【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設(shè)計(jì)時(shí)的膜厚、折射率允差太小，試制時(shí)的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。設(shè)計(jì)的膜料折射率與實(shí)際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實(shí)被的中心波長(zhǎng)(膜厚)與希望達(dá)到的中心波長(zhǎng)(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯(cuò);如膜料用錯(cuò)、程序用錯(cuò)、預(yù)熔時(shí)沒關(guān)擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發(fā)速率、基片旋轉(zhuǎn)速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產(chǎn)的同種光學(xué)材料(基片材料和膜料)在光學(xué)性能化學(xué)性能有所不同(有時(shí)同廠家不同生產(chǎn)批次也有不同),生產(chǎn)過程中(特別是大批量生產(chǎn))材料突然變更(末作論證),就可能造成分光不良。 用于測(cè)試分光的比較片表面特性變異,造成分光測(cè)試不良(也許鏡片的分光是OK的,可以比較二者的反射膜se)。這也許是容易忽視的一個(gè)問題,又是一個(gè)常見的可題,特別是高折射率的測(cè)試比較片表面形成一層腐蝕層,相當(dāng)于有了一層減反膜(很薄),膜層不是堆積在基片上,而是堆積在蝕層上,于是比較片上的分光就會(huì)不準(zhǔn)確、不穩(wěn)定。 光學(xué)鍍膜設(shè)備相關(guān)資料。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備好學(xué)嗎

【濾光片術(shù)語】 入射角度：入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當(dāng)光線正入射時(shí)，入射角為0°。 光譜特性：濾光片光譜參數(shù)(透過率T，反射率R，光密度OD，位相，偏振狀態(tài)s，p等相對(duì)于波長(zhǎng)變化的特性)。 中心波長(zhǎng)：帶通濾光片的中心稱為中心波長(zhǎng)（CWL）。通帶寬度用*大透過率 一半處的寬度表示（FWHM），通常稱為半寬。 有效孔徑：光學(xué)系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似，同心，尺寸略小些。 截止位置/前-后：cut-on對(duì)應(yīng)光譜特性從衰減到透過的50%點(diǎn)，cut-off對(duì)應(yīng)光譜特性從透過到衰減的50%點(diǎn)。有時(shí)也可定義為峰值透過率的5%或者10%點(diǎn)。 公差Tolerance：:任何產(chǎn)品都有制造公差。以帶通濾光片為例，中心波長(zhǎng)要有公差，半寬要有公差，因此定購(gòu)產(chǎn)品時(shí)一定要標(biāo)明公差范圍。濾光片實(shí)際使用過程中并非公差越小越好，公差越小，制造難度越大，成本越高，用戶可以根據(jù)實(shí)際需要，提出合理公差范圍。 上海光學(xué)鍍膜設(shè)備好學(xué)嗎光學(xué)鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)？

【光學(xué)鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長(zhǎng)模式（層狀生長(zhǎng)）】單層上的形核生長(zhǎng)模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學(xué)鏡片鍍膜按這種方式形成時(shí)，首先于基底上形成具有膺結(jié)構(gòu)的單層膜（層狀生長(zhǎng)），接著于單層膜上生成三維的形核生長(zhǎng)（島狀生長(zhǎng)）。以這種模式形成鍍膜的材料與基片的組合較少。這種膜生長(zhǎng)一般是在真空鍍膜的基底原子和沉積原子的相互作用力大，加上沉積原子本身的凝聚力也大的情況下，鍍膜就按這種方式來形成。 光學(xué)鏡片鍍膜可作防反射或防眩光處理，這樣的鍍膜可以有效助于鏡片的使用壽命延長(zhǎng)的同時(shí)，光學(xué)鏡片鍍膜的便利性和保護(hù)性也是非常出se的。鍍上合適的材料可幫助鏡片抵御劃傷和污漬，并具有減少眩光、附加安全系數(shù)。使用光學(xué)鏡片鍍膜設(shè)備，讓鏡片鍍層消除眩光、減少反射，對(duì)于在辦公室環(huán)境中使用計(jì)算機(jī)工作、經(jīng)常開車以及許多使用數(shù)字媒體產(chǎn)品的人來說，鏡片鍍膜就是很好的存在。用廣東振華科技光學(xué)鍍膜設(shè)備鍍上特殊鍍料，還能做到不影響清晰度的同時(shí)，減少夜間的遠(yuǎn)光車燈等強(qiáng)光的眩光影響，是夜間眼鏡鍍膜的理想選擇。

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應(yīng)氣體由陽極底部進(jìn)入放電區(qū)內(nèi)參與放電，放電區(qū)內(nèi)由磁鐵產(chǎn)生如圖所示的錐形磁場(chǎng)，在放電區(qū)的上部安裝有補(bǔ)償或中和陰極。根據(jù)工作要求該型號(hào)離子源的工作氣體為氬氣，反應(yīng)氣體可以使用氮?dú)?、氧氣或碳?xì)涞榷喾N氣體。放電區(qū)上部陰極燈絲加熱后產(chǎn)生熱電子，當(dāng)離子源的陽極施以正電位+U時(shí)，電子在電場(chǎng)作用下向陽極運(yùn)動(dòng)，由于磁場(chǎng)的存在，電子繞磁力線以螺旋軟道前進(jìn)，與工作氣體或反應(yīng)氣體的原子發(fā)生碰撞使其離化。離子在霍爾電場(chǎng)的作用下被加速獲得相應(yīng)的能量，與燈絲熱陰極發(fā)射的部分熱電子形成近等離子體，由等離子體源發(fā)射出來與基片發(fā)生作用達(dá)到清洗和輔助鍍膜的目的。光學(xué)鍍膜設(shè)備該如何維修。

【光學(xué)薄膜的特點(diǎn)】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面；由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。不同物質(zhì)對(duì)光有不同的反射、吸收、透射性能，光學(xué)薄膜就是利用材料對(duì)光的這種性能，并根據(jù)實(shí)際需要制造的。廣東光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備好學(xué)嗎

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【檢測(cè)光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法】一種檢測(cè)光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法,包括下列步驟:第一步:設(shè)計(jì)本發(fā)明雙腔濾光片膜系;第二步:模擬計(jì)算膜層厚度變化對(duì)所訴雙腔濾光片峰值透過率及中心波長(zhǎng)的影響;第三步:計(jì)算尖峰極值點(diǎn)透過率比值與膜層光學(xué)厚度比值,中心波長(zhǎng)與總光學(xué)厚度,兩組數(shù)學(xué)關(guān)系.第四步:根據(jù)第三步的數(shù)學(xué)關(guān)系,求解計(jì)算膜厚的公式;第五步:從工件盤中心到邊緣擺放數(shù)量大于2的基片,沉積本發(fā)明所述雙腔濾光片,測(cè)量出每一片的中心波長(zhǎng)和尖峰極值透過率,用第四步的公式計(jì)算出每一片兩種膜層厚度,得到鍍膜機(jī)鍍膜膜厚度分布即膜厚均勻性.實(shí)驗(yàn)表明:本發(fā)明可以快速準(zhǔn)確獲得光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性數(shù)據(jù),為鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性修正提供依據(jù)。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備好學(xué)嗎

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