由于具有出色的適應(yīng)能力，*使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不僅如此——布魯克***提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。所有樣品臺都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分，因此元件及其電動驅(qū)動裝置可在安裝時自動完成識別和配置。上海量子阱檢測分析

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進(jìn)行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。合肥D2 PHASER檢測分析該X射線源有6kW的功率，其強度是標(biāo)準(zhǔn)陶瓷射線管5倍，在線焦點和點焦點應(yīng)用中均具有出色的性能。

不論您的預(yù)算如何，D8ADVANCEECO系列都能通過儀器配置為您帶來好的性能。由于降低了對水和電力等資源的需求，其運營成本降低。出色的儀器質(zhì)量為可靠性提供了保證，同時布魯克還為之提供組件質(zhì)量保證。無外部供水成本1kW高效發(fā)生器降低電力成本，無外部冷卻器耗電延長了X射線管的使用壽命X射線管質(zhì)量保證：D8ADVANCEECO可用的所有高亮度X射線源均享有3年保修測角儀質(zhì)量保證：測角儀采用免維護(hù)的堅固設(shè)計，可為您帶來機械強度和較長的使用壽命，因此能夠為您提供好的數(shù)據(jù)質(zhì)量。其中，布魯克提供10年保修。儀器準(zhǔn)直保證探測器質(zhì)量保證

石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點陣參數(shù),石墨化度就愈高?？诎惭b式Eulerian托架可支持多種應(yīng)用，如應(yīng)力、織構(gòu)和外延膜分析，包括在非環(huán)境條件下。

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積，衍射信號弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。D8D對地質(zhì)構(gòu)造研究，借助μXRD，哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測定都不在話下。四川全新XRD衍射儀

在DIFFRAC.LEPTOS中，對多層樣品進(jìn)行XRR分析，測定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。上海量子阱檢測分析

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點技術(shù)的發(fā)展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。上海量子阱檢測分析