微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥，-三重防護(hù)閘閥：屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng)，還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥，屏蔽門閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；三級(jí)預(yù)防閘閥，三重防護(hù)閘閥：產(chǎn)品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥；鋁閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動(dòng)?維護(hù)前可用次數(shù)：10萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。閘閥通過(guò)閥座和閘板接觸進(jìn)行密封，通常密封面會(huì)堆焊金屬材料以增加耐磨性。韓國(guó)技術(shù)閘閥Global Foundries

微泰，控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì)：不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用：需要壓力控制和隔離的地方。控制系統(tǒng)閘閥規(guī)格如下：法蘭尺寸（ID）：1.5英寸~ 10英寸、材料：閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù)：100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置：任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。PVD閘閥楔式閘閥精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過(guò)閘板的升降來(lái)控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時(shí)，閘閥打開(kāi)，允許流體通過(guò)；當(dāng)閘板降下時(shí)，閘閥關(guān)閉，阻止流體通過(guò)。在具體工作中，它利用各種機(jī)構(gòu)和設(shè)計(jì)來(lái)實(shí)現(xiàn)精確的控制和可靠的密封，以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對(duì)工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：插板閥主滑閥的球機(jī)構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗(yàn)證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)無(wú)顆粒-已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞，金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動(dòng)同步性，采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。真空閘閥通過(guò)使用滑動(dòng)閘門機(jī)構(gòu)來(lái)控制氣體的通過(guò)。

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開(kāi)和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點(diǎn)是閘門在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，包括一個(gè)LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營(yíng)地結(jié)構(gòu)，保證了高耐用性和長(zhǎng)壽命，同時(shí)提供穩(wěn)定和精確的運(yùn)動(dòng)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開(kāi)啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外，即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開(kāi)發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。高壓閘閥，屬于強(qiáng)制密封式閥門，所以在閥門關(guān)閉時(shí)，必須向閘板施加壓力，以強(qiáng)制密封面不泄漏。韓國(guó)進(jìn)口閘閥手動(dòng)閥

微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用。韓國(guó)技術(shù)閘閥Global Foundries

微泰，傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工，半導(dǎo)體加工，可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離，傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION)、右動(dòng)轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式：焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、開(kāi)啟時(shí)壓差： ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù)： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。韓國(guó)技術(shù)閘閥Global Foundries