磁控濺射鍍膜是在真空中充入惰性氣體，并在塑料基體和金屬靶之間加上高壓直流電，由輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子擊出，沉積在塑料基體上。由于濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1～2個數(shù)量級，高能量的濺射原子沉積在基體時轉換的能量多，甚至可發(fā)生部分注入現(xiàn)象，同時濺射成膜過程中，基體始終在等離子區(qū)中被清洗，因此濺射鍍膜與塑料表面的附著力要比蒸發(fā)鍍膜好，膜層致密、均勻，如配合適當?shù)墓ぜD動，可在復雜表面上獲得較均勻的鍍層離子鍍膜是蒸發(fā)工藝與濺射技術的結合，它是在鍍膜的同時采用荷能離子轟擊工件表面和膜層，使得鍍膜層和基體結合力好，不易脫落。由于金屬原子的能量低于蒸鍍時的能量，即使是耐熱性較差的塑料，在其表面也可生成穩(wěn)定性良好的金屬薄膜。無錫光潤真空可根據(jù)客戶要求設計各類真空鍍膜機設備。供應真空鍍膜機推薦咨詢

磁控濺射靶是磁控鍍膜的源，必須滿足兩個條件：一是具有正交的電磁場；二是磁場方向應與陰極靶面平行，形成一個封閉的環(huán)形水平磁場。從陰極靶面發(fā)射的電子被加速以獲得陰極暗區(qū)的能量。由于陰極靶表面存在水平磁場，它們不能直接飛到陽極上。相反，在環(huán)形水平磁場形成的等離子體環(huán)中，它們按照近似擺線運動軌跡向前運動，電子運動軌跡加長，從而增加了電子與氣體分子碰撞的概率。電子的每一次碰撞都會損失一些能量，只有通過能量交換，電子才能脫離磁場的束縛。在能量交換之前，電子會飛約100米，碰撞頻率為107次/s，這將提高氣體的電離率和陰極靶所能達到的鳥電流密度，從而獲得較高的濺射速率。品質(zhì)真空鍍膜機批發(fā)無錫真空鍍膜機專業(yè)供應商！

裝飾功能的應用裝飾薄膜的典型應用是金銀絲，利用聚酯薄膜鍍鋁后加工而成的金銀絲已成為紡織品不可缺少的裝飾材料，在日常生活用品、手工藝品、舞臺藝術用品等各方面的應用很受歡迎。另外，裝飾性塑料鍍膜還應用于儀器、機械、汽車、玩具、燈具及家用電器等領域，有很高的經(jīng)濟價值及實用性。阻隔功能的應用為了提高商品的流通周期與貨架壽命，商品包裝的作用日益重要，尤其對于食品、藥品、化妝品、洗滌品等保質(zhì)要求較高的商品，采用高阻隔性能包裝材料包裝往往是有效的手段。常用的高阻隔包裝膜通常采用真空蒸鍍或真空濺射的方法在塑料薄膜上鍍一層鋁。

為什么需在真空中鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結果，比如在10圖片托數(shù)量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機械強度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進行，這是因為：（1）．較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。由于氣體分子的熱運動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當?shù)母?可達每秒幾百米)，但是由于它在前進的過程中要與其它分子多次碰撞，一個分子在兩次連續(xù)碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統(tǒng)計平均值就被稱為分子的平均自由程。由于氣體壓強與單位體積的分子數(shù)成正比，因此平均自由程與氣體的壓強亦成正比。在真空淀積薄膜過程中，當?shù)矸e距離大于分子的平均自由程時被稱為低真空淀積，而當?shù)矸e距離小于分子的平均自由程時被稱為高真空淀積。無錫真空鍍膜機報價找哪家？

目前市場上的真空鍍膜設備廠家是非常多的，所以競爭就非常激烈了，消費者在選擇真空鍍膜設備廠家的時候，是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設備廠家的實力。一、經(jīng)驗。真空鍍膜設備維修和很多其他的技能是一樣的，具有豐富的經(jīng)驗才能應對多種狀況的出現(xiàn)，才能保障好結果。二、成功案例。真空鍍膜設備維修案例是直接的實力見證之一，真空鍍膜設備維修要的還是實際的操作，這不僅包括了真空鍍膜設備本身，還包括了像真空鍍膜設備這樣的專業(yè)配置，畢竟配置是真空鍍膜設備維修的重要前提。三、售后服務。售后服務是真空鍍膜設備維修后的一個重要保障之一，完善的售后服務是真空鍍膜設備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個公司很難在每個行業(yè)都具有很高的水平，這也是為什么現(xiàn)在社會的分工越來越細的原因。真空鍍膜機專業(yè)售后服務！制造真空鍍膜機性能

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離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結合。將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95%）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。供應真空鍍膜機推薦咨詢

無錫光潤真空科技有限公司（簡稱“光潤真空”）是從事真空鍍膜設備研發(fā)、設計、銷售、制造、服務于一體的綜合性科技公司。

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