真空鍍膜設備在操作過程中,膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當、磁場設計不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內(nèi)容如下:距離問題:靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化,會影響濺射的均勻性。磁場設計問題:磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場的設計,如果磁場分布和強度不均,則會導致膜層均勻度不佳。氣體引入問題:如乙炔在反應濺射過程中引入不均,也會導致沉積膜層的質(zhì)量在基片上存在差異。為了解決這些問題,可以考慮以下方案:調(diào)整靶材與基片間的距離:確保兩者間距離適宜,以便改善濺射的均勻性。優(yōu)化磁場設計:通過改善和優(yōu)化磁場的分布及強度,提高靶材表面離子轟擊的均勻性,進而提升膜層均勻度。旋轉基片或靶材:在濺射過程中,改變它們的相對位置和角度,使得材料能夠更均勻地分布在基片上。寶來利齒輪真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細膩有光澤,有需要可以來咨詢!金屬涂層真空鍍膜機廠家
這樣就可以及時打開密封門,將基板取出準備下一次鍍膜,能夠有效防止鍍膜材料噴濺,且省去坩堝降溫的時間,提高了工作效率。(2)、該高分子等離子表面真空鍍膜設備,通過腔體左側的頂部固定連接有電機,并且電機輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿,雙向螺紋桿表面的兩側且位于腔體的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊,兩個活動塊的底部均固定連接有限位板,電機工作能夠調(diào)整兩個限位板之間的距離,使限位板能夠固定不同大小的基板,擴大了適用范圍,適用性更強,提高了實用性。附圖說明圖1為本實用新型結構的立體圖;圖2為本實用新型結構的剖視圖;圖3為本實用新型圖2中a處的局部放大圖;圖4為本實用新型寶來利真空密封蓋結構的立體圖;圖5為本實用新型第二密封蓋結構的立體圖。圖中:1腔體、2基板、3坩堝、4支撐腿、5密封門、6支撐板、7防護框、8寶來利真空滑軌、9活動板、10寶來利真空伸縮桿、11第二伸縮桿、12寶來利真空密封蓋、13第二密封蓋、14加熱板、15降溫板、16電機、17雙向螺紋桿、18活動塊、19限位板、20第二滑軌、21抽風機、22風管。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然。浙江半透真空鍍膜機制造商寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鐘表鍍膜,有需要可以咨詢!
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還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖:圖1為本實施例中一種真空鍍膜設備的主視示意圖;圖2為本實施例中圖1中a處的放大示意圖;圖3為本實施例中圖1中b處的放大示意圖;圖4為本實施例中頂蓋的結構示意圖。具體實施方式為了使本實用新型實施例的目的、技術方案和***更加清楚,下面將結合本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述,顯然,所描述的實施例是本實用新型的部分實施例,而不是全部實施例?;诒緦嵱眯滦偷膶嵤├?,本領域普通技術人員在沒有付出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型的保護范圍。本實用新型較佳實施例的如圖1和圖2所示,構造一種真空鍍膜設備,包括鍍膜機1;鍍膜機1底部設有出氣管11;出氣管11上設有寶來利真空連接套12;寶來利真空連接套12上設有第二連接套2;第二連接套2中設有頂蓋22,頂蓋22與寶來利真空連接套12之間通過磁吸連接;第二連接套2遠離鍍膜機1一側設有抽氣管3;抽氣管3遠離第二連接套2一側設有真空泵4;抽氣管3內(nèi)靠近真空泵4一側設有寶來利真空過濾網(wǎng)41;抽氣管3遠離鍍膜機1一側設有沉降組件;在抽真空時,按下開關13,啟動真空泵4,電磁鐵122通電產(chǎn)生與磁片223相同的磁性,利用磁鐵的原理。寶來利模具超硬真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細膩有光澤,有需要可以來咨詢!
以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進行工藝反應的內(nèi)反應腔;所述內(nèi)反應腔的側壁上設有自動門,所述自動門連接自動門控制器,工件自所述外腔體經(jīng)所述自動門進入所述內(nèi)反應腔中。進一步地,所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁;所述內(nèi)反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁;所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置,所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置;所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接,所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地,所述自動門設置于所述第二側壁上,所述外腔體內(nèi)設有傳送裝置,所述工件自所述傳送裝置經(jīng)所述自動門傳遞至所述內(nèi)反應腔中。進一步地,所述第二底板和/或所述第二側壁上設有用于對所述內(nèi)反應腔進行控溫的溫控裝置。進一步地,所述溫控裝置包括溫控管,所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地,所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地,所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管;所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地,所述溫控管纏繞于所述第二側壁的外部,且所述溫控管鋪設于所述第二底板的底部。寶來利中頻熱蒸發(fā)鍍膜設備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細膩有光澤,有需要可以來咨詢!江蘇1500真空鍍膜機供應
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