高真空多層精密光學鍍膜機BLL-800F型常規(guī)配置；真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型，公自轉，多行星型，可調角度行星盤)轉速:0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復合真空計MFC系統(tǒng):進口質量流量控制器;進口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國產IC-6，XTC-3S/M，INFICON310。石英晶體感應器:1，2，6頭光控控制國產光控(或進口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達到產品ZUI終所需要求。 真空鍍膜機可以提高產品的附加值和市場競爭力。江蘇光學真空鍍膜機廠商

光學真空鍍膜機的日常維護保養(yǎng)注意事項；

維護和保養(yǎng)1保持設備所需正常工作環(huán)境，溫度不應高于40℃，相對濕度不得大于80%，冷卻水進水溫度不得高于25℃，水壓不得低于0.20MPa，進出水不得低于0.1MPa給氣壓力0.5~0.6MPa。水氣壓力不夠鍍膜機會自動停止工作。2電控柜、主機,電子Q電源柜都應25MM銅線良好接地，以保護操作者人身安全。3要每班經常清潔真空室，避免鍍膜材料沉積污染影響正常生產。4保護套板勤更換清洗，保持真空室內清潔。5高低壓接線柱，碘鎢燈接線部位，電子QQ頭應避免鍍膜材料沉積。6經常檢查轉動是否正常，及時拆下清洗軸承，避免不轉。7鍍膜機在正常工作時，決不允許斷水、停氣、停電。（觸摸屏有報警顯示）如突然停電，要關閉各電氣開關，強制通水冷卻各個泵，避免真空泵過熱。8分子泵經較長時間（4~6個月）使用或其他原因造成泵油散熱效果下降，致高真空抽速明顯下降時，則需換油。9機械泵定期檢查和換油，第1次使用1個月后換油，第2次使用3個月后換油,第3次使用6個月后換油，以后定期加油。10羅茨泵定期檢查和加油。11非專業(yè)人員不要打開主機座電控柜q電源蓋板，以防觸電！12各配套產品請仔細閱讀各自的使用說明書。 安徽光學真空鍍膜機廠家直銷光學真空鍍膜機是一種高精度的設備，用于在光學元件表面上制備高質量的薄膜。

真空鍍膜機是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設備，通常在真空環(huán)境中進行。它主要通過將工作室內的空氣抽取，創(chuàng)造一個真空環(huán)境，然后使用不同種類的薄膜材料，如金屬或化合物，將薄膜沉積到物體表面。以下是真空鍍膜機的基本工作原理：1.真空環(huán)境的創(chuàng)建：首先，真空鍍膜機通過使用真空泵將工作室內的空氣抽取，創(chuàng)造一個高度真空的環(huán)境。這樣可以減少氣體分子的干擾，確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料的選擇：根據所需的涂層特性和應用，選擇適當的薄膜材料。這些材料通常是金屬（如鋁、鉻）或化合物（如氮化硅、氧化鋅）。3.薄膜的沉積：薄膜材料可以通過兩種主要的方法進行沉積：蒸發(fā)和濺射?！ふ舭l(fā)：薄膜材料被加熱至其熔點以上，然后蒸發(fā)并沉積在物體表面。這通常涉及加熱薄膜材料的源（靶材）以產生蒸氣?！R射：使用電子束或離子束等方法將薄膜材料從靶材上濺射到物體表面。這是一種更為精確控制涂層厚度和均勻性的方法。4.控制和監(jiān)測：在沉積過程中需要對真空度、沉積速率以及其他參數進行精密的控制和監(jiān)測，以確保所得到的薄膜具有預期的性質和質量。5.結束過程：一旦涂層達到所需的厚度和性質，真空鍍膜機停止工作，物體被取出。

    光學真空鍍膜機是一種高科技的設備，它可以在真空環(huán)境下對各種材料進行鍍膜處理，使其表面具有各種特殊的光學性能。這種設備廣泛應用于光學、電子、通訊、航空航天等領域，是現代工業(yè)中不可或缺的一部分。我們公司的光學真空鍍膜機采用了先進的技術，具有以下特點：1.高效率：我們的設備可以在短時間內完成大量的鍍膜工作，提高了生產效率。2.高精度：我們的設備可以精確控制鍍膜的厚度和均勻性，保證了鍍膜的質量和穩(wěn)定性。3.多功能：我們的設備可以進行多種類型的鍍膜，包括金屬、非金屬、光學膜等，滿足了不同客戶的需求。4.易操作：我們的設備采用了人性化的設計，操作簡單方便，不需要專業(yè)技術人員即可上手操作。5.環(huán)保節(jié)能：我們的設備采用了先進的真空技術，不會產生有害物質，同時也節(jié)約了能源。我們的光學真空鍍膜機已經通過了多項國際認證，包括CE、ISO等，具有可靠性。我們的設備已經廣泛應用于國內外的光學、電子、通訊、航空航天等領域，并得到了客戶的一致好評。如果您需要一款高效率、多功能的光學真空鍍膜機，我們的產品將是您的理想選擇。我們將竭誠為您提供的產品和服務，讓您的生產更加高效、穩(wěn)定和可靠。如果您有任何疑問或需求，請隨時聯(lián)系我們。 真空鍍膜機的鍍膜速度快，生產效率高。

多弧離子真空鍍膜機BLL-1350PVD型常規(guī)配置；

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號:不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號:12軸公轉或公自轉，轉速:0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復合真空計MFC系統(tǒng):進口質量流量控制器;進口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源:直流脈沖電源濺射電源:直流脈沖電源電源;中頻電源弧源:多弧，平面，孿生，柱靶深冷系統(tǒng):DW-3全程自動控制鍍膜，保障生產產品的一致性，重復性，穩(wěn)定性。 光學真空鍍膜機的鍍膜層具有高透過率、低反射率、高耐磨性等特點。福建手機鍍膜機制造

磁控濺射真空鍍膜機采用磁控濺射技術，可以在真空環(huán)境下進行鍍膜。江蘇光學真空鍍膜機廠商

真空鍍膜的厚度可以通過以下幾種方式來控制：1.時間控制法：通過控制鍍膜時間來控制膜層的厚度，一般適用于單層膜的制備。2.監(jiān)測法：通過在真空室內安裝監(jiān)測儀器，如晶體振蕩器、光學膜厚計等，實時監(jiān)測膜層厚度，從而控制鍍膜時間和速率，適用于多層膜的制備。3.電子束控制法：通過控制電子束的功率和掃描速度來控制膜層的厚度，適用于高精度、高質量的膜層制備。4.磁控濺射控制法：通過控制磁場和濺射功率來控制膜層的厚度，適用于制備金屬、合金等材料的膜層。以上方法可以單獨或結合使用，根據不同的材料和工藝要求選擇合適的控制方法。江蘇光學真空鍍膜機廠商