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湖北真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)項目

來源: 發(fā)布時間:2021-12-21

【離子鍍膜法之射頻離子鍍】: 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應(yīng)氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是:基板溫升小,不純氣體少,成膜好,適合鍍化合物膜,但匹配較困難??蓱?yīng)用于鍍光學(xué)器件、半導(dǎo)體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設(shè)備對周遭環(huán)境沒有不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前,該類型設(shè)備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉(zhuǎn)位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外,離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,感應(yīng)離子加熱鍍,集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。真空鍍膜設(shè)備怎么維修。湖北真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)項目

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞(更換膠圈) 2. 坩堝被打穿(更換坩堝) 3. 高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈) 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開(檢查繼電器是否工作正常) 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿(更換膠圈) 9. 擋板動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂(更換玻璃) 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空: 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵(應(yīng)清洗) 2. 擴散泵很久未換油(應(yīng)清洗換油) 3. 前級泵反壓強大太機械泵真空度太低(應(yīng)清洗換油) 4. 各動密封膠圈損壞(更換膠圈) 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化(更換膠圈) 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞(更換膠圈) 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象(重新壓緊) 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠(注油) 浙江真空鍍膜設(shè)備機械電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備是什么?

【光譜分光不良的補救(補色)之機器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷: 模擬:根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標(biāo)的Zui佳方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片或測試片,確認補色膜系的可行性。 補色鍍:對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前,確認基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其他不良。

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】: 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中,直接利用電子束加熱,使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜,是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點,特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。 【真空鍍膜激光蒸發(fā)法】: 采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術(shù)是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器是可以安裝在真空室之外,這樣不但簡化了真空室內(nèi)部的空間布置,減少了加熱源的放氣,而且還可完全避免了蒸發(fā)氣對被鍍材料的污染,達到了膜層純潔的目的。此外,激光加熱可以達到極高的溫度,利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M行快速蒸發(fā)。這對于保證膜的成分,防止膜的分餾或分解也是極其有用的。激光蒸發(fā)鍍的缺點是制作大功率連續(xù)式激光器的成本較高,所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制,導(dǎo)致其在工業(yè)中的guang泛應(yīng)用有一定的限制。 成都國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣?

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】: 現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕。 可能成因有: 1. 膜結(jié)構(gòu)問題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過大,膜結(jié)構(gòu)粗糙 3. 溫差:鏡片出罩時內(nèi)外溫差過大 4. 潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全,膜結(jié)構(gòu)不均勻。 7. 膜與膜之間的應(yīng)力 改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。 改善對策: 1. 改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧(加大),改善膜結(jié)構(gòu) 4. 適當(dāng)降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結(jié)構(gòu) 5. 離子輔助鍍膜,改善膜結(jié)構(gòu) 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。 濺射類鍍膜是利用電子或高能激光轟擊靶材,使表面組分以原子團或離子形式濺射出來沉積在基片表面形成薄膜。山東偉創(chuàng)真空鍍膜設(shè)備有限公司

真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)?湖北真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)項目

【光學(xué)鍍膜的目的】: &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用:中性分光、變色分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &色光顯示、色光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波的引導(dǎo)、光開關(guān)及集體光路 a. 在膜層中,波的干涉結(jié)果,如R%, T%都是與膜質(zhì)本身和兩邊界邊的折射率率有關(guān)系,相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高,有時反而降低,都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高(Ns為基底),若Nf

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