X射線反射率測定引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一種表面表征技術(shù)，是利用X射線在不同物質(zhì)表面或界面的反射線之間的干涉現(xiàn)象分析薄膜或多層膜結(jié)構(gòu)的工具。通過分析XRR圖譜(圖1)可以確定各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)。XRR的特點(diǎn)：1無損檢測2對(duì)樣品的結(jié)晶狀態(tài)沒有要求，不論是單晶膜、多晶膜還是非晶膜均可以進(jìn)行測試3XRR適用于納米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超過5nm5多層膜之間要求有密度差UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測量應(yīng)用和涂層分析，也能測量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。合肥倒易空間檢測分析

波特蘭水泥熟料礦相定量分析引言水泥和熟料的物理化學(xué)性能，比如凝結(jié)性能和強(qiáng)度變化等，不光是由化學(xué)組成所決定的，而主要是由其礦物組成所決定的。傳統(tǒng)的熟料物相分析采用BOGUE計(jì)算方法或熟料顯微鏡分析方法。這些方法的缺點(diǎn)是眾所周知的。目前有效的熟料礦相定量分析方法是XRD與Rietveld分析方法的結(jié)合。可以確定孰料中的C3S、C2S、C3A、C4AF等主要礦相的含量，還可以得到C3S、C2S、C3A等礦相多晶型含量以及游離鈣等微量相的含量。重慶檢測實(shí)驗(yàn)室XRD衍射儀在DIFFRAC.LEPTOS中，對(duì)多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析。

石油和天然氣D2PHASER是一種移動(dòng)式的臺(tái)式X射線衍射儀（XRD），可用于鑒定地質(zhì)樣品中的塊狀和黏土礦物。此外，X射線衍射（XRD）是分析頁巖層所必不可少的技術(shù)，可進(jìn)行礦物學(xué)定性和定量表征。X射線衍射在石化業(yè)：使用D2PHASER識(shí)別膨脹性粘土（PDF）X射線衍射在石化業(yè)：使用D2PHASER對(duì)頁巖層進(jìn)行井場礦物學(xué)分析（PDF）無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。

布魯克獨(dú)有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準(zhǔn)。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動(dòng)同步功能，可為您提供的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時(shí)。除此之外，LYNXEYE全系列探測器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測器，適用于所有波長（從Cr到Ag），具有準(zhǔn)確的計(jì)數(shù)率和角分辨率，是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。涉及高通量篩選（HTS）和大區(qū)域掃描分析時(shí)，D8 DISCOVER是較好解決方案。

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個(gè)樣品的體積，衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度，與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測器完全兼容。合肥薄膜略入射測試檢測分析

定性相分析和定量相分析、結(jié)構(gòu)測定和精修、微應(yīng)變和微晶尺寸分析。合肥倒易空間檢測分析

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距，nm。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距，nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內(nèi)標(biāo)物，加入待測石墨樣品中，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。合肥倒易空間檢測分析