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蘇州耐磨氮化鈦產(chǎn)品介紹

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-07-02

17-4PH鋼表面Ti/TiN多層復(fù)合薄膜進(jìn)行了研究,應(yīng)用電弧離子鍍技術(shù)分析不同Ti層與TiN層厚度比值和不同復(fù)合層數(shù)對(duì)表面形貌、斷面形貌、成分、顯微硬度、相結(jié)構(gòu)、致密性、厚度均勻性、耐磨性、結(jié)合力等涂層性能的影響。通過(guò)研究確認(rèn),在Ti單層沉積3min、TiN單層沉積17min條件下制備的Ti/TiN六層復(fù)合薄膜具有極好的力學(xué)性能,可以使基體材料的表面硬度提高5倍以上,并使膜基結(jié)合力達(dá)到56N以上??梢杂行У奶岣咄繉拥慕Y(jié)合力,進(jìn)而提高產(chǎn)品的表面性能。調(diào)整氮化鈦中氮元素的百分含量,可以改變氮化鈦薄膜的顏色,從而達(dá)到理想的美觀效果。蘇州耐磨氮化鈦產(chǎn)品介紹

在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中,后段工藝日趨重要,為降低阻容遲滯(RCDelay),保證信號(hào)傳輸,減小功耗,有必要對(duì)后段工藝進(jìn)行改進(jìn),Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition,金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析,從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實(shí)結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì),重點(diǎn)是等離子體處理(PlasmaTreatment,PT)下的晶體生長(zhǎng),制備循環(huán)次數(shù)的選擇對(duì)薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響,不同工藝薄膜在真實(shí)結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律,超薄TiN薄膜(<5nm)的實(shí)際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測(cè)試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低,同時(shí)晶體生長(zhǎng),薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時(shí)間和深度,較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理,發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(shí)(本實(shí)驗(yàn)條件下為4nm),增加循環(huán)次數(shù)雖然進(jìn)一步降低了雜質(zhì)濃度,但會(huì)引入界面而使薄膜電阻率增加。通過(guò)TEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)由于等離子體運(yùn)動(dòng)的各向異性,真實(shí)結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部,這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。鎮(zhèn)江潤(rùn)滑氮化鈦鍍黑鈦改善鈦雙極板在質(zhì)子交換膜(PEM)水電解槽環(huán)境中耐腐蝕和導(dǎo)電性能,在鈦基底表面制備碳摻雜氮化鈦復(fù)合涂層。

TiN涂層的耐腐蝕性能進(jìn)行了試驗(yàn)研究。除采用幾種較弱的腐蝕介質(zhì)外,還在H2SO4溶液、HCl溶液中對(duì)TiN涂層樣品做了浸泡試驗(yàn)。所有結(jié)果表明:涂層后的樣品。其耐腐蝕性能比未涂層樣品提高幾倍至十幾倍。同時(shí),在NaCl溶液、人工汗液和酸溶液中,分別測(cè)定了涂層和未涂層樣品的電化學(xué)行為。TiN涂層表現(xiàn)出較高的溶解電位,說(shuō)明它在熱力學(xué)上對(duì)上述化學(xué)介質(zhì)是比較穩(wěn)定的。致密TiN涂層的耐腐蝕能力優(yōu)于不銹鋼,但是如果涂層有貫穿的孔洞或涂展太薄時(shí),則涂層試樣也會(huì)被腐蝕。

自20世紀(jì)80年代以來(lái),氮化鈦的研究受到了重視。氮化鈦化學(xué)性能穩(wěn)定,具有較強(qiáng)的耐磨損、耐腐蝕性及良好的生物相容性。在口腔醫(yī)學(xué)中主要應(yīng)用于切削及旋轉(zhuǎn)器械、種植體和義齒等表面鍍膜,以增強(qiáng)其耐磨損性及生物安全性。氮化鈦涂層作為一種新型陶瓷涂層,由于具有高熔點(diǎn)、高硬度、高溫化學(xué)穩(wěn)定性、高耐磨性及高耐腐蝕性能等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用于切削刀具、高溫結(jié)構(gòu)材料和抗磨抗蝕部件上。在不銹鋼表面制備一層氮化鈦涂層來(lái)進(jìn)行表面改性,可有效提高其表面力學(xué)性能、耐蝕性能和生物兼容性能,有利于不銹鋼在航空航天、艦船兵器、石油化工、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域應(yīng)用。氮化鈦的熔點(diǎn)高于大多數(shù)過(guò)渡金屬氮化物,密度低于大多數(shù)金屬氮化物,從而成為一種獨(dú)特的耐火材料。

TiN薄膜無(wú)毒、質(zhì)輕、強(qiáng)度高且具有優(yōu)良的生物相容性,因此它是非常理想的醫(yī)用金屬材料,可用作植入人體的植入物和手術(shù)器械等閻。此外,氮化鈦薄膜還能作為其他優(yōu)良生物相溶性薄膜的增強(qiáng)薄膜。國(guó)外的Nelea等人通過(guò)鍍制TiN薄膜中間層大幅度提高了醫(yī)用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機(jī)械性能和附著力。用TiN薄膜涂覆在IF—MS2上??梢蕴岣叨f化硫潤(rùn)滑劑的耐磨性。用TIN薄膜涂覆在IF—MS2上,因?yàn)樗哂械母哂捕?、高熔點(diǎn)、高磨損抵抗力,優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),因此可以在提高飛機(jī)和航天器的發(fā)動(dòng)機(jī)等零件的潤(rùn)滑性能的同時(shí),又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。氮化鈦涂層可降低牙科鑄造合金,尤其是賤金屬合金的腐蝕傾向,提高其耐蝕性。舟山防銹氮化鈦服務(wù)電話(huà)

TiN有著誘人的金黃色、熔點(diǎn)高、硬度大、化學(xué)穩(wěn)定性好、與金屬的潤(rùn)濕小的結(jié)構(gòu)材料、并具有導(dǎo)電性和超導(dǎo)性。蘇州耐磨氮化鈦產(chǎn)品介紹

1.氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu),屬面心立方點(diǎn)陣,晶格常數(shù)a=0.4241nm,其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學(xué)計(jì)量化合物其穩(wěn)定的組成范圍為T(mén)iN0.37-TiN1.16,氮的含量可以在一定的范圍內(nèi)變化而不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。TiN粉末一般呈黃褐色超細(xì)TiN粉末呈黑色,而TiN晶體呈金黃色。TiN熔點(diǎn)為2950℃,密度為5.43-5.44g/cm3,莫氏硬度8-9,抗熱沖擊性好。氫化鈦的理化性質(zhì)由氫元素的含量來(lái)決定,當(dāng)氨元素含量減少時(shí)氮化鈦的晶格參數(shù)反而增大,硬度也會(huì)有顯微的增大,但氮化鈦的抗震性隨之降低。TiN熔點(diǎn)比大多數(shù)過(guò)渡金屬氮化物的熔點(diǎn)高,而密度卻比大多數(shù)金屬氨化物低,因此是一種很有特色的耐熱材料。蘇州耐磨氮化鈦產(chǎn)品介紹

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標(biāo)簽: PVD涂層 DLC 氮化鈦 氮化鉻