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上海雙列直插型集成電路廠家

來源: 發(fā)布時間:2023-11-06

    圖a至圖b示出了包括存儲器電路的集成芯片的一些額外實施例,該存儲器電路具有被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問的調(diào)節(jié)訪問裝置。圖a示出了具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲器電路的一些額外實施例的示意圖,調(diào)節(jié)訪問裝置包括調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和第三調(diào)節(jié)mtj器件。調(diào)節(jié)mtj器件連接在字線(例如,wl)和偏置電壓線(例如,bvl)之間,調(diào)節(jié)mtj器件連接在字線(例如,wl)和偏置電壓線(例如,bvl)之間,第三調(diào)節(jié)mtj器件連接在偏置電壓線(例如,bvl)和工作mtj器件之間。工作mtj器件連接在第三調(diào)節(jié)mtj器件和位線(例如,bl)之間。包含第三調(diào)節(jié)mtj器件在產(chǎn)生不同的電阻來控制相關的工作mtj器件內(nèi)的電流方面賦予調(diào)節(jié)訪問裝置更大的靈活性。圖b示出了對應于圖a的存儲器電路的集成電路的一些實施例的截面圖。雖然關于具有調(diào)節(jié)mtj器件的調(diào)節(jié)訪問裝置描述了圖至圖b中示出的操作和/或裝置,但是應該理解,公開的存儲單元不限于這樣的實施例。而且,在可選實施例中,圖至圖b的操作和/或裝置可以實施和/或包括具有調(diào)節(jié)薄膜電阻器(例如,包括鉭、氮化鉭、鈦、鎢等)的調(diào)節(jié)訪問裝置。圖至出了形成具有存儲器電路的集成芯片的方法的一些實施例的截面圖至,該存儲器電路包括存儲單元(例如。存儲器和特定應用集成電路是其他集成電路家族的例子,對于現(xiàn)代信息社會非常重要。上海雙列直插型集成電路廠家

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    公司經(jīng)營范圍包括:一般經(jīng)營項目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術開發(fā)與銷售;國內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領域。本公司一直秉承優(yōu)勢服務,誠信合作的原則,以現(xiàn)代化管理以及優(yōu)勢的渠道價格、良好的信譽與廣大客戶建立了長期友好的合作關系,為廣大廠商和市場客戶提供優(yōu)勢的產(chǎn)品服務。的實施例總體涉及半導體領域,更具體地,涉及集成電路及其形成方法。背景技術:許多現(xiàn)代電子器件包含配置為存儲數(shù)據(jù)的電子存儲器。電子存儲器可以是易失性存儲器或非易失性存儲器。易失性存儲器在上電時存儲數(shù)據(jù),而非易失性存儲器能夠在斷開電源時存儲數(shù)據(jù)。磁阻式隨機存取存儲器(mram)是用于下一代非易失性存儲器技術的一種有前景的候選。技術實現(xiàn)要素:根據(jù)的一個方面,提供了一種集成芯片,包括:工作磁隧道結(mtj)器件,連接至位線,其中,所述工作磁隧道結器件被配置為存儲數(shù)據(jù)狀態(tài);以及調(diào)節(jié)訪問裝置,連接在所述工作磁隧道結器件和字線之間,其中。沈陽模擬集成電路工藝德州的集成電路渠道,找什么深圳市美信美科技。

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    本申請涉及一種集成電路封裝結構,尤其是集成電路的小型化與高功率密度化的封裝結構。背景技術:集成電路在滿足摩爾定律的基礎上尺寸越做越小。尺寸越小,技術進步越困難。而設備的智能化,小型化,功率密度的程度越來越高,為解決設備小型化,智能化,超高功率密度這些問題,不但需要提升各種功能的管芯的功能,效率,縮小其面積,體積;還需要在封裝技術層面上完成小型化,集成化,高功率密度化等技術要求,并解決由此帶來的集成電路的散熱問題,生產(chǎn)工藝復雜,生產(chǎn)周期長,生產(chǎn)成本高等問題。現(xiàn)有很多集成電路封裝結構,有沿用常規(guī)的封裝方式,采用框架安裝各種管芯,采用線材鍵合作電氣聯(lián)結,在功率較大時,常常采用較粗的鍵合線和較多的鍵合線。此類封裝方式有比如ipm模組的dip封裝,單顆mosfet的to220封裝等,此類封裝體積通常都比較大,不適宜小型化應用。由于需要多根鍵合線,鍵合工序周期長,成本高,從而導致總體性價比不高。而為了解決高功率密度的問題,qfn封裝方式由于帶有較大散熱片常常在一些要求高功率密度的產(chǎn)品上得到廣泛的應用;在qfn封裝內(nèi)部,鍵合線由金線,銅線,鋁線轉(zhuǎn)向具有大通流能力的鋁片,銅片,并由此減少了接觸電阻,降低了封裝的寄生參數(shù)。

    亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際有名品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領域。使得在所述印刷電路裝配件中的每個印刷電路裝配件上的散熱器的頂表面與另一個印刷電路裝配件上的熱接口材料層接觸,并且與所述熱接口材料層熱耦聯(lián)。圖是移除了雙列直插式存儲模塊組件的印刷電路裝配件的圖。圖6是印刷電路裝配件的圖,包括已安裝在印刷電路板插座中的雙列直插式存儲模塊組件并且包括已附接的分流管。圖a和圖b示出了根據(jù)一個實施例的、特征在于外部鉸鏈的雙列直插式存儲模塊組件。圖a和圖b示出了根據(jù)一個實施例的、特征在于內(nèi)部鉸鏈的雙列直插式存儲模塊組件。圖示出了根據(jù)一個實施例的流程。附圖是非詳盡的,并且不限制本公開至所公開的精確形式。具體實施方式諸如雙列直插式存儲模塊(dimm)的集成電路產(chǎn)生大量的熱量,特別是在高密度配置中。現(xiàn)有許多技術對集成電路進行冷卻,但是存在許多與這些現(xiàn)有技術相關的缺點??諝饫鋮s是嘈雜的,并且因此當靠近辦公室人員/在工作環(huán)境中布置時是不期望的。當需要維護雙列直插式存儲模塊時,液體浸入式冷卻是雜亂的。模擬集成電路有,例如傳感器、電源控制電路和運放,處理模擬信號。

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    下基板2的上層金屬層9、下層金屬層10通孔沉金19、20,用于中間填充層的21,上基板1中間層22、下基板2中間層23。圖2示出依據(jù)本申請一實施例的雙芯片集成電路封裝結構201,包括上基板1、元件3、元件4及下基板2,上基板1上的上層金屬層5、下層金屬層6以及下層金屬層6上的聯(lián)結pad7、8、9、10,下基板2上的上層金屬層11、下層金屬層12以及上層金屬層11上的pad13、14、15、16,下層金屬層12上的聯(lián)結pad17、18、19、20、21、聯(lián)結pad22。上基板1與下基板2聯(lián)結用的沉金23、24,下基板2的上層金屬層11、下層金屬層12通孔沉金25、26、27、28,用于中間填充層的29,上基板1中間層30、下基板2中間層31。以上所述實施例用以說明本申請的技術方案,而非對其限制;盡管參照前述實施例對本申請進行了詳細的說明,本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改,或者對其中部分技術特征進行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應技術方案的本質(zhì)脫離本實用新型各實施例技術方案的精神和范圍,均應包含在本申請的保護范圍之內(nèi)。集成電路廠家就找深圳美信美!沈陽模擬集成電路工藝

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    連接至字線wl和wl的工作mtj器件也不受寫入操作的步驟的影響。b的示意圖所示,通過將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入存儲器陣列的行中的存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件來實施寫入操作的步驟。通過將非零偏置電壓v(例如,v)施加至字線wl和wl,將非零偏置電壓v(例如,v)施加至位線bl和bl并且將第三偏置電壓v(例如,v)施加至位線bl來實施寫入操作的步驟。非零偏置電壓v(例如,v)和第三偏置電壓v(例如,v)之間的差異使得電流i流過存儲單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件。電流i小于切換電流isw,使得存儲單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件的狀態(tài)不變。然而,電流i(其流過存儲單元a。內(nèi)的工作mtj器件)的兩倍大于切換電流isw,以將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件。存儲單元a,和第三存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件不受寫入操作的步驟的影響,因為非零偏置電壓v(例如,v)和非零偏置電壓v。例如,v)之間的差異使得小于切換電流的電流i流過存儲單元a,和第三存儲單元a。內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件。然而,電流i的兩倍小于切換電流isw,使得沒有將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入至存儲單元a,和第三存儲單元a,內(nèi)的工作mtj器件。圖c示出了示出從工作mtj器件讀取數(shù)據(jù)狀態(tài)的讀取操作的示意圖的一些實施例。如示意圖所示,通過將非零偏置電壓v(例如。上海雙列直插型集成電路廠家