當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對(duì)稱性很差時(shí)，如圖2，樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然，也可能是由于非晶碳或無(wú)定形碳的存在。需要對(duì)衍射峰進(jìn)行分峰處理，得到各個(gè)子峰的峰位和積分強(qiáng)度值，如圖2所示。分別計(jì)算各子峰的石墨化度，再利用各子峰的積分強(qiáng)度為權(quán)重，歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實(shí)驗(yàn)（藍(lán)色數(shù)據(jù)點(diǎn)）及分峰擬合圖譜（紅色：擬合圖譜，兩綠色為單峰擬合結(jié)果）石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。支持全新技術(shù)進(jìn)行定制，包括高性能X射線源、定制版光學(xué)器件、定制版樣品臺(tái)和多模式探測(cè)器。杭州失配檢測(cè)分析

制劑中微量API的晶型檢測(cè)引言藥物制劑生產(chǎn)過(guò)程中除需添加各種輔料外，往往還需要經(jīng)過(guò)溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過(guò)程，在此過(guò)程中API的晶型有可能發(fā)生改變，進(jìn)而可能影響到藥物的療效。國(guó)內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制、生產(chǎn)、貯存過(guò)程中必須保證其晶型的一致性，固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應(yīng)該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對(duì)藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾，特別是API含量非常少的制劑樣品，檢測(cè)更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一，配合高性能的先進(jìn)檢測(cè)器，為制劑中微量API的晶型檢測(cè)提供了有利工具。廣東購(gòu)買XRD衍射儀UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測(cè)量應(yīng)用和涂層分析，也能測(cè)量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。

藥物：從藥物發(fā)現(xiàn)到藥物生產(chǎn)，D8D為藥品的整個(gè)生命周期提供支持，其中包括結(jié)構(gòu)測(cè)定、候選材料鑒別、配方定量和非環(huán)境穩(wěn)定性測(cè)試。地質(zhì)學(xué)：D8D是地質(zhì)構(gòu)造研究的理想之選。借助μXRD，哪怕是對(duì)小的包裹體進(jìn)行定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定也不在話下。金屬：在常見(jiàn)的金屬樣品檢測(cè)技術(shù)中。殘余奧氏體、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測(cè)不過(guò)是其中的一小部分，檢測(cè)目的在于確保終產(chǎn)品復(fù)合終用戶的需求。薄膜計(jì)量：從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評(píng)估晶體質(zhì)量、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛的一系列技術(shù)。

D8ADVANCEECO是市面上環(huán)保的X射線衍射儀，其應(yīng)用范圍、數(shù)據(jù)質(zhì)量、靈活性和可升級(jí)性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齊全的D8ADVANCE版本，適用于所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用。與D8ADVANCE完全兼容，它具有面向未來(lái)的所有靈活性。面對(duì)新應(yīng)用，您隨時(shí)都能對(duì)它輕松完成升級(jí)，從而適應(yīng)未來(lái)實(shí)驗(yàn)室可能出現(xiàn)的任何X射線衍射和散射應(yīng)用需求：相鑒定定量相分析微觀結(jié)構(gòu)分析結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修殘余應(yīng)力織構(gòu)掠入射衍射（GID）X射線反射分析（XRR）小角X射線散射（SAXS）對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析D8D在金屬樣品檢測(cè)中，殘余奧氏體、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測(cè)是其中小部分，目的在于確保產(chǎn)品完成復(fù)合用戶需求。

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合，它都是您的可選的探測(cè)器：高的計(jì)數(shù)率、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率，峰位精度布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976c）整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證，面向未來(lái)的多用途采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí)，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)，布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù)，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換，且無(wú)需人工干預(yù)，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內(nèi)的所有類型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。可在數(shù)秒內(nèi)，輕松從先焦點(diǎn)切換到點(diǎn)焦點(diǎn)，從而擴(kuò)大應(yīng)用范圍，同事縮短重新匹配的時(shí)間。珠海全新XRD衍射儀檢測(cè)

MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度，與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。杭州失配檢測(cè)分析

納米多層薄膜物相隨深度變化引言掠入射X射線衍射（GID）是表征薄膜材料的有效手段。通過(guò)控制不同的入射角度，進(jìn)而控制X射線在薄膜中的穿透深度，可以確定薄膜材料的結(jié)構(gòu)隨深度變化的信息。實(shí)例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID測(cè)試由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不只如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。杭州失配檢測(cè)分析