微泰轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的轉移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉移閥。I型轉移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構，保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。L型轉移閥的特點是閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，確保完美的腔室壓力維護。它的內部機構，包括一個LM導向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營地結構，保證了高耐用性和長壽命，同時提供穩(wěn)定和精確的運動。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長的使用壽命。此外，即使長時間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。真空閘閥對于隔離不同的真空室、控制工藝過程中的氣流以及在不影響真空環(huán)境的情況下促進維護或維修很重要。隔離閘閥I型轉移閥

微泰，蝶閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護? 應用：半導體和工業(yè)過程的壓力控制。蝶閥規(guī)格如下：法蘭尺寸(內徑)：DN40、DN50、饋通：旋轉饋通、閥門密封：FKM（VITON）、執(zhí)行器：步進電機、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差：≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：閥體STS304/機制STS304、安裝位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽HV閘閥法蘭閘閥真空閘閥的密封裝置確保關閉時的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內的真空壓力。

半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰?？刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。

微泰，專門用閘閥應用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴散）?CVD等設備上?？商娲鶹AT閘閥。期特點是*使用維修配件工具包易于維護*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體業(yè)績。

正確安裝、定期維護以及遵守制造商指南對于這些閥門的性能發(fā)揮和使用壽命至關重要。

微泰，多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥其特點是?操作模式：本地和遠程?緊急情況：自動關閉?慢速泵送功能。多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥規(guī)格如下：材料：閥體 STS304， 機制 STS304、法蘭尺寸(內徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關振動 無振動、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動電導（ISO100）1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置：任意。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。 關閉真空閥涉及將閘門移動穿過流路以形成密封。電動閘閥法蘭閘閥

閘閥流動阻力小。閥體內部介質通道是直通的，介質成直線流動，流動阻力小。隔離閘閥I型轉移閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構，通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。隔離閘閥I型轉移閥