調(diào)節(jié)訪問裝置包括調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件。調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和工作mtj器件分別包括垂直布置在底電極通孔和頂電極通孔之間的mtj。在一些實施例中，頂電極通孔可以通過通孔(例如，銅通孔)連接至上面的互連層。在一些實施例中，底電極通孔和頂電極通孔可以包括金屬，諸如氮化鈦(tin)、氮化鉭(tan)、鈦(ti)、鉭(ta)等。在一些實施例中，互連層b從調(diào)節(jié)mtj器件正上方連續(xù)延伸至調(diào)節(jié)mtj器件正上方。調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和工作mtj器件分別包括由介電遂穿阻擋層分隔開的自由層和固定層。自由層具有被配置為響應(yīng)于電信號(例如，電流)而改變的磁矩。固定層具有固定的磁取向，該磁取向被配置為用作參考磁方向和/或減少對自由層的磁沖擊。在一些實施例中，mtj中的一個或多個可以包括附加層。例如，在一些實施例中，mtj中的一個或多個可以包括位于底電極通孔和固定層之間的反鐵磁層。在其它實施例中，mtj中的一個或多個可以包括以各種方式布置的附加固定層(例如，附加固定層、附加固定層等)和/或附加自由層(例如，附加自由層、附加自由層等)以改進mtj的性能。圖b示出了對應(yīng)于圖的存儲器陣列的集成芯片的一些可選實施例的截面圖。集成芯片包括布置在襯底上方的介電結(jié)構(gòu)。集成電路好的供應(yīng)商，認準深圳美信美。廣東通訊集成電路工藝

    字線解碼器和偏置電路可以包括相同的電路元件(即，字線解碼器可以將信號施加至偏置電壓線bvly)。在操作期間，為了訪問工作mtj器件，偏置電路和字線解碼器可以將電壓施加至偏置電壓線bvly和字線wlx，以設(shè)置存儲器陣列的行內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件的值。隨后，位線解碼器可以施加位線電壓，該位線電壓允許訪問多個存儲單元a,至c,中的選擇的存儲單元，而不訪問多個存儲單元a,至c,中的未選擇的存儲單元。例如，為了將數(shù)據(jù)寫入存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件，可以將組偏置電壓施加至字線wl和偏置電壓線bvl。組偏置電壓賦予行內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置低電阻?？梢詫⒔M偏置電壓施加至其它行中的偏置電壓線bvl和字線wl，以賦予其它行內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置高電阻。然后將位線電壓施加至位線bl。存儲單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置的低電阻使得大電流(例如，大于切換電流)流過存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件，同時存儲單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置的高電阻使得小電流(例如，小于切換電流)流過存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件。圖b示出了對應(yīng)于圖a的存儲器電路的集成電路的一些實施例的截面圖。圖a至圖b示出了包括存儲器電路的集成芯片的一些額外實施例，該存儲器電路具有被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問的調(diào)節(jié)訪問裝置。江蘇專業(yè)控制集成電路先進的集成電路是微處理器或多核處理器的關(guān)鍵，可以控制計算機到手機到數(shù)字微波爐的一切。

    可在各個實施例中重復參考標號和/或字符。該重復是為了簡單和清楚的目的，并且其本身不指示所討論的各個實施例和/或配置之間的關(guān)系。而且，為便于描述，在此可以使用諸如“且，為便于描述，在此可以使用諸如個實施例和和布置的具體實例等空間相對術(shù)語，以描述所示的一個元件或部件與另一個(或另一些)原件或部件的關(guān)系。除了圖中所示的方位外，空間相對術(shù)語旨在包括器件在使用或操作中的不同方位。裝置可以以其它方式定向(旋轉(zhuǎn)度或在其它方位上)，而本文使用的空間相對描述符可以同樣地做出相應(yīng)的解釋。磁阻式隨機存取存儲器(mram)單元包括垂直布置在導電電極之間的磁隧道結(jié)(mtj)。mtj包括通過隧穿阻擋層與自由層分隔開的固定層。固定層的磁取向是靜態(tài)的(即，固定的)，而自由層的磁取向能夠在相對于固定層的磁取向的平行配置和反平行配置之間切換。平行配置提供低電阻狀態(tài)，低電阻狀態(tài)數(shù)字化地將數(shù)據(jù)存儲為位值(例如，邏輯“”)。反平行配置提供高電阻狀態(tài)，高電阻狀態(tài)數(shù)字化地將數(shù)據(jù)存儲為位值(例如，邏輯“”)。隨著集成芯片的功能增多。對更多的存儲器的需求也增加，從而使得集成芯片設(shè)計者和制造商必須增加可用存儲器的量，同時減小集成芯片的尺寸和功耗。

    集成電路還包括連接在調(diào)節(jié)mtj器件和工作mtj器件之間的偏置電壓線，偏置電壓線連接至偏置電路，偏置電路被配置為選擇性地將偏置電壓施加至偏置電壓線。在又一些其它實施例中，涉及一種形成集成電路的方法。該方法包括在襯底上方形成互連層；在互連層正上方形成多個mtj器件，多個mtj器件包括工作mtj器件和一個或多個調(diào)節(jié)mtj器件，調(diào)節(jié)mtj器件被配置為選擇性地控制流至工作mtj器件的電流；以及在多個mtj器件上方形成互連層，互連層和互連層中的一個或兩個限定位線和一條或多條字線。在一些實施例中，一個或多個調(diào)節(jié)mtj器件分別包括固定層、自由層和設(shè)置在固定層和自由層之間的介電阻擋層。在一些實施例中，該方法還包括同時形成工作mtj器件和一個或多個調(diào)節(jié)mtj器件。上面概述了若干實施例的特征，使得本領(lǐng)域人員可以更好地理解的方面。本領(lǐng)域人員應(yīng)該理解，它們可以容易地使用作為基礎(chǔ)來設(shè)計或修改用于實施與本文所介紹實施例相同的目的和/或?qū)崿F(xiàn)相同優(yōu)勢的其它工藝和結(jié)構(gòu)。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該意識到。深圳有哪家集成電路現(xiàn)貨商？深圳美信美科技有限公司。

    圖至圖中公開的結(jié)構(gòu)不限于這種方法，而且可以作為于該方法的結(jié)構(gòu)而單獨存在。的截面圖所示，在襯底上方形成互連層a。在一些實施例中，通過在襯底上方形成層間介電(ild)層來形成互連層a。在一些實施例中，ild層可以通過一個或多個附加介電層與襯底分隔開。圖案化ild層以限定溝槽。在一些實施例中，可以通過在ild層上方形成圖案化的掩模層(未示出)并且實施蝕刻工藝來去除ild層的未由圖案化的掩模層覆蓋的各部分來圖案化ild層。在溝槽內(nèi)形成導電材料，以及隨后是平坦化工藝(例如?；瘜W機械平坦化工藝)以形成互連層a。在各個實施例中，襯底可以是任何類型的半導體主體(例如。硅、sige、soi等)，諸如半導體晶圓和/或晶圓上的一個或多個管芯，以及任何與其相關(guān)的其它類型的半導體和/或外延層。在一些實施例中，ild層可以包括一種或多種介電材料，諸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃(例如，硼磷硅酸鹽玻璃)等。在一些實施例中，導電材料可以包括通過沉積工藝(例如，cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金屬(例如，鎢、鋁等)。在各個實施例中，互連層a可以是互連線層、互連層、第三互連線層或更高金屬互連線層。的截面圖所示。而根據(jù)處理信號的不同，可以分為模擬集成電路、數(shù)字集成電路、和兼具模擬與數(shù)字的混合信號集成電路。石家莊通用集成電路工藝

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    在多個底電極通孔正上方形成多個mtj器件。多個mtj器件包括工作mtj器件和一個或多個調(diào)節(jié)mtj器件。出了對應(yīng)于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中，在多個mtj器件正上方形成多個頂電極通孔。出了對應(yīng)于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中，在多個頂電極通孔上方形成具有多個互連結(jié)構(gòu)的互連層。多個互連結(jié)構(gòu)限定位線和一條或多條字線。出了對應(yīng)于步驟的一些實施例的截面圖。步驟至在襯底上方形成存儲單元。在一些實施例中，可以重復步驟至(如步驟所示)以在存儲單元上方形成存儲單元。出了對應(yīng)于步驟的一些實施例的截面圖。雖然方法描述了包括具有調(diào)節(jié)訪問裝置(包括mtj器件)的存儲單元(例如。mram單元)的方法存儲器電路，但是應(yīng)該理解，在其它實施例中，調(diào)節(jié)裝置可以包括電阻器(例如，薄膜電阻器)。在這樣的實施例中，工作mtj器件可以通過組操作(在步驟中)形成，而包括電阻器的調(diào)節(jié)裝置可以通過組單獨的操作(在步驟和步驟之間發(fā)生)形成。例如，在工作mtj的形成(在步驟中)之后，可以通過一個或多個沉積和蝕刻工藝形成電阻器。因此，在一些實施例中。涉及不具有驅(qū)動晶體管(即。存取晶體管)的存儲單元(例如，mram單元)。而且，存儲單元包括調(diào)節(jié)訪問裝置。廣東通訊集成電路工藝