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黑龍江真空鍍膜設(shè)備操作工

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-08-11

【真空鍍膜之真空的概念】: “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài),也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài),就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STP:即0℃,101325Pa,也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,760Torr)下,氣體的分子密度為2.68E24/m3,而在真空度為1.33E&4 Pa(1E&6Torr)時(shí),氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)?黑龍江真空鍍膜設(shè)備操作工

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等也會(huì)造成膜色差異問題。 改善對(duì)策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái) 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。江西ito真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。

【真空鍍膜二極濺射與磁控濺射對(duì)比】: 靶材利用率(TU):是指發(fā)生濺射的靶材質(zhì)量占原靶材質(zhì)量的比率。 公式表示:靶材利用率={原靶材質(zhì)量(Kg)—濺射后靶材質(zhì)量}/原靶材質(zhì)量 注:①:磁控濺射靶材利用率稍低,電壓要求低,電流會(huì)高,濺射率提高,增加生產(chǎn)效率,降低成本。 ②:靶材使用壽命結(jié)素之前必須及時(shí)更換新靶材,防止靶材周圍物質(zhì)發(fā)生濺射(金屬箔片、連接片、陰極) 兩種濺射技術(shù)的區(qū)別: ①:靶材利用率不同 ②:濺射腔室和陰極設(shè)計(jì)要求不同 ③:放電電流和放電電壓不同 ④:濺射率不同:磁控濺射有更短的沉積時(shí)間,更高的沉積量和更短沉積周期。

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之停電】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電: 對(duì)于停電這種情況,比較好處理,只要確認(rèn)前面鍍的沒錯(cuò),程序沒有用錯(cuò),就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時(shí),交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般時(shí)0.2~1nm左右),如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時(shí),要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不讀,通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 廣東真空鍍膜設(shè)備廠家。

【真空鍍膜設(shè)備之真空的測量】: 真空計(jì): A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對(duì)流規(guī): 用來測粗真空的真空計(jì),從大氣到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢,受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī): 用來測高真空或超高真空的真空計(jì),熱燈絲的離子規(guī)測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,燈絲在工作時(shí)遇到大氣會(huì)燒毀;冷陰極的離子規(guī)一般可以測到1E&11Torr,精度在20%~50%,特別是超高真空下測量精度很差,需要高壓電源,探頭內(nèi)有磁鐵,使用時(shí)不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計(jì): 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr,動(dòng)態(tài)范圍大約104范圍,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在讀數(shù)的0.25%,可以高到0.15%。 D、寬量程真空計(jì): 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合,兩個(gè)規(guī)可以自動(dòng)切換,在低真空時(shí)切換到皮拉尼規(guī),高真空時(shí)可切換到離子規(guī)。紅外真空鍍膜設(shè)備制造商。河南實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備

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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】: 一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi),由于鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂。 有些大鏡片,由于出罩時(shí)的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 改善對(duì)策: 1. 夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計(jì),在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來的影響。 2. 注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3. 選用合適的夾具才來哦(非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)?。褪羌庸るy度大,價(jià)格貴。 4. 對(duì)于大鏡片應(yīng)降低出罩時(shí)的溫度,減少溫差,防止炸裂。 5. 如果時(shí)鏡圈,可以考慮在鏡圈上開槽,作為緩沖。 黑龍江真空鍍膜設(shè)備操作工

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