以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔；所述內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經(jīng)所述自動門進入所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁；所述內(nèi)反應(yīng)腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設(shè)置的第二側(cè)壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設(shè)置，所述寶來利真空側(cè)壁與所述第二側(cè)壁相互分離設(shè)置；所述寶來利真空側(cè)壁與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側(cè)壁與所述密封蓋板相互分離設(shè)置。進一步地，所述自動門設(shè)置于所述第二側(cè)壁上，所述外腔體內(nèi)設(shè)有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經(jīng)所述自動門傳遞至所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進一步地，所述第二底板和/或所述第二側(cè)壁上設(shè)有用于對所述內(nèi)反應(yīng)腔進行控溫的溫控裝置。進一步地，所述溫控裝置包括溫控管，所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地，所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地，所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管；所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地，所述溫控管纏繞于所述第二側(cè)壁的外部，且所述溫控管鋪設(shè)于所述第二底板的底部。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備，請選丹陽市寶來利真空機電有限公司，可鍍玫瑰金，有需要來咨詢！江蘇汽車零部件真空鍍膜設(shè)備廠家直銷

所描述的實施例寶來利寶來利是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-5，本實用新型提供一種技術(shù)方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備，包括腔體1、基板2和坩堝3，腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器，坩堝3放置在加熱板14的頂部，腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機21，并且抽風(fēng)機21進風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22，風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機16，電機16通過導(dǎo)線與控制開關(guān)及外部電源連接，并且電機16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17，雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊18，兩個活動塊18的底部均固定連接有限位板19，兩個限位板19相對的一側(cè)均開設(shè)有與基板2相適配的限位槽，并且兩個活動塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動連接，雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過軸承轉(zhuǎn)動連接，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 上海護目鏡真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，鎳鉻，有需要可以咨詢！

在進一步的實施例中，結(jié)合圖1可得，沉降組件包括沉降管51、擠壓管52、氣缸53及水箱55；沉降管51安裝在抽氣管3上；擠壓管52安裝在沉降管51遠(yuǎn)離真空泵4的側(cè)壁上、且擠壓管52與沉降管51之間連通；水箱55安裝在真空泵4與擠壓管52中間、且水箱55與擠壓管52之間連通；氣缸53安裝在擠壓管52遠(yuǎn)離沉降管51一側(cè)；擠壓管52內(nèi)設(shè)有活塞54；氣缸53的伸縮軸穿過擠壓管52并與活塞54連接；通過擠壓活塞54，對擠壓管52內(nèi)的水?dāng)D壓，使其噴出到沉降管51中，沉降粉塵。在進一步的實施例中，結(jié)合圖1和圖3可得，沉降管51遠(yuǎn)離擠壓管52一側(cè)設(shè)有出水口；出水口上設(shè)有塞蓋511；擠壓管52靠近沉降管51處設(shè)有第二過濾網(wǎng)521；當(dāng)沉降管51內(nèi)水過多時，打開塞蓋511排出廢水及粉塵，第二過濾網(wǎng)521用于防止粉塵進行擠壓管52中污染水源。在進一步的實施例中，結(jié)合圖2所示，頂蓋22側(cè)壁設(shè)有寶來利真空凸塊221；第二連接套2內(nèi)側(cè)壁靠近頂蓋22處設(shè)有寶來利真空凹槽21；寶來利真空凸塊221嵌于寶來利真空凹槽21中；頂蓋22遠(yuǎn)離鍍膜機1一側(cè)與寶來利真空凹槽21靠近抽氣管3一側(cè)通過彈簧連接；寶來利真空凸塊221與寶來利真空凹槽21配合用于對頂蓋22的移動方向進行限位，保證其準(zhǔn)確的蓋在出氣管11口上。在進一步的實施例中。

所述抽氣管遠(yuǎn)離所述鍍膜機一側(cè)設(shè)有沉降組件。進一步地，所述寶來利真空連接套遠(yuǎn)離所述鍍膜機一側(cè)設(shè)有寶來利真空安裝位；所述寶來利真空安裝位位于所述出氣管兩側(cè)；所述寶來利真空安裝位內(nèi)固定有電磁鐵；所述頂蓋靠近所述鍍膜機一側(cè)設(shè)有第二安裝位；所述第二安裝位與所述寶來利真空安裝位位置相對應(yīng)；所述第二安裝位內(nèi)固定有磁片。進一步地，所述沉降組件包括沉降管、擠壓管、氣缸及水箱；所述沉降管安裝在所述抽氣管上；所述擠壓管安裝在所述沉降管遠(yuǎn)離所述真空泵的側(cè)壁上、且所述擠壓管與所述沉降管之間連通；所述水箱安裝在所述真空泵與所述擠壓管中間、且所述水箱與所述擠壓管之間連通；所述氣缸安裝在所述擠壓管遠(yuǎn)離所述沉降管一側(cè)；所述擠壓管內(nèi)設(shè)有活塞；所述氣缸的伸縮軸穿過所述擠壓管并與所述活塞連接。進一步地，所述沉降管遠(yuǎn)離所述擠壓管一側(cè)設(shè)有出水口；所述出水口上設(shè)有塞蓋；所述擠壓管靠近所述沉降管處設(shè)有第二過濾網(wǎng)。進一步地，所述頂蓋側(cè)壁設(shè)有寶來利真空凸塊；所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁靠近所述頂蓋處設(shè)有寶來利真空凹槽；所述寶來利真空凸塊嵌于寶來利真空凹槽中；所述頂蓋遠(yuǎn)離所述鍍膜機一側(cè)與所述寶來利真空凹槽靠近抽氣管一側(cè)通過彈簧連接。進一步地。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，鐘表鍍膜，有需要可以咨詢！

真空鍍膜設(shè)備在操作過程中，膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當(dāng)、磁場設(shè)計不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內(nèi)容如下：距離問題：靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化，會影響濺射的均勻性。磁場設(shè)計問題：磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場的設(shè)計，如果磁場分布和強度不均，則會導(dǎo)致膜層均勻度不佳。氣體引入問題：如乙炔在反應(yīng)濺射過程中引入不均，也會導(dǎo)致沉積膜層的質(zhì)量在基片上存在差異。為了解決這些問題，可以考慮以下方案：調(diào)整靶材與基片間的距離：確保兩者間距離適宜，以便改善濺射的均勻性。優(yōu)化磁場設(shè)計：通過改善和優(yōu)化磁場的分布及強度，提高靶材表面離子轟擊的均勻性，進而提升膜層均勻度。旋轉(zhuǎn)基片或靶材：在濺射過程中，改變它們的相對位置和角度，使得材料能夠更均勻地分布在基片上。寶來利監(jiān)控探頭真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來咨詢！上海護目鏡真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

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