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擴散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

來源: 發(fā)布時間:2024-08-11

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時,閘閥打開,允許流體通過;當(dāng)閘板降下時,閘閥關(guān)閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機構(gòu)和設(shè)計來實現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥使用氣動控制操作。擴散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

閘閥

微泰,超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。擴散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥閘閥體內(nèi)設(shè)一個與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板,靠這一閘板的升降來開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。

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微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點:插板閥主滑閥的球機構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證,而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球,與金屬摩擦?xí)r不會損壞,金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生Particle,半永久板簧(SUS鋼板)的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動同步性,采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞N⑻┌雽?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。當(dāng)真空閥打開時,閘門移出流路,使氣體以高電導(dǎo)率通過。

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微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關(guān)閉速度LCD顯示;2,當(dāng)閥門或泵錯誤時,燈點亮:3,自動關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關(guān)位置的信號輸出信號;5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。擴散閘閥HV GATE VALVE

關(guān)閉真空閥涉及將閘門移動穿過流路以形成密封。擴散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 帶步進電機的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機構(gòu)STS304、STS420、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器:步進電機、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護前可用次數(shù):100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽U散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥