【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動,也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。離子真空鍍膜設(shè)備是什么?安徽臥式真空鍍膜設(shè)備
【真空鍍膜簡介】: 真空(vacuum)是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài),因為真空之中沒有介質(zhì),所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當時的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國雷根斯堡進行了一項實驗,從而證明了真空是存在的?,F(xiàn)在我們所說的真空并不是指空間內(nèi)沒有任何物質(zhì),而是指在一個既定的空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài),我們把這種稀薄的狀態(tài)稱為真空。現(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金進行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標物體上。 在當今電子行業(yè),很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝,雖然我國的真空鍍膜技術(shù)起步較晚,但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為:真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。 安徽真空鍍膜設(shè)備jiage真空鍍膜設(shè)備廠家前幾。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜強度】: 膜強度時鏡片鍍膜的一項重要指標,也是鍍膜工序Zui常見的不良項。 膜強度的不良(膜弱)主要表現(xiàn)為: 1. 擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生成片脫落 2. 擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生點狀脫落 3. 水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產(chǎn)生點狀或片狀脫落 4. 用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次,有道子產(chǎn)生 5. 膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細道子 改善思路:基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。
【真空鍍膜設(shè)備的分類】: 這個問題如果在十年之前,其實是很容易回答的,就是兩個大類,物理沉積設(shè)備和化學沉積設(shè)備。現(xiàn)在這樣回答也是沒錯的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類: 傳統(tǒng)光學器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:單腔體或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備,濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備:卷對卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè):離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導體及相似工藝:化學氣相沉積設(shè)備。 功能膜:多弧離子鍍設(shè)備,濺射設(shè)備,蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝:濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個范圍里面了,例如車燈鍍膜設(shè)備,太陽能的共蒸發(fā)設(shè)備,光纖鍍膜設(shè)備,太陽能管設(shè)備等等 真空鍍膜設(shè)備操作培訓。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】: 膜色差異有兩種(不含色斑),一種時整罩上、中、下膜色不一致,即分光測試曲線有差異;二是單片膜色不一致。 改善對策: 1. 調(diào)整修正版,盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,如果有兩個蒸發(fā)源,可能的條件下,獨li使用各自的修正板,避免干擾。 2. 條件許可,采用行星夾具。 3. 傘片整形。 4. 加強傘片管理。 5. 改善膜料狀況 6. 能夠自動預熔的膜料,盡量自動預熔 注:修正板對物理膜厚的修正有效,但對折射率的修正是力不從心的,所以完全靠修正板解決分光均勻性,是很困難的。如果一個修正板對應(yīng)二把電子搶(蒸發(fā)源)、以及多種膜料,就會有較大困難。 真空鍍膜設(shè)備培訓資料。廣西手機真空鍍膜設(shè)備廠家
真空鍍膜設(shè)備真空四個階段。安徽臥式真空鍍膜設(shè)備
【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】: 低溫泵:低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下,抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體,產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵,或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空,guang泛應(yīng)用于半導體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 安徽臥式真空鍍膜設(shè)備