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1. 高效節(jié)能！新一代真空鍍膜設(shè)備助力工業(yè)升級(jí) 2.創(chuàng)新科技！真空鍍膜設(shè)備打造超硬防護(hù)膜 3.環(huán)保無(wú)污染！真空鍍膜設(shè)備助您輕松邁向綠色生產(chǎn) 4.***精密！真空鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)微米級(jí)涂層控制 5.輕松應(yīng)對(duì)高溫！真空鍍膜設(shè)備提供耐熱涂層解決方案 6.美輪美奐！真空鍍膜設(shè)備助您創(chuàng)造獨(dú)特的表面效果 7.拒絕腐蝕！真空鍍膜設(shè)備打造抗酸堿涂層 8.高穩(wěn)定性！真空鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)持久涂層保護(hù) 9.多功能應(yīng)用！真空鍍膜設(shè)備適用于金屬、玻璃等多種材料 10.***保證！真空鍍膜設(shè)備助您打造精細(xì)工藝產(chǎn)品

所述頂蓋遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)；所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)，所述靜觸點(diǎn)位于所述寶來(lái)利真空凹槽與所述抽氣管之間；所述動(dòng)觸點(diǎn)與外部電源電性連接；所述靜觸點(diǎn)與氣缸電性連接。進(jìn)一步地，所述鍍膜機(jī)靠近所述出氣管的側(cè)壁上設(shè)有開(kāi)關(guān)及換向器；所述開(kāi)關(guān)分別與所述換向器及所述真空泵電性連接；所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進(jìn)一步地，所述頂蓋側(cè)壁上設(shè)有凹孔。本實(shí)用新型的有益效果在于：通過(guò)設(shè)置電磁鐵與磁片，在進(jìn)行鍍膜機(jī)內(nèi)真空抽氣時(shí)，按下開(kāi)關(guān)，電磁鐵通電產(chǎn)生與磁鐵相同的磁極，利用磁鐵的原理，配合負(fù)壓的作用，打開(kāi)頂蓋，使得氣體從抽氣管排出，隨后反方向按下開(kāi)關(guān)，電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向，磁極改變，與磁片的磁極相反，在彈簧的推動(dòng)下，頂蓋緊緊蓋在出氣管口上，密封性良好，防止鍍膜機(jī)內(nèi)真空環(huán)境發(fā)生變化，保證鍍膜過(guò)程的正常進(jìn)行。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，下面描述中的附圖真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備是本實(shí)用新型的部分實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，檔次高，有需要可以咨詢！

本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：目前，真空設(shè)備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來(lái)利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中，如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來(lái)利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室，傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi)，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染。另外，設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大，容易造成工藝所需原料的浪費(fèi)，同時(shí)，還會(huì)造成工藝反應(yīng)過(guò)程中溫度波動(dòng)大，不可控因素較多，從而影響工藝過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的寶來(lái)利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問(wèn)題。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，工藝品質(zhì)好，有需要可以咨詢！上海車載監(jiān)控真空鍍膜機(jī)設(shè)備廠家

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本實(shí)用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：真空鍍膜機(jī)要求在真空環(huán)境下進(jìn)行鍍膜，在鍍膜室進(jìn)行蒸鍍后，鍍膜室中殘留的部分未蒸餾到薄膜上的蒸汽遇冷會(huì)形成粉塵，而粉塵在別真空泵抽走后，會(huì)堵塞真空泵，影響真空泵的使用以及容易損壞真空泵?，F(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)，在除粉塵時(shí)，多利用負(fù)壓作用將出氣口上的頂蓋打開(kāi)，并利用彈簧的彈力蓋緊頂蓋，但在打開(kāi)時(shí)需要較大的壓力才能頂出頂蓋，而真空鍍膜設(shè)備通過(guò)彈簧蓋緊頂蓋，容易出現(xiàn)蓋不緊的情況，導(dǎo)致鍍膜機(jī)內(nèi)真空度不夠，影響鍍膜的過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種密封性良好且能夠除塵的真空鍍膜設(shè)備。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：提供一種真空鍍膜設(shè)備，包括鍍膜機(jī)；所述鍍膜機(jī)底部設(shè)有出氣管；所述出氣管上設(shè)有寶來(lái)利真空連接套；所述寶來(lái)利真空連接套上設(shè)有第二連接套；所述第二連接套中設(shè)有頂蓋，所述頂蓋與所述寶來(lái)利真空連接套之間通過(guò)磁吸連接；所述第二連接套遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有抽氣管；所述抽氣管遠(yuǎn)離所述第二連接套一側(cè)設(shè)有真空泵；所述抽氣管內(nèi)靠近所述真空泵一側(cè)設(shè)有寶來(lái)利真空過(guò)濾網(wǎng)。上海車載監(jiān)控真空鍍膜機(jī)設(shè)備廠家