EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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4、西門子（IONPURE）EDI模塊，降低運行成本。EDI設(shè)備運行只需要消耗電力，而混床技術(shù)還需要酸堿。所以DEI超純水設(shè)備節(jié)約酸堿降低了運行的成本。

  5、西門子（IONPURE）EDI模塊，操作更加的簡單，只需要調(diào)節(jié)電源的電壓、電流、實現(xiàn)了全自動的控制。

  6、西門子（IONPURE）EDI模塊，出水水質(zhì)好，并且延長了設(shè)備的使用壽命。

  7、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備占地小，廠房高度要求低，3米足夠。

  8、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備安裝維修簡單便捷，任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運行。

  9、西門子（IONPURE）EDI模塊，總投資少，EDI雖然本身價位高，但是節(jié)省了廠房用地成本，節(jié)省了運行成本?？傮w降低了總投資費用。 正規(guī)美國IONPURE EDI模塊美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎咨詢。

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設(shè)備的進水指標：

     ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水；

     ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm；

     ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm；

     ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0；      

     ◎溫度： 5～35℃；

      ◎進水壓力：<4bar（60psi）；

     ◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm；

     ◎有機物（ TOC）：<0.5ppm；

      ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm；

      ◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。；

      ◎H2S：<0.01ppm；

     ◎二氧化硅：<0.5ppm；

     ◎色度：<5APHA；

     ◎二氧化碳的總量：<10ppm；

     ◎ SDI 15min：<1.0。

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。

(6) 西門子EDI模塊，進水中CO2的影響。

     進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7) 西門子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會降西門子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門子EDI模塊運行電流，而過高的運行電流會導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對極膜壽命不利。

另外，進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對西門子EDI模塊系統(tǒng)運行有影響。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊的凈水基本過程

  ·連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定

  ·容易實現(xiàn)全自動控制

  ·無須用酸堿再生

  ·不會因再生而停機

  ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施

  ·產(chǎn)水率高(可達95%)

  ·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設(shè)施

  ·占地面積小

  ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿

  ·降低運行及維護成本

  ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施

  ·安裝簡單、費用低廉

  ·設(shè)備初投資大 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保值得信賴。正規(guī)美國IONPURE EDI模塊

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安全

1)避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì)，過氧化氫是氧化劑。

2)將整個管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。

3) EDI系統(tǒng)在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電并鎖定。

清洗化學(xué)品規(guī)范

  所有化學(xué)品應(yīng)必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:ACS級,或達到水系統(tǒng)清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)ACS或技術(shù)級氫氧化鈉(NaOH):球狀, NF, ACS或凈化級; 或50%w/w 溶液。 正規(guī)美國IONPURE EDI模塊

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