiA1N 涂層在太陽能領(lǐng)域的應(yīng)用。
TiN 中文名稱氮化鈦薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著,提高切削力,改善工件的表面質(zhì)量,成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此,TiN 薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外,TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層,特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應(yīng)用,如汽車發(fā)動(dòng)機(jī)的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等:此外,TiN還廣泛應(yīng)用于成型技術(shù)工具涂層,如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等。在鎂碳磚中添加一定量的TiN能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。
在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中,后段工藝日趨重要,為降低阻容遲滯(RCDelay),保證信號(hào)傳輸,減小功耗,有必要對(duì)后段工藝進(jìn)行改進(jìn),Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition,金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析,從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實(shí)結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì),重點(diǎn)是等離子體處理(PlasmaTreatment,PT)下的晶體生長,制備循環(huán)次數(shù)的選擇對(duì)薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響,不同工藝薄膜在真實(shí)結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律,超薄TiN薄膜(<5nm)的實(shí)際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測(cè)試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低,同時(shí)晶體生長,薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時(shí)間和深度,較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理,發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(shí)(本實(shí)驗(yàn)條件下為4nm),增加循環(huán)次數(shù)雖然進(jìn)一步降低了雜質(zhì)濃度,但會(huì)引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)由于等離子體運(yùn)動(dòng)的各向異性,真實(shí)結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部,這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。Ti N機(jī)械性能測(cè)試表明 :具有 Ti N涂層樣品的顯微硬度較為高于 Ti合金基材 ,同時(shí)耐磨性能也明顯得到改善 。煙臺(tái)注塑模具氮化鈦檢測(cè)
TiN粉末一般呈黃褐色超細(xì)TiN粉末呈黑色,而TiN晶體呈金黃色。溫州耐磨氮化鈦加工中心
TiN和TiAlN涂層常應(yīng)用于精沖模,采用XRD技術(shù)分析了不同厚度TiN和TiAlN涂層的相變化,并采用Sin2ψ法測(cè)量了TiN涂層和基體以及TiAlN基體的殘留應(yīng)力,應(yīng)用顯微硬度計(jì)測(cè)量了涂層的顯微硬度。結(jié)果表明:TiN涂層(111)和(222)晶面存在明顯擇優(yōu)取向,涂層殘留應(yīng)力分布在-2347~-1920MPa,基體殘留應(yīng)力分布在-154.9~-69.21MPa,均隨厚度增加而減小;TiAlN涂層主要相成分為Ti3Al3N2,且(107)晶面存在擇優(yōu)取向,基體殘留應(yīng)力分布在-123.7~469.5MPa,主要呈拉應(yīng)力狀態(tài),且隨厚度增加而增大,對(duì)模具壽命有較大影響;TiN和TiAlN涂層顯微硬度隨厚度增加而增大。溫州耐磨氮化鈦加工中心
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