美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點：

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

  2、膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

  3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

  4、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

  6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件；

  7、出廠比較高試壓7bar不漏水；

  8、電阻低、功耗?。?

  9、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實；

  10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保誠信為本。廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

(1)進水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 山東原裝美國IONPURE EDI模塊種類美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎咨詢。

(3) 西門子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4) 西門子EDI模塊，硬度的影響。

     如果西門子EDI模塊中進水的殘存硬度太高，會導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時會堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設(shè)備的進水指標(biāo)：

     ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水；

     ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm；

     ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm；

     ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0；      

     ◎溫度： 5～35℃；

      ◎進水壓力：<4bar（60psi）；

     ◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm；

     ◎有機物（ TOC）：<0.5ppm；

      ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm；

      ◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。；

      ◎H2S：<0.01ppm；

     ◎二氧化硅：<0.5ppm；

     ◎色度：<5APHA；

     ◎二氧化碳的總量：<10ppm；

     ◎ SDI 15min：<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。

西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。廣東廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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