對(duì)膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約~,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。2、光學(xué)鍍膜方法材料(1)氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,用其制光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點(diǎn)。(2)二氧化硅:無色透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高。卷繞鍍膜機(jī)可以根據(jù)不同的需求進(jìn)行調(diào)整和定制。新款卷繞鍍膜機(jī)排名靠前
利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M(jìn)行“閃光蒸發(fā)”。這對(duì)于保證膜的成分,防止膜的分餾或分解也是及其有用的。但是,由于制作大功率連續(xù)式激光器的成本較高,所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制,目前尚不能在工業(yè)中***應(yīng)用。2.濺射鍍膜1842年格羅夫在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象。他是在研究電子管的陰極腐蝕問題時(shí)發(fā)現(xiàn)陰極材料會(huì)遷移到真空管壁上面去的現(xiàn)象。從1870開始,就已經(jīng)將濺射原理應(yīng)用于薄膜的制備,但是,在過去的100多年中濺射工藝的發(fā)展很緩慢。1940年以后,發(fā)現(xiàn)了濺射膜層具有極其優(yōu)良的性能,同時(shí)改善濺射裝置,提高濺射速率的各種新工藝相繼出現(xiàn)并到達(dá)實(shí)用化的程度,這才使濺射技術(shù)迅速的發(fā)展,并在工業(yè)上***的應(yīng)用。所謂“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子(或分子)從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),通常稱為濺射原子。用于轟擊靶的荷能粒子可能是電子,離子或中型粒子,因?yàn)殡x子在電場下易于加速并獲得所需動(dòng)能,因此大多采用離子作為轟擊粒子。該粒子又稱入射離子。由于直接實(shí)現(xiàn)濺射的機(jī)構(gòu)是離子,所以這種鍍膜技術(shù)又稱為離子濺射鍍膜或淀積。濺射鍍膜的方式很多,比較具有代表性的方法有:1)直流二極濺射。構(gòu)造簡單。天津卷繞鍍膜機(jī)歡迎來電卷繞鍍膜機(jī)在使用中有哪些注意事項(xiàng)?
以滿足不同的需要.為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜.隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對(duì)膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展.為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約.(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約.(3)化學(xué)氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過程.(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn).表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn).2、常見的光學(xué)鍍膜材料(1)氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,用其制光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點(diǎn).(2)二氧化硅:無色透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好.純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好。
在大面積基板上可制取均勻薄膜,放電電流隨壓強(qiáng)和電壓的改變而變化;2)三極或四極濺射??蓪?shí)現(xiàn)低氣壓,低電壓濺射,可**控制放電電流和轟擊靶的離子能量??煽刂瓢须娏鳎部蛇M(jìn)行射頻濺射;3)磁控濺射(或高速,低溫濺射)。在與靶表面平行的方向上施加磁場,利用電場與磁場正交的磁控管原理,減少電子對(duì)基板的轟擊,實(shí)現(xiàn)高速低溫濺射;4)對(duì)向靶濺射。兩個(gè)靶對(duì)向放置,在垂直于靶的表面方向加磁場,可以對(duì)磁性材料等進(jìn)行高速低溫濺射;5)射頻濺射。為制取絕緣薄膜,如氧化硅,氧化鋁,玻璃膜等而研制,也可濺射金屬;6)反應(yīng)濺射??芍谱麝帢O物質(zhì)的化合物薄膜,如氮化鈦,碳化硅,氮化鋁,氧化鋁等;7)偏壓濺射。鍍膜過程中同時(shí)***基片上輕質(zhì)量的帶電粒子,從而使基板中不含有不純氣體;8)非對(duì)稱交流濺射。在振幅大的半周期內(nèi)對(duì)靶進(jìn)行濺射,在振幅小的半周期內(nèi)對(duì)基片進(jìn)行離子轟擊,***吸附的氣體,以獲得高純薄膜;9)離子束濺射。在高真空下,利用離子束濺射鍍膜,是非等離子體狀態(tài)下的成膜過程。靶接地電位也可;10)吸氣濺射。利用對(duì)濺射粒子的吸氣作用,除去不純物氣體,能獲得純度高的薄膜。3.離子鍍膜離子鍍膜技術(shù)是美國Sandia公司的。卷繞鍍膜機(jī)可以根據(jù)不同的需求調(diào)整薄膜的厚度和涂層的質(zhì)量。
蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜:用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上?;糜谡龑?duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。卷繞鍍膜機(jī)可以在薄膜上形成不同的涂層,如防水、防油等。通用卷繞鍍膜機(jī)專業(yè)服務(wù)
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無錫光潤真空科技有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、咨詢、規(guī)劃、銷售、服務(wù)于一體的其他型企業(yè)。公司成立于2016-06-17,多年來在真空鍍膜機(jī),鍍膜機(jī),PVD設(shè)備,表面處理設(shè)備行業(yè)形成了成熟、可靠的研發(fā)、生產(chǎn)體系。主要經(jīng)營真空鍍膜機(jī),鍍膜機(jī),PVD設(shè)備,表面處理設(shè)備等產(chǎn)品服務(wù),現(xiàn)在公司擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富的研發(fā)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì),對(duì)于產(chǎn)品研發(fā)和生產(chǎn)要求極為嚴(yán)格,完全按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)和生產(chǎn)。無錫光潤真空科技有限公司每年將部分收入投入到真空鍍膜機(jī),鍍膜機(jī),PVD設(shè)備,表面處理設(shè)備產(chǎn)品開發(fā)工作中,也為公司的技術(shù)創(chuàng)新和人材培養(yǎng)起到了很好的推動(dòng)作用。公司在長期的生產(chǎn)運(yùn)營中形成了一套完善的科技激勵(lì)政策,以激勵(lì)在技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品改進(jìn)等。無錫光潤真空科技有限公司嚴(yán)格規(guī)范真空鍍膜機(jī),鍍膜機(jī),PVD設(shè)備,表面處理設(shè)備產(chǎn)品管理流程,確保公司產(chǎn)品質(zhì)量的可控可靠。公司擁有銷售/售后服務(wù)團(tuán)隊(duì),分工明細(xì),服務(wù)貼心,為廣大用戶提供滿意的服務(wù)。