【光學(xué)鍍膜之鍍腱反射膜技術(shù)】有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫,而有機鏡片在超過100°C時便會發(fā)黃,隨后很快分解。 可以用于玻璃鏡片的減反射膜材料通常采用氟化鎂(MgF2),但由于氟化鎂的鍍膜工藝必須在高于200°C的環(huán)境下進(jìn)行,否則不能附著于鏡片的表面,所以有機鏡片并不采用它。 20世紀(jì)90年代以后,隨著真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展,利用離子束轟擊技術(shù),使得膜層與鏡片的結(jié)合,膜層間的結(jié)合得到了改良。而且提煉出的象氧化鈦,氧化鋯等高純度金屬氧化物材料可以通過蒸發(fā)工藝鍍于樹脂鏡片的表面,達(dá)到良好的減反射效果。 ling先的真空鍍膜設(shè)備及工藝解決方案供應(yīng)商-裕康源光學(xué)納米薄膜技術(shù)(深圳)有限公司致力于研發(fā)和加工光學(xué)鏡片,上百套工藝供您選擇,免fei專業(yè)培訓(xùn)指導(dǎo)技術(shù)操作,卓yue品質(zhì),服務(wù)全球! 光學(xué)鍍膜機抽真空步驟。江西光學(xué)鍍膜機做什么產(chǎn)品
【光學(xué)鍍膜機的維護與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動電源、蒸發(fā)源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓,在工作前必須保證柜門各個聯(lián)鎖裝置正常工作,非專業(yè)人員不得打開電柜門,電子qiang在工作時不得打開電柜門,整個電柜必須有良好的接地并與機臺接地連接。 電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上,必須與底板有良好的接地效果,安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來固定,周邊200mm以內(nèi)不得有導(dǎo)磁的物體,否則會影響到電子qiang的光斑成表,造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝在蒸發(fā)源坩堝的中心上30mm處,以不影響電子束的發(fā)射為好。 電子qiang蒸發(fā)源是一個精密機械加工體,在工作時必須保證有良好的冷卻水,如過高的溫度會影響電子束的成型及各密封圈的性能。 遼寧光學(xué)鍍膜機鍍黑色光學(xué)鍍膜機怎么保養(yǎng)?
【光學(xué)鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時,由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線,即產(chǎn)生打火。另外,若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物,會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設(shè)備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復(fù)位裝置,在打火非常嚴(yán)重時才會自動切斷高壓,然后又自動恢復(fù),切斷與恢復(fù)的時間愈短,愈不會影響蒸鍍工藝。 高壓引線應(yīng)盡量短,并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住,不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光,然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔,以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。 電子qiang體應(yīng)可靠接地。 對放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時功率要合適,不可過高造成材料飛濺。 高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查,以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm.
【光學(xué)薄膜的特點】表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。不同物質(zhì)對光有不同的反射、吸收、透射性能,光學(xué)薄膜就是利用材料對光的這種性能,并根據(jù)實際需要制造的。光學(xué)鍍膜機的主要應(yīng)用。
【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】 物理qi相沉積法,簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽,蒸汽再凝結(jié)到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同,又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā):光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造,此方法簡單、經(jīng)濟、操作方便。 2) 濺射:指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面,通過動量傳遞,使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射),在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強,純度高,可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍:兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果,離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍:在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器—離子源,產(chǎn)生離子束,在熱蒸發(fā)進(jìn)行的同時,用離子束轟擊正在生長的膜層,形成致密均勻結(jié)構(gòu)(聚集密度接近于1),使膜層的穩(wěn)定性提高,達(dá)到改善膜層光學(xué)和機械性能。 電子束蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機是什么?四川進(jìn)口光學(xué)鍍膜機
光學(xué)鍍膜機故障解決方法?江西光學(xué)鍍膜機做什么產(chǎn)品
【光學(xué)鍍膜之CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來,以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下,前置物在基板上的濃度是零,亦即在基板上立刻反應(yīng),實際上并非如此。 (2)前置反應(yīng)物吸附在基板上,此時仍容許該前置物在基板上進(jìn)行有限程度的表面橫向移動。 (3)前置物在基板上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生沉積物的化學(xué)分子,然后經(jīng)積聚成核、遷移、成長等步驟,*后聯(lián)合一連續(xù)的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體,以擴散機制傳輸?shù)街髁鳉庀?,并?jīng)傳送排出。 江西光學(xué)鍍膜機做什么產(chǎn)品
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