CVD直接生長(zhǎng)技術(shù)高效碳納米管鎳氫電池的研究采用熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD)，在泡沫鎳表面直接生長(zhǎng)多壁碳納米管(MWNT)，以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體，并使用該基底、通過(guò)大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場(chǎng)仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對(duì)象，利用有限容積法的仿真方法，對(duì)影響基體溫度場(chǎng)的多個(gè)工藝參數(shù)進(jìn)行仿真大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場(chǎng)仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對(duì)象，利用有限容積法的仿真方法，對(duì)影響基體溫度場(chǎng)的多個(gè)工藝參數(shù)進(jìn)行仿真正交電磁場(chǎng)離子源及其在PVD法制備硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用本文介紹幾種不同類型的正交電磁場(chǎng)離子源，并結(jié)合其在不同體系硬質(zhì)涂層沉積過(guò)程中的應(yīng)用，綜述離子源的結(jié)構(gòu)、工作原理;分析其產(chǎn)不同頻率濺射沉積的新型耐磨二硼化釩涂層的結(jié)構(gòu)及性能本文的主要目的就是選擇幾種不同頻率的電源制備VB2涂層，測(cè)試及比較不同頻率下制備出的新型VB2涂層的結(jié)構(gòu)和性能。[真空閥門]長(zhǎng)距離管道有壓自流輸水工程末端閥門的選擇給出的末端閥作為邊界條件的數(shù)學(xué)模型適用于蝶閥、活塞閥等諸多閥型。長(zhǎng)距離管道自流輸水系統(tǒng)的末端閥推薦采用活塞閥。卷繞鍍膜機(jī)在運(yùn)行過(guò)程中需要注意安全。品質(zhì)卷繞鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)

（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響。在當(dāng)前越來(lái)越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下，這點(diǎn)極其可貴。（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問(wèn)題。（5）工藝靈活，改變品種方便?？慑儐蚊妗㈦p面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于控制?？傊?，真空鍍膜機(jī)帶鋼真空鍍膜是一個(gè)集冶金、真空、化學(xué)、物理等學(xué)科于一體的高新技術(shù)，其產(chǎn)品具有高附加值，既有帶鋼的強(qiáng)度和廉價(jià)的特點(diǎn)，又有鍍膜后的多功能，多品種，高質(zhì)量的優(yōu)點(diǎn)，是極具潛力的新型帶鋼材料的研發(fā)方向。浙江卷繞鍍膜機(jī)推薦咨詢卷繞鍍膜機(jī)可以根據(jù)不同的需求進(jìn)行調(diào)整和定制。

Q1:請(qǐng)問(wèn)什么是PVD？A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物***相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。Q2:請(qǐng)問(wèn)什么是PVD鍍膜？什么是PVD鍍膜機(jī)？A2:PVD(物***相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是**快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代**先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。Q3:請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜的具體原理是什么？A3:離子鍍膜（PVD鍍膜）技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。Q4:請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點(diǎn)？A4:PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高。

產(chǎn)品放置２４小時(shí)后拿出，在常溫條件放置２４小時(shí)后觀察外觀并做附著力測(cè)試．測(cè)試工具：高低溫試驗(yàn)箱測(cè)試結(jié)果：涂層表面無(wú)異常，附著力ＯＫ測(cè)試項(xiàng)目九：高溫保存測(cè)試程式；在溫度６６度，９０％ＲＨ的條件下，放置８８小時(shí)，在常溫條件恢復(fù)２４小時(shí)，觀察外觀并做附著力測(cè)試．測(cè)試結(jié)果：涂層外觀無(wú)異常，附著力ＯＫ測(cè)試項(xiàng)目十：冷熱沖擊測(cè)試程式：將產(chǎn)品放在溫度沖擊箱中，先在－２０度的低溫環(huán)境下保存２４小時(shí)，在１分鐘內(nèi)將溫度切換到７０度的高溫環(huán)境并保存２４小時(shí)，接著將溫度下調(diào)到－２０度低溫，保存２４小時(shí)．***在１分鐘內(nèi)將溫度切換到７０度的高溫環(huán)境保存４８小時(shí)，時(shí)間共１２０小時(shí)．將產(chǎn)品常溫環(huán)境放置２４小時(shí)觀察涂層外觀并做附著力測(cè)試測(cè)試工具：高低溫試驗(yàn)箱測(cè)試結(jié)果：涂層外觀無(wú)異常，附著力ＯＫ測(cè)試項(xiàng)目十一：耐鹽霧測(cè)試測(cè)試程式：將產(chǎn)品放入鹽霧試驗(yàn)機(jī)中，NaCl濃度為５％，測(cè)試時(shí)間１６８小時(shí)，將產(chǎn)品常溫環(huán)境放置２４小時(shí)，觀察涂層外觀并做附著力測(cè)試測(cè)試工具：鹽霧機(jī)測(cè)試結(jié)果：涂層外觀無(wú)異常，附著力ＯＫ。說(shuō)明：１.涂層異常指：涂層發(fā)白起霧，受損，起皺等；２.附著力：重復(fù)測(cè)試一程式超級(jí)耐磨面漆：，耐磨耗３５０次（ＭＩＸ）。卷繞鍍膜機(jī)的操作簡(jiǎn)單，非常易于維護(hù)。

卷繞鍍膜機(jī)的主要特點(diǎn)：1、卷饒系統(tǒng)采用高精度支流或交流變頻調(diào)速，具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高、對(duì)原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點(diǎn)；2、張力控制采用進(jìn)口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，動(dòng)作快速的特點(diǎn)；3、各組送絲由微機(jī)電機(jī)控制，可總調(diào)或單獨(dú)調(diào)速，并有速度顯示；4、真空系統(tǒng)配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；5、配備大功率電源，鍍膜效率高，膜層均勻性好。蒸發(fā)、磁控系列卷繞鍍膜設(shè)備主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面鍍制金屬膜。產(chǎn)品用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)和建材行業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運(yùn)行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護(hù)方便。卷繞鍍膜機(jī)在使用中要怎么注意保養(yǎng)？口碑好卷繞鍍膜機(jī)質(zhì)量保障

卷繞鍍膜機(jī)生產(chǎn)廠家哪家比較專業(yè)？品質(zhì)卷繞鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)

是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。離子鍍的英文全稱IonPlating，簡(jiǎn)稱IP。它是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍?cè)诨稀?972年，Banshah提出了在真空放電蒸鍍時(shí)，導(dǎo)入反應(yīng)氣體生成化合物的方法，即（活性反應(yīng)蒸鍍法）（簡(jiǎn)稱ARE法）。與此同時(shí)，在離子鍍時(shí)代替氬氣導(dǎo)入一部分反應(yīng)氣體生成化合物薄膜，形成了反應(yīng)性離子鍍法（簡(jiǎn)稱RIP法）等等。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式，可構(gòu)成不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有：電阻加熱，電子束加熱，等離子電子束加熱，高頻感應(yīng)加熱，陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和***方式有：輝光放電型，電子束型，熱電子型，等離子電子束型，多弧形及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。目前比較常用的組合方式有：1）直流二極型（DCIP）。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將沖入的氣體Ar（也可充少量反應(yīng)氣體）離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升大，繞射性好。品質(zhì)卷繞鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)