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優(yōu)化鍍膜過程的溫度、壓力和時間控制：溫度對于材料的蒸發(fā)率和沉積速率有明顯影響，精確的溫度控制可以優(yōu)化膜層的均勻性和附著力。在真空環(huán)境中，控制適當(dāng)?shù)膲毫κ谴_保蒸發(fā)材料以適當(dāng)速率沉積的關(guān)鍵。改進(jìn)真空真空鍍膜機的鍍膜速度：可以通過提高真空度、使用高功率蒸發(fā)源、優(yōu)化蒸發(fā)工藝、采用多個蒸發(fā)源、使用新型材料和增加基底加熱等方式來提升鍍膜速度。優(yōu)化設(shè)備結(jié)構(gòu)和自動化控制：對真空鍍膜機的結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計，解決影響光學(xué)薄膜質(zhì)量和超多層精密光學(xué)薄膜鍍制的問題，提高薄膜的監(jiān)控精度，實現(xiàn)系統(tǒng)的自動控制，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。江蘇五金真空鍍膜機品牌寶來利3D鏡頭真空鍍膜機性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來咨詢！

本實用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：目前，真空設(shè)備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中，如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個反應(yīng)腔室，傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個反應(yīng)腔室內(nèi)，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染。另外，設(shè)置單個反應(yīng)腔室時，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大，容易造成工藝所需原料的浪費，同時，還會造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動大，不可控因素較多，從而影響工藝過程。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體。

所描述的實施例是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。本實用新型一種實施方式的真空反應(yīng)腔室，其結(jié)構(gòu)如圖1和圖2所示，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體10，以及位于所述外腔體10內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20；所述內(nèi)反應(yīng)腔20的側(cè)壁上設(shè)有自動門23，所述自動門23連接自動門控制器，工件自所述外腔體10經(jīng)所述自動門23進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔20中。本實施方式提供的真空反應(yīng)腔室，外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔20為嵌套結(jié)構(gòu)，其內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于設(shè)置了兩個腔室，其中外腔體10用于隔絕大氣，提供真空環(huán)境，而內(nèi)反應(yīng)腔20中的區(qū)域為工藝反應(yīng)區(qū)，形成相對封閉的工藝環(huán)境，相關(guān)工藝反應(yīng)在內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu)，可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中，而與工藝反應(yīng)無直接關(guān)系的機械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后，位于外腔體10中的工件再經(jīng)自動門23進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行工藝反應(yīng)，可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域。寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，五金制品鍍膜，有需要可以咨詢！

影響工作效率的問題。為實現(xiàn)以上目的，本實用新型通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備，包括腔體、基板和坩堝，所述腔體底部的四角均固定連接有支撐腿，并且腔體的正面轉(zhuǎn)動連接有密封門，所述腔體內(nèi)壁兩側(cè)之間的底部固定連接有支撐板，并且支撐板的頂部固定連接有防護(hù)框，所述防護(hù)框內(nèi)壁的兩側(cè)均固定連接有寶來利真空滑軌，并且兩個寶來利真空滑軌相對的一側(cè)之間滑動連接有活動板，所述腔體內(nèi)壁的底部固定連接有寶來利真空伸縮桿，所述寶來利真空伸縮桿的頂端貫穿支撐板和防護(hù)框并延伸至防護(hù)框的內(nèi)部，所述寶來利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護(hù)框的內(nèi)部與活動板的底部固定連接，所述腔體內(nèi)壁的兩側(cè)均固定連接有第二伸縮桿，所述防護(hù)框頂部的兩側(cè)分別滑動連接有寶來利真空密封蓋和第二密封蓋，并且寶來利真空密封蓋和第二密封蓋相背離的一側(cè)分別與兩個第二伸縮桿的輸出軸固定連接。推薦的，所述活動板的頂部固定連接有加熱板，所述防護(hù)框內(nèi)壁的底部且位于寶來利真空伸縮桿的表面固定連接有降溫板。推薦的，所述腔體左側(cè)的頂部固定連接有電機，并且電機輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿。推薦的。寶來利飛機葉片真空鍍膜機性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來咨詢！汽車零部件真空鍍膜機

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本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法，例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等，真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝，簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜?，F(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備雖然能夠完成鍍膜的工作，但是當(dāng)鍍膜公祖完成后，由于腔體內(nèi)部仍然處于真空狀態(tài)，與外界環(huán)境具有一定的壓強差，若過早打開密封門，坩堝溫度依然很高，鍍膜材料容易發(fā)生噴濺，造成危險，若等坩堝降溫后再打開密封門，會耗費較多的時間，影響工作效率。技術(shù)實現(xiàn)要素：針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備，解決了若過早打開密封門，鍍膜材料容易發(fā)生噴濺，造成危險，若等坩堝降溫后再打開密封門，會耗費較多的時間。汽車車燈真空鍍膜機工廠直銷