所描述的實(shí)施例寶來(lái)利寶來(lái)利是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-5，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備，包括腔體1、基板2和坩堝3，腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器，坩堝3放置在加熱板14的頂部，腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機(jī)21，并且抽風(fēng)機(jī)21進(jìn)風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22，風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機(jī)21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī)16，電機(jī)16通過(guò)導(dǎo)線與控制開(kāi)關(guān)及外部電源連接，并且電機(jī)16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17，雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊18，兩個(gè)活動(dòng)塊18的底部均固定連接有限位板19，兩個(gè)限位板19相對(duì)的一側(cè)均開(kāi)設(shè)有與基板2相適配的限位槽，并且兩個(gè)活動(dòng)塊18的頂部均通過(guò)第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動(dòng)連接，雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機(jī)16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，檔次高，有需要可以咨詢！上海增加硬度真空鍍膜機(jī)廠家

對(duì)膜層質(zhì)量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如“寶來(lái)利真空”和“第二”等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開(kāi)來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不真空鍍膜設(shè)備包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。以上所述真空鍍膜設(shè)備是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解或?qū)崿F(xiàn)本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所實(shí)用新型的原理和新穎特點(diǎn)相一致的真空鍍膜設(shè)備寬的范圍。上海增加硬度真空鍍膜機(jī)廠家寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，膜層完美細(xì)膩，有需要可以咨詢！

以專門(mén)作為工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20。寶來(lái)利真空底板11、寶來(lái)利真空側(cè)壁12、第二底板21和第二側(cè)壁22均可由金屬材料組成，其中，第二底板21和第二側(cè)壁22則優(yōu)先選用熱傳導(dǎo)效果較好的金屬材料組成，例如可選不銹鋼或鋁合金等材料。除上述結(jié)構(gòu)形式外，外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20還可以共用一個(gè)底板，真空鍍膜設(shè)備用一圈隔離板對(duì)外腔體10進(jìn)行分割即可。但為了將內(nèi)反應(yīng)腔20的空間盡可能地縮小到所需范圍，且真空鍍膜設(shè)備大限度地降低非必要的空間，該實(shí)施方式中設(shè)置了寶來(lái)利真空底板11和第二底板21相互分離的設(shè)置結(jié)構(gòu)，以在垂直方向上縮小內(nèi)反應(yīng)腔20的空間。其中，寶來(lái)利真空底板11、寶來(lái)利真空側(cè)壁12和密封蓋板30三者相互密閉連接共同構(gòu)成了與外部大氣隔離的具有封閉結(jié)構(gòu)的外腔體10。而內(nèi)反應(yīng)腔20則位于該外腔體10之內(nèi)，但是第二側(cè)壁22與密封蓋板30之間并未形成封閉式接觸，兩者之間屬于分離式設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)也就使得外腔體10與內(nèi)反應(yīng)腔20之間在仍屬于相互連通的結(jié)構(gòu)構(gòu)造，用該結(jié)構(gòu)可以將真空設(shè)備中的部分構(gòu)件分離，將工藝過(guò)程中非必要的機(jī)械結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于外腔體10中，而與工藝反應(yīng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中。在工藝反應(yīng)過(guò)程中，由于工藝反應(yīng)區(qū)的壓力要大于外腔體10中的壓力。

真空鍍膜設(shè)備是一種先進(jìn)的科技設(shè)備，通過(guò)創(chuàng)新技術(shù)可以為產(chǎn)品增添耀眼的光芒。它不僅可以保護(hù)產(chǎn)品并延長(zhǎng)使用壽命，還可以提升生產(chǎn)效率。高效的鍍膜技術(shù)可以呈現(xiàn)出寶來(lái)利真空的質(zhì)感，幫助您在市場(chǎng)上脫穎而出。真空鍍膜設(shè)備具備全自動(dòng)操作功能，操作簡(jiǎn)便，能夠展現(xiàn)品牌價(jià)值，寶來(lái)利行業(yè)潮流。通過(guò)高性能的涂層，可以打造完美的外觀，助力產(chǎn)品升級(jí)。無(wú)論您對(duì)于潤(rùn)色的風(fēng)格有何要求，真空鍍膜設(shè)備都能創(chuàng)造出無(wú)限的可能，讓您領(lǐng)略到寶來(lái)利真空的質(zhì)感和質(zhì)量膜層。寶來(lái)利汽車(chē)格柵真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來(lái)合作！

進(jìn)一步地，所述第二底板內(nèi)和所述第二側(cè)壁內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管的通道，所述溫控管埋設(shè)于所述通道內(nèi)。一種真空鍍膜設(shè)備，包括機(jī)械模塊部件、工藝模塊部件和本實(shí)用新型所述的真空反應(yīng)腔室，所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應(yīng)腔內(nèi)，部分所述機(jī)械模塊部件位于所述外腔體內(nèi)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下***：本實(shí)用新型提供的真空反應(yīng)腔室，包括用于提供真空環(huán)境的外腔體，以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔；并且，內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門(mén)，工件自外腔體經(jīng)自動(dòng)門(mén)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。其中，外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔為嵌套結(jié)構(gòu)，其內(nèi)反應(yīng)腔位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室，其中外腔體用于提供真空環(huán)境，而工藝反應(yīng)則在內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu)，可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔中，而與工藝反應(yīng)無(wú)直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后，位于外腔體中的工件再經(jīng)自動(dòng)門(mén)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行工藝反應(yīng)，可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域，避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室，作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔相對(duì)較小。品質(zhì)真空鍍膜機(jī)，請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司，有需要可以電話聯(lián)系！光伏真空鍍膜機(jī)設(shè)備廠家

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避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室，作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔20相對(duì)較小，因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi)，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。需要說(shuō)明的是，內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔體10內(nèi)，但內(nèi)反應(yīng)腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài)，并非完全隔絕，當(dāng)對(duì)外腔體10進(jìn)行抽真空處理時(shí)，內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)也同時(shí)進(jìn)行抽真空操作。外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20處于相互連通的狀態(tài)，只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個(gè)立體空間以進(jìn)行工藝反應(yīng)。本實(shí)施方式中，參照?qǐng)D2，所述外腔體10包括寶來(lái)利真空底板11和沿所述寶來(lái)利真空底板11周向設(shè)置的寶來(lái)利真空側(cè)壁12；所述內(nèi)反應(yīng)腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設(shè)置的第二側(cè)壁22；所述寶來(lái)利真空底板11與所述第二底板21相互分離設(shè)置，所述寶來(lái)利真空側(cè)壁12與所述第二側(cè)壁22相互分離設(shè)置；寶來(lái)利真空側(cè)壁12與蓋設(shè)于所述寶來(lái)利真空側(cè)壁12上的密封蓋板30密閉連接，所述第二側(cè)壁22與所述密封蓋板30相互分離設(shè)置。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于用第二底板21和第二側(cè)壁22在外腔體10中分割出一個(gè)更小的空間。上海增加硬度真空鍍膜機(jī)廠家